1.一種降低電弧離子鍍氮化鈦涂層和鋁涂層中氧含量的方法,其特征在于所述方法為在電弧離子鍍氮化鈦涂層或鋁涂層過程當(dāng)中,向真空室內(nèi)連續(xù)通入純度為99.99%氫氣,氫氣的流量為0.05-0.5mL/min,可使涂層中的氧含量減少30-80wt.%。
使用協(xié)議| 關(guān)于我們| 聯(lián)系X技術(shù)
? 2008-2025 【X技術(shù)】 版權(quán)所有,并保留所有權(quán)利。津ICP備16005673號(hào)-2