單槍多靶材的濺鍍裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種單槍多靶材的濺鍍裝置，包含：一濺射腔，為腔體結(jié)構(gòu)，該濺射腔為一可達(dá)到高真空的腔體；一標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤，包含一盤體位在該濺射腔之內(nèi)，該盤體上包含至少兩穿孔，用于安置濺射所需要的靶材；一被鍍物，安裝在該濺射腔的一側(cè)，而且對(duì)齊該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤中的一靶材；當(dāng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，該被鍍物也跟著對(duì)齊該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤中不同的靶材；當(dāng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤上的靶材受驅(qū)動(dòng)后，急速濺射向該被鍍物，而在該被鍍物上形成一層膜，即所謂的濺鍍膜；一濺鍍槍，其投射端對(duì)齊該被鍍物，在安裝態(tài)時(shí)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤位于該被鍍物及濺鍍槍之間；該濺鍍槍將會(huì)產(chǎn)生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅(qū)動(dòng)靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上。
【專利說(shuō)明】單槍多靶材的濺鍍裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型是有關(guān)于一種濺鍍裝置，尤其是一種單槍多靶材的濺鍍裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]請(qǐng)參考圖1，現(xiàn)有技術(shù)中的濺射腔I’，如欲同時(shí)在一被鍍物上濺鍍數(shù)種靶材，則必須有數(shù)個(gè)濺鍍槍4’，各濺鍍槍的前端安裝有靶材，該濺鍍槍將會(huì)產(chǎn)生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅(qū)動(dòng)靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物3’上。該濺鍍槍的投射端是在該濺射腔內(nèi)，而另一端則延伸到該濺射腔I’外，以使得操作人員可以進(jìn)行所需要的操作。另外設(shè)有一轉(zhuǎn)盤2’，為一盤體2’位于該濺射腔I’之內(nèi)，該盤體可乘載一被鍍物3’，該轉(zhuǎn)盤2’尚包含驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，該驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)包含:一轉(zhuǎn)動(dòng)軸，該轉(zhuǎn)動(dòng)軸的一端固定在該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，并連接一驅(qū)動(dòng)器(也位于該濺射腔外)，該驅(qū)動(dòng)器可以進(jìn)行徑向轉(zhuǎn)動(dòng)而使得該轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)。
[0003]在濺鍍時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)盤，使得濺鍍槍的靶材對(duì)齊轉(zhuǎn)盤上的被鍍物，然后濺鍍槍應(yīng)用高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅(qū)動(dòng)靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上。當(dāng)完成一種靶材的濺鍍后，再旋轉(zhuǎn)該轉(zhuǎn)盤使得該被鍍物對(duì)齊到另一濺鍍槍，進(jìn)行同一動(dòng)作。使一操作反復(fù)進(jìn)行直到得到所需要的濺鍍結(jié)果。
[0004]在上述的現(xiàn)有技術(shù)中，一濺鍍槍只對(duì)齊一靶材，因此若要濺鍍兩種靶材則需要兩只濺鍍槍，以此類推，若需要多種靶材，就需要多把濺鍍槍，且濺射腔需要較大的空間，所以成本較高。另外操作時(shí)，必須反復(fù)打開(kāi)該濺射腔，破壞其真空度，再建立真空，整體操作時(shí)間拉長(zhǎng)，而且此一過(guò)程又會(huì)造成對(duì)被鍍物鍍膜的損害，而影響整個(gè)濺鍍品質(zhì)。因此若能提出一種能夠簡(jiǎn)省成本及空間的濺射程序，必能帶來(lái)更高的經(jīng)濟(jì)效益，且增進(jìn)濺鍍的品質(zhì)。
[0005]因此本實(shí)用新型的發(fā)明人鑒于對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的了解，所以希望能提出一嶄新的結(jié)構(gòu)，因此構(gòu)思具新穎性的本實(shí)用新型以解決上述現(xiàn)有技術(shù)中的缺點(diǎn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0006]所以本實(shí)用新型的目的是為解決上述現(xiàn)有技術(shù)上的問(wèn)題，本實(shí)用新型中提出一種單槍多靶材的濺鍍裝置，其優(yōu)點(diǎn)為僅需使用一濺鍍槍，一方面節(jié)省成本，再者，濺射腔的體積可以縮小，一般體積可以減少到原來(lái)的一半，不只可以節(jié)省成本，而且抽真空的作業(yè)可以快速達(dá)成。可以同時(shí)配置多個(gè)靶材，所以更換靶材的操作數(shù)也較少，因此可以使得該濺射腔維持良好的真空度。
[0007]為達(dá)到上述目的本實(shí)用新型中提出的主要技術(shù)方案是:
[0008]一種單槍多靶材的濺鍍裝置，其包含下列元件:一個(gè)濺射腔，為腔體結(jié)構(gòu)，該濺射腔為一個(gè)可達(dá)到高真空的腔體；一個(gè)標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤，包含一個(gè)盤體位于該濺射腔之內(nèi)，該盤體上包含用于安置濺射所需要的靶材的至少兩個(gè)穿孔；一個(gè)被鍍物，安裝在該濺射腔的一側(cè)，而且對(duì)齊該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤中的一個(gè)靶材；當(dāng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，該被鍍物也跟著對(duì)齊該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤中不同的靶材；；一把能產(chǎn)生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅(qū)動(dòng)靶材以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上的濺鍍槍，其投射端對(duì)齊該被鍍物，在安裝態(tài)時(shí)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤位于該被鍍物及濺鍍槍之間。
[0009]其中，當(dāng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤上的靶材受驅(qū)動(dòng)后，急速濺射向該被鍍物，而在該被鍍物上形成一層膜，即所謂的濺鍍膜。
[0010]本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤尚包含驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，該驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)包含:一根轉(zhuǎn)動(dòng)軸，該轉(zhuǎn)動(dòng)軸的一端固定在該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，并連接一個(gè)也位于該濺射腔外且能使該轉(zhuǎn)動(dòng)軸沿著軸向移動(dòng)而推動(dòng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤或進(jìn)行徑向轉(zhuǎn)動(dòng)而使得該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)器。
[0011]本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，該濺鍍槍的投射端在該濺射腔內(nèi)，而另一端則延伸到該濺射腔外以使得操作人員進(jìn)行所需要的操作。
[0012]本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤具有最多能容納四種不同的靶材的四個(gè)穿孔。
[0013]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型的單槍多靶材的濺鍍裝置，其僅需使用一濺鍍槍，一方面節(jié)省成本，再者，濺射腔的體積可以縮小，一般體積可以減少到原來(lái)的一半，不只可以節(jié)省成本，而且抽真空的作業(yè)可以快速達(dá)成。可以同時(shí)配置多個(gè)靶材，所以更換靶材的操作數(shù)也較少，因此可以使得該濺射腔維持良好的真空度。
[0014]由下文的說(shuō)明可更進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的特征及其優(yōu)點(diǎn)，閱讀時(shí)并請(qǐng)參考附圖。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1顯示現(xiàn)有技術(shù)的示意圖。
[0016]圖2顯示本實(shí)用新型的立體圖。
[0017]圖3顯示本實(shí)用新型的應(yīng)用示意圖。
[0018]圖4顯示本實(shí)用新型的應(yīng)用示意圖。
[0019]【主要元件符號(hào)說(shuō)明】
[0020]I 濺射腔
[0021]2 標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤
[0022]3 被鍍物
[0023]4 濺鍍槍
[0024]20 穿孔
[0025]21轉(zhuǎn)動(dòng)軸
[0026]22驅(qū)動(dòng)器
[0027]201 靶材。
【具體實(shí)施方式】
[0028]茲謹(jǐn)就本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)組成，及所能產(chǎn)生的功效與優(yōu)點(diǎn)，配合附圖，舉本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明如下。
[0029]請(qǐng)參考圖2至圖4所示，顯示本實(shí)用新型的單槍多靶材的濺鍍裝置，包含下列元件:[0030]一濺射腔1，為一腔體結(jié)構(gòu)，用于容納本實(shí)用新型的其他元件；該濺射腔為一高真空的腔體。主要是濺射程序必須在高度真空下進(jìn)行。
[0031]一標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤2，包含一盤體位于該濺射腔之內(nèi)，該盤體上包含至少兩穿孔20，是用于安置濺射所需要的靶材；圖中顯示該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤具有四個(gè)穿孔，所以最多可容納四種不同的革巴材201 ;該標(biāo)祀轉(zhuǎn)盤尚包含驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu),該驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)包含:一轉(zhuǎn)動(dòng)軸21,該轉(zhuǎn)動(dòng)軸的一端固定在該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，并連接一驅(qū)動(dòng)器22(也位于該濺射腔外)，該驅(qū)動(dòng)器可以使該轉(zhuǎn)動(dòng)軸沿著軸向移動(dòng)而推動(dòng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤；或進(jìn)行徑向轉(zhuǎn)動(dòng)而使得該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)。
[0032]其中該靶材201可為各種不同的金屬、玻璃等材料，而可應(yīng)用高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅(qū)動(dòng)后，而使該靶材的粒子脫離靶材而射出。
[0033]一被鍍物3，安裝在該濺射腔的一側(cè)，而且對(duì)齊該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤中的一靶材。當(dāng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，該被鍍物也跟著對(duì)齊該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤中不同的靶材。當(dāng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤上的靶材受驅(qū)動(dòng)后，急速濺射向該被鍍物，而在該被鍍物上形成一層膜，即所謂的濺鍍膜。
[0034]一濺鍍槍4，其投射端對(duì)齊該被鍍物，在安裝態(tài)時(shí)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤位于該被鍍物及濺鍍槍之間；該濺鍍槍將會(huì)產(chǎn)生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅(qū)動(dòng)靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上。該濺鍍槍的投射端是在該濺射腔內(nèi)，而另一端則延伸到該濺射腔外，以使得操作人員可以進(jìn)行所需要的操作。
[0035]本實(shí)用新型的操作方式說(shuō)明如下:
[0036]首先依據(jù)濺射靶材的種類數(shù)，在該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤盤體的穿孔，安裝所需要的濺射靶材。并且將被鍍物安裝到濺射腔的既定位置，然后對(duì)該濺射腔抽取空氣，達(dá)到所需要的真空度，然后將該轉(zhuǎn)盤調(diào)整到所需要的位置點(diǎn)，即將需要的靶材調(diào)整到介于該被鍍物及濺射腔之間的位置，而使得該濺射腔的投射端、該靶材、及該被鍍物位于一直線上，然后再驅(qū)動(dòng)該轉(zhuǎn)盤進(jìn)行軸向移動(dòng)，而使得需濺射的靶材緊貼在該濺射腔的投射端。然后該濺鍍槍投射熱源以使得該靶材上的分子濺射向被鍍物。當(dāng)被鍍物上的薄膜達(dá)到所需要的厚度及濃度時(shí)，則旋轉(zhuǎn)該轉(zhuǎn)盤使得下一個(gè)濺射靶材對(duì)齊該濺射腔的投射端，進(jìn)行濺射的動(dòng)作。上述操作可以反復(fù)進(jìn)行，而在該被鍍物上濺射出所需要的薄膜。
[0037]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)為僅需使用一濺鍍槍，一方面節(jié)省成本，再者，濺射腔的體積可以縮小，一般體積可以減少到原來(lái)的一半，不只可以節(jié)省成本，而且抽真空的作業(yè)可以快速達(dá)成。可以同時(shí)配置多個(gè)靶材，所以更換靶材的操作數(shù)也較少，因此可以使得該濺射腔維持良好的真空度。
[0038]綜上所述，本實(shí)用新型人性化的體貼設(shè)計(jì)，相當(dāng)符合實(shí)際需求。其具體改進(jìn)現(xiàn)有缺失，相較于現(xiàn)有技術(shù)明顯具有突破性的進(jìn)步優(yōu)點(diǎn)，確實(shí)具有功效的增進(jìn)，且非易于達(dá)成。本實(shí)用新型未曾公開(kāi)或揭露于國(guó)內(nèi)與國(guó)外的文獻(xiàn)與市場(chǎng)上，已符合專利法規(guī)定。
[0039]上列詳細(xì)說(shuō)明是針對(duì)本實(shí)用新型的一可行實(shí)施例的具體說(shuō)明，惟該實(shí)施例并非用以限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡未脫離本實(shí)用新型技藝精神所作的等效實(shí)施或變更，均應(yīng)包含于本實(shí)用新型的專利范圍中。
【權(quán)利要求】
1.一種單槍多靶材的濺鍍裝置，其特征在于，包含下列元件: 一個(gè)濺射腔，為腔體結(jié)構(gòu)，該濺射腔為一個(gè)可達(dá)到高真空的腔體； 一個(gè)標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤，包含一個(gè)盤體位于該濺射腔之內(nèi)，該盤體上包含用于安置濺射所需要的靶材的至少兩個(gè)穿孔； 一個(gè)被鍍物，安裝在該濺射腔的一側(cè)，而且對(duì)齊該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤中的一個(gè)靶材；當(dāng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，該被鍍物也跟著對(duì)齊該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤中不同的靶材； 一把能產(chǎn)生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源來(lái)驅(qū)動(dòng)靶材以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上的濺鍍槍，其投射端對(duì)齊該被鍍物，在安裝態(tài)時(shí)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤位于該被鍍物及濺鍍槍之間。
2.如權(quán)利要求1所述的單槍多靶材的濺鍍裝置，其特征在于:還設(shè)有對(duì)該濺射腔抽取空氣達(dá)到所需要的真空度的抽真空裝置，當(dāng)將該轉(zhuǎn)盤調(diào)整到濺射所需要的位置點(diǎn)時(shí)，需要濺射的靶材被調(diào)整到介于該被鍍物及濺射腔之間的位置，且該濺射腔的投射端、該靶材、及該被鍍物位于一條直線上，且是通過(guò)驅(qū)動(dòng)該轉(zhuǎn)盤進(jìn)行軸向移動(dòng)使得需濺射的靶材緊貼在該濺射腔的投射端的。
3.如權(quán)利要求1所述的單槍多靶材的濺鍍裝置，其特征在于:該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤尚包含驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，該驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)包含:一根轉(zhuǎn)動(dòng)軸，該轉(zhuǎn)動(dòng)軸的一端固定在該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，并連接一個(gè)也位于該濺射腔外且能使該轉(zhuǎn)動(dòng)軸沿著軸向移動(dòng)而推動(dòng)該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤或進(jìn)行徑向轉(zhuǎn)動(dòng)而使得該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)器。
4.如權(quán)利要求1所述的單槍多靶材的濺鍍裝置，其特征在于:該濺鍍槍的投射端在該濺射腔內(nèi)，而另一端則延伸到該濺射腔外以使得操作人員進(jìn)行所需要的操作。
5.如權(quán)利要求1所述的單槍多靶材的濺鍍裝置，其特征在于:該標(biāo)靶轉(zhuǎn)盤具有最多能容納四種不同的靶材的四個(gè)穿孔。
【文檔編號(hào)】C23C14/34GK203807549SQ201320856742
【公開(kāi)日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2013年12月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月24日
【發(fā)明者】吳金龍, 徐永桓 申請(qǐng)人:亮杰科技有限公司