本發明涉及玻璃鍍膜生產設備領域。

背景技術：

玻璃鍍膜是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學性能，滿足某種特定要求。

玻璃鍍膜是通過在真空環境中，充入少量工作氣體(例如Ar、O₂、N₂等)，通過電極之間的放電在濺射室中形成等離子體，通過離子轟擊金屬靶材，使得金屬靶材中的金屬粒子溢出，逐步沉積在玻璃表面，形成金屬膜或金屬化合物膜。

由于玻璃鍍膜工藝需要在高度真空的環境下進行，并且需要排除空氣雜質對工作氣體的影響，以保證鍍膜質量，因此玻璃物料在進入玻璃鍍膜生產線的濺射室前需要一系列的過渡腔室，逐步抽去空氣提升環境真空度，在玻璃物料鍍膜完成離開濺射室時，也需要一系列的過渡腔室，逐步降低真空度，進入正常大氣環境。

因此在玻璃鍍膜生產線中，沿玻璃物料傳送方向，依次包括進口室，進口緩沖室，進口過渡室，濺射室，出口過渡室，出口緩沖室，出口室；從進口室到濺射室，真空度逐步提高，從濺射室到出口室，真空度逐步下降。在物料從大氣環境進入進口室，從進口室進入進口緩沖室，從進口緩沖室進入進口過渡室，從出口過渡室進入出口緩沖室，從出口緩沖室進入出口室，從出口室進入大氣環境，這些過渡階段，均需要兩個環境之間氣壓達到平衡才能打開物料門，進行玻璃的傳送。

例如從大氣環境進入進口室時，先對進口室放氣，使進口室的壓強等于外界大氣壓強，然后打開進口室與外界的物料門，將玻璃物料傳輸到進口室中，然后關閉進口室與外界的物料門，對進口室抽真空，待進口室的真空度與進口緩沖室的真空度平衡之后，打開進口室與進口緩沖室之間的物料門，將玻璃物料傳輸到進口緩沖室中……玻璃物料鍍膜后輸送出生產線經過出口緩沖室與出口室也需要類似的氣壓平衡過程。

實現本發明的過程中，發明人發現現有技術中存在如下問題：由于在現有技術中，進口室與大氣環境之間的壓差較大，因此進口室放氣-抽真空的周期明顯長于其他腔室放氣-抽真空的周期，所以導致提高整個玻璃鍍膜生產線效率的瓶頸在于進口室的放氣-抽真空周期，若該時間周期不能有效縮短，則玻璃鍍膜生產線效率無法有效提升，影響產品生產速度，并導致靶材的浪費。

技術實現要素：

為此，需要提供一種能有效提升玻璃鍍膜生產效率，減少靶材浪費的玻璃鍍膜生產線。

為實現上述目的，發明人提供了一種玻璃鍍膜生產線，所述玻璃鍍膜生產線沿玻璃物料傳送方向，依次包括進口室，進口緩沖室，進口過渡室，濺射室，出口過渡室，出口緩沖室，出口室；

所述進口室，進口緩沖室，進口過渡室，濺射室，出口過渡室，出口緩沖室，出口室中鋪設有與玻璃物料相平行的傳送輥，并設置有與真空系統連接的抽氣口；

進口過渡室與出口過渡室設置有隔離裝置，所述隔離裝置包括上隔離裝置與下隔離裝置，所述上隔離裝置具有自上而下延伸至玻璃物料傳送平面上方的上隔離板，所述下隔離裝置具有自下而上延伸至玻璃物料傳送平面下方的下隔離板，所述上隔離板的下緣高于傳送輥上表面，所述下隔離板的上緣低于傳送輥上表面，上隔離板與下隔離板之間形成容玻璃物料通過的物料通道，所述上隔離板與下隔離板正對或斜對玻璃物料傳送方向。

可選的，所述上隔離裝置包括上底板以及與上底板兩端或中部連接的上隔離板，所述下隔離裝置包括下底板以及與下底板兩端或中部連接的下隔離板。

可選的，所述上隔離裝置中，上底板與上隔離板圍成中空的上隔離腔，所述下隔離裝置中，下底板與下隔離板圍成中空的下隔離腔，所述上隔離腔與下隔離腔端部開口，所述進口過渡室與出口過渡室的抽氣口位置與上隔離腔與下隔離腔端部相對應。

可選的，所述進口室與出口室與機械真空泵連接，通過機械真空泵抽真空，所述進口緩沖室與出口緩沖室與羅茨泵及機械真空泵連接，通過串聯的羅茨泵與機械真空泵抽真空，所述進口過渡室與出口過渡室與分子泵、羅茨泵以及機械真空泵連接，通過串聯的分子泵、羅茨泵與機械真空泵抽真空，所述濺射室與分子泵、羅茨泵以及機械真空泵連接，通過串聯的分子泵、羅茨泵與機械真空泵抽真空。

可選的，所述進口過渡室與出口過渡室的抽氣口包括獨立抽氣口與并聯抽氣口，所述并聯抽氣口較獨立抽氣口更靠近濺射室的抽氣口，并聯抽氣口與濺射室的抽氣口并聯抽真空。

可選的，所述進口室與進口緩沖室之間的開門壓強，以及出口室與出口緩沖室之間的開門壓強為10-30mbar，所述進口緩沖室與進口過渡室之間的開門壓強為1-12×10^-2mbar。

可選的，所述進口室與進口緩沖室之間的開門壓強，以及出口室與出口緩沖室之間的開門壓強為15-25mbar，所述進口緩沖室與進口過渡室之間的開門壓強為5-8×10^-2mbar。

可選的，所述進口室與進口緩沖室之間的開門壓強，以及出口室與出口緩沖室之間的開門壓強為20mbar，所述進口緩沖室與進口過渡室之間的開門壓強為7×10^-2mbar。

區別于現有技術，上述技術方案所述的玻璃鍍膜生產線可以降低進口室與出口室的真空度，縮小進口室與出口室相對于大氣環境的壓差，因此有效縮短進口室與出口室的放氣-抽真空周期。本發明中，由于降低了進口室與出口室的真空度，因此進口緩沖室與出口緩沖室的真空度也隨之下降，從而加大了進口緩沖室與進口過渡室，出口緩沖室與出口過渡室之間的壓差，如果采用傳統的玻璃鍍膜生產線結構，當開啟進口緩沖室與進口過渡室之間的物料門以及出口緩沖室與出口過渡之間的物料門時，較大的壓差導致較強的氣流沖擊，從而使得來自進口緩沖室與出口緩沖室的氣流對進口過渡室，出口過渡室的氣體環境造成沖擊，而進口過渡室，出口過渡室與濺射室之間通常沒有設置物料門隔絕，因此氣流對進口過渡室，出口過渡室的沖擊會影響濺射室的氣體環境，從而影響玻璃鍍膜的質量。

本發明在進口過渡室與出口過渡室中設置了隔離裝置，因此當開啟進口緩沖室與進口過渡室之間的物料門以及出口緩沖室與出口過渡之間的物料門時，沖擊氣流會被上隔離裝置與下隔離裝置所阻擋，上下延伸的上隔離板與下隔離板起到了阻擋沖擊氣流的作用。

附圖說明

圖1為具體實施方式所述進口過渡室或出口過渡室側面結構示意圖；

圖2為具體實施方式所述玻璃鍍膜生產線各腔室真空系統的連接示意圖；

圖3為具體實施方式中作為對比的玻璃鍍膜生產線各腔室真空系統的連接示意圖。

附圖標記說明：

21、上隔離裝置，

210、上隔離腔

211、上隔離板，

212、上底板

22、下隔離裝置，

221、下隔離板，

222、下底板，

31、機械泵，

32、羅茨泵，

33、分子泵

50、物料通道

80、傳送輥，

91、獨立抽氣口，

92、并聯抽氣口

具體實施方式

為詳細說明技術方案的技術內容、構造特征、所實現目的及效果，以下結合具體實施例并配合附圖詳予說明。

請參閱圖1，本實施例提供了一種玻璃鍍膜生產線，所述玻璃鍍膜生產線沿玻璃物料傳送方向，依次包括進口室C1，進口緩沖室C2，進口過渡室C3，濺射室C4，出口過渡室C5，出口緩沖室C6，出口室C7；

所述進口室C1，進口緩沖室C2，進口過渡室C3，濺射室C4，出口過渡室C5，出口緩沖室C6，出口室C7中鋪設有與玻璃物料相平行的傳送輥80，并設置有與真空系統連接的抽氣口；

進口過渡室C3與出口過渡室C5設置有隔離裝置，所述隔離裝置包括上隔離裝置21與下隔離裝置22，所述上隔離裝置21具有自上而下延伸至玻璃物料傳送平面上方的上隔離板211，所述下隔離裝置22具有自下而上延伸至玻璃物料傳送平面下方的下隔離板221，所述上隔離板的下緣高于傳送輥上表面，所述下隔離板的上緣低于傳送輥上表面，上隔離板211與下隔離板221之間形成容玻璃物料通過的物料通道50，所述上隔離板與下隔離板正對或斜對玻璃物料傳送方向。

其中上隔離板與下隔離板正對或斜對玻璃物料傳送方向，所述正對玻璃物料傳送方向，是指上隔離板和/或下隔離板與玻璃物料傳送方向垂直。所述斜對玻璃物料傳送方向，是指上隔離板和/或下隔離板傾斜設置，這里的傾斜可以是上下方向的傾斜，也可以是左右方向的傾斜，或上下方向與左右方向都傾斜，也就是上隔離板、下隔離板不與玻璃物料傳送方向平行，也不與玻璃物料傳送方向垂直。不論是正對還是斜對玻璃物料傳送方向，上/下隔離板均可以阻擋沿玻璃物料傳送方向或相反方向吹來的氣流。

具體的，如圖1所示的實施例中，所述上隔離裝置包括上底板212以及與上底板兩端連接的上隔離板211，所述下隔離裝置包括下底板222以及與下底板中部連接的下隔離板221。在不同的實施例中，上隔離板也可以連接上底板中部，下隔離板也可以連接下底板兩端。由于下底板與下隔離板通常位于傳送輥80之間，因此采用下底板中部與下隔離板連接的“T”字形結構，有利與最大程度地通過下底板將傳送輥之間的空間與其他空間相區隔，實現更好的隔離效果。

實施例中，所述上隔離裝置21中，上底板212與上隔離板211圍成中空的上隔離腔210，所述下隔離裝置中，下底板222與下隔離板221圍成中空的下隔離腔220，所述上隔離腔210與下隔離腔220端部開口，進口過渡室與出口過渡室的抽氣口的位置與上隔離腔與下隔離腔端部相對應。

這樣的結構，通過抽氣口直接對上隔離腔或下隔離腔抽氣，有助于在上、下隔離腔中形成負壓結構，當物料門開啟，沖擊氣流涌入時，這些沖擊氣流一方面被上、下隔離板所阻，另一方面被上隔離腔與下隔離腔中負壓驅動，迅速被吸入上、下隔離腔中，使沖擊氣流得到有效的吸收，避免沖擊氣流涌入濺射室C4。

本發明各實施例所采用的真空系統通常使用以下類型的真空泵：

機械泵：機械泵是指利用機械方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的設備，也被稱為機械真空泵。通常作為低真空度的真空泵使用，或配合其他高真空度的真空泵，作為前級泵，離心泵、水沖泵、油封泵、水環泵等可直排大氣，例如旋片式機械泵，其工作范圍是大氣壓-低真空10-²mbar。

羅茨泵(roots-type pump)是一種無內壓縮的真空泵，通常壓縮比很低，故高、中真空泵需要前級泵。

分子泵是利用高速旋轉的轉子把動量傳輸給氣體分子，使之獲得定向速度，從而被壓縮、被驅向排氣口后為前級抽走的一種真空泵。分子泵中氣體處于分子流狀態，故需要配備前級泵。

實施中玻璃鍍膜生產線，各腔室的的真空系統設置如圖2所示，進口室C1與出口室C7與機械真空泵31連接，通過機械真空泵抽真空，所述進口緩沖室C2與出口緩沖室C6與羅茨泵32及機械真空泵31連接，通過串聯的羅茨泵32與機械真空泵31抽真空，所述進口過渡室C3與出口過渡室C5與分子泵33、羅茨泵32以及機械真空泵31連接，通過串聯的分子泵33、羅茨泵32與機械真空泵31抽真空，所述濺射室C4與分子泵、羅茨泵以及機械真空泵連接，通過串聯的分子泵、羅茨泵與機械真空泵抽真空；

以下通過一個更為具體的對比實例說明本實施例與現有技術的區別。

如圖3所示，現有技術的一玻璃鍍膜生產線中：

進口室C1與出口室C7分別通過串聯的2臺羅茨泵32與6臺機械真空泵31連接抽真空；進口室C1和進口緩沖室C2間物料門的開門條件為0.1mbar，出口室C7和出口緩沖室C6間物料門的開門條件也為0.1mbar，進口室C1與出口室C7的抽氣時間為22秒。

進口緩沖室C2與出口緩沖室C6分別通過串聯的4臺分子泵33，1臺羅茨泵32及1臺機械真空泵31連接抽真空；進口緩沖室C2和進口過渡室C3間物料門的開門條件為0.008mbar，出口緩沖室C6和出口過渡室C5間物料門的開門條件也為0.008mbar。

進口過渡室C3與出口過渡室C5分別通過串聯的4臺分子泵33、以及羅茨泵32與機械真空泵31連接抽真空。

濺射室C4通過串聯的分子泵33、羅茨泵32以及機械真空泵31連接抽真空。

而如圖2所示，應用本實施例所述技術的對上述玻璃鍍膜生產線進行技術改造后：

進口室C1與出口室C7分別通過并聯的6臺機械真空泵31連接抽真空；進口室C1和進口緩沖室C2間物料門的開門條件為20mbar，出口室C7和出口緩沖室C6間物料門的開門條件也為20mbar，進口室C1與出口室C7的抽氣時間為10秒，大大提升了工作效率。

進口緩沖室C2與出口緩沖室C6分別通過串聯的2臺羅茨泵32，1臺羅茨泵32及機械真空泵31這樣的3級連接結構抽真空；進口緩沖室C2和進口過渡室C3間物料門的開門條件為0.07mbar，出口緩沖室C6和出口過渡室C5間物料門的開門條件也為0.07mbar。

進口過渡室C3與出口過渡室C5分別通過串聯的6臺分子泵33、以及羅茨泵32與機械真空泵31連接抽真空。

濺射室C4通過串聯的分子泵33、羅茨泵32以及機械真空泵31連接抽真空。

為了提升真空系統的效率，進口過渡室C3與出口過渡室C5的抽氣口包括獨立抽氣口91與并聯抽氣口92，所述并聯抽氣口較獨立抽氣口更靠近濺射室C4的抽氣口，并聯抽氣口92與濺射室的抽氣口并聯抽真空。

以下提供本實施例所述玻璃鍍膜生產線，各腔室物料門開啟的開門壓強的優選數據，所述進口室與進口緩沖室之間的開門壓強，以及出口室與出口緩沖室之間的開門壓強為10-30mbar，所述進口緩沖室與進口過渡室之間的開門壓強為1-12×10^-2mbar。

更優選地，所述進口室與進口緩沖室之間的開門壓強，以及出口室與出口緩沖室之間的開門壓強為15-25mbar，所述進口緩沖室與進口過渡室之間的開門壓強為5-8×10^-2mbar。

尤其優選地，所述進口室與進口緩沖室之間的開門壓強，以及出口室與出口緩沖室之間的開門壓強為20mbar，所述進口緩沖室與進口過渡室之間的開門壓強為7×10^-2mbar。

上述優選數據，同時考慮了各腔室的工作周期與效率，也考慮了壓強差所導致的氣流沖擊對鍍膜質量的影響，使玻璃鍍膜生產線所生產的鍍膜玻璃質量良好并能有效提高生產線的生產效率。

需要說明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關系術語僅僅用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關系或者順序。而且，術語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者終端設備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者終端設備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括……”或“包含……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者終端設備中還存在另外的要素。此外，在本文中，“大于”、“小于”、“超過”等理解為不包括本數；“以上”、“以下”、“以內”等理解為包括本數。

盡管已經對上述各實施例進行了描述，但本領域內的技術人員一旦得知了基本創造性概念，則可對這些實施例做出另外的變更和修改，所以以上所述僅為本發明的實施例，并非因此限制本發明的專利保護范圍，凡是利用本發明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發明的專利保護范圍之內。