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可控氣氛薄層滲碳工藝的制作方法

文檔序號:12744084閱讀:226來源:國知局

本發(fā)明涉及一種可控氣氛薄層滲碳工藝,屬于金屬材料表面處理領(lǐng)域。



背景技術(shù):

以鈦為基體加入其他合金元素組成的合金稱作鈦合金。鈦合金是一種新型結(jié)構(gòu)材料,它具有優(yōu)異的綜合性能,如密度小,比強度和比斷裂韌性高,疲勞強度和抗裂紋擴展能力好,低溫韌性良好,抗蝕性能優(yōu)異。因此,其在航空、航天、化工、造船等工業(yè)部門獲得日益廣泛的應(yīng)用,發(fā)展迅猛。由于鈦及其合金的優(yōu)異抗蝕性能,良好的力學(xué)性能,以及合格的組織相容性,其還特別適用于制作假體裝置等生物材料。同時,鈦合金具有密度低、比強度高、抗腐蝕性能好、工藝性能好等優(yōu)點,是較為理想的航天工程結(jié)構(gòu)材料。然而,鈦合金的工藝性能差,切削加工困難,在熱加工中,非常容易吸收氫氧氮碳等雜質(zhì)。還有抗磨性差,生產(chǎn)工藝復(fù)雜。

為了提高鈦合金表面的抗磨性能,目前可采用滲碳技術(shù)對鈦合金的表面進行表面處理,然而目前的滲碳主要采用甲烷等氣體作為碳源,易發(fā)生“氫脆”現(xiàn)象。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種可控氣氛薄層滲碳工藝,以解決上述“氫脆”問題。

可控氣氛薄層滲碳工藝,所述滲碳工藝是在鈦合金上進行滲碳的工藝,所述工藝在等離子滲碳真空爐中進行,具體為:

以鈦合金作為工件極,工件極的電壓為350~400V,工件極的滲碳溫度為900~1000℃;

以石墨為源極,源極的電壓為750~900V;

以氬氣為載氣,控制氬氣的工作壓力在0.1Pa~30Pa,且隨著滲碳工藝的進行使氬氣的工作壓力逐漸減小,

滲碳時間為至少0.5h。

本發(fā)明所述“等離子滲碳真空爐”可商業(yè)購得。

進一步地,所述以氬氣為載氣,控制氬氣初始工作壓力為20~30Pa,滲碳工藝結(jié)束時氬氣工作壓力為0.1~5Pa;

滲碳時間為至少3h。

更進一步地,所述以氬氣為載氣,控制氬氣初始工作壓力為25Pa,滲碳工藝結(jié)束時氬氣工作壓力為1Pa;

滲碳時間為4h。

本發(fā)明優(yōu)選所述鈦合金為TiAl合金。

本發(fā)明的另一目的是提供利用上述工藝制得的鈦合金。

一種表面滲碳的鈦合金,所述鈦合金表面滲碳層為200~500微米,滲碳層的硬度為9000~12000MPa。

本發(fā)明的有益效果為:本發(fā)明采用等離子滲碳真空法對鈦合金的表面進行滲碳處理,該方法以鈦合金作為工件極,工件極的電壓為350~400V,工件極的滲碳溫度為900~1000℃;以石墨為源極,源極的電壓為750~900V;以氬氣為載氣,控制氬氣的工作壓力在0.1Pa~30Pa,且隨著滲碳工藝的進行使氬氣的工作壓力逐漸減小。該方法通過控制載氣氬氣在真空爐內(nèi)的分壓,從而控制滲碳的速率,是的各厚度處的滲碳層具有相同的強度,進而提升整個滲碳表面的強度。

具體實施方式

下述非限制性實施例可以使本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員更全面地理解本發(fā)明,但不以任何方式限制本發(fā)明。

下述實施例中所述試驗方法,如無特殊說明,均為常規(guī)方法;所述試劑和材料,如無特殊說明,均可從商業(yè)途徑獲得。

實施例1

可控氣氛薄層滲碳工藝,所述滲碳工藝是在鈦合金上進行滲碳的工藝,所述工藝在等離子滲碳真空爐中進行,具體為:

以TiAl合金作為工件極,工件極的電壓為380V,工件極的滲碳溫度為900℃;

以石墨為源極,源極的電壓為750V;

所述以氬氣為載氣,控制氬氣初始工作壓力為25Pa,滲碳工藝結(jié)束時氬氣工作壓力為1Pa,滲碳時間為4h,在滲碳過程中勻速降低氬氣的工作壓力。

所述鈦合金表面滲碳層為270微米,滲碳層的硬度為9230MPa。

實施例2

可控氣氛薄層滲碳工藝,所述滲碳工藝是在鈦合金上進行滲碳的工藝,所述工藝在等離子滲碳真空爐中進行,具體為:

以TiAl合金作為工件極,工件極的電壓為400V,工件極的滲碳溫度為950℃;

以石墨為源極,源極的電壓為900V;

所述以氬氣為載氣,控制氬氣初始工作壓力為30Pa,滲碳工藝結(jié)束時氬氣工作壓力為0.1Pa,滲碳時間為6h,在滲碳過程中勻速降低氬氣的工作壓力。

所述鈦合金表面滲碳層為410微米,滲碳層的硬度為11250MPa。

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