1.一種單向自動噴砂機，包括殼體，所述的殼體內設置有噴砂室，所述的噴砂室內排布有噴砂頭，所述的殼體上設置有將管件推入噴砂室的推入口，其特征在于：所述的殼體位于推入口設置有覆蓋推入口的防塵部，該防塵部由沿推入口橫向依次設置的若干個防塵單元組成，該防塵單元由軟質材料制成且自然下垂，所述的殼體內設置有水幕循環裝置，所述的水幕循環裝置包括噴水管道及循環水槽，所述的噴水管道與管件相平行并分別設置于噴砂室兩側，且沿長度方向依次設置有若干個噴水口，所述的循環水槽位于噴砂室底部，所述的循環水槽其中一端作為循環端延伸至殼體外側，所述的循環水槽底部設置有隨靠近循環端高度逐漸減低，所述的循環水槽與殼體壁的銜接處設置有過濾石英砂的濾網，所述的噴砂頭朝向推入口相反方向并與管件軸向相傾斜，所述的噴砂室設置有二次利用噴砂進行研磨的二次研磨裝置。
2.根據權利要求1所述的單向自動噴砂機，其特征在于：所述的二次研磨裝置包括管件支撐機構、管件旋轉機構及噴砂循環利用機構，所述的管件支撐機構包括支撐座及支撐鋼珠，所述的支撐座位于管件下方，所述的支撐鋼珠轉動設置于支撐座且部分伸出支撐座上方，所述的支撐鋼珠伸出支撐座上方的部分與管件下方相抵，所述的管件旋轉機構包括旋轉座、旋轉電機、旋轉輥及旋轉座位移氣缸，所述的旋轉座位于管件側面，所述的旋轉座位移氣缸安裝于殼體并驅動旋轉座靠近或遠離管件，所述的旋轉電機安裝于旋轉座并驅動旋轉輥旋轉，所述的旋轉輥與管件相抵時驅動管件旋轉，所述的噴砂循環利用機構包括循環座、循環輥、循環軌道、循環電機及軌道驅動氣缸，所述的循環軌道沿靠近或遠離管件的方向設置于噴砂室，所述的循環座滑移于循環軌道，所述的軌道驅動氣缸驅動循環座沿循環軌道往復滑移，所述的循環電機安裝于循環座并驅動循環輥旋轉，所述的循環座上設置有將石英砂引導至循環輥的引導斜面，所述的循環輥與管件相抵時利用收集的石英砂將管件外周進行研磨。
3.根據權利要求2所述的單向自動噴砂機，其特征在于：還包括提升推送機構，所述的提升推送機構包括提升座、推送輥、推送電機及提升氣缸，所述的提升座位于管件下方并設置有放置管件的提升槽，所述的提升氣缸驅動提升座升降，所述的推送電機安裝于提升座并驅動推送輥旋轉，所述的推送輥與管件相抵時沿管件軸向往復推送，所述的提升氣缸的底部設置有滾輪。
4.根據權利要求4所述的單向自動噴砂機，其特征在于：所述的殼體頂部設置有給噴水管道供水的水箱，所述的循環水槽的循環端設置有與水箱聯通的循環管道，該循環管道上設置有將水抽離至水箱的循環水泵。
5.根據權利要求1或2或3或4所述的單向自動噴砂機，其特征在于：所述的循環水槽底部設置有振動馬達。