智能機器人技術領域和化學領域。

具體地說是用于化學方法加工電路板、化學工藝蝕刻一類化學反應的智能操作平臺。也就是說液體與固體反應必須充分接觸，這個平臺液體必須流動。

案例：用化學的方法將敷有銅箔的環氧板(即敷銅板)加工成電路板，固體敷銅板必須均勻架空，如果反應液靜止不動，只僅僅與敷銅板接觸的一小部分液體反應。

因此裝置采用單片機(即電腦主板)智能控制，根據充分進行化學反應的需要，使多個不同位置的電動機先后正轉反轉或停轉，從而帶動各攪動片將反應液充分攪動，使反應液與銅充分接觸、充分反應。

背景技術：

制作電路板和各種化學工藝蝕刻是固體和液體反應。銅的蝕刻、玻璃的蝕刻是最常用的。

以制作電路板的銅蝕刻為案例，需要好的環保化學的化學工藝加工平臺。

是在敷銅板(敷有銅箔的環氧板)上用耐腐物質印刷好電路，以保護電路位置的銅箔，再用化學物質將不需要的銅腐蝕掉。

傳統用三氯化鐵和銅反應：Cu十2FeCl₃＝2FeCl₂十CuCl₂生成兩種鹽難以分離和綜合利用造成廢液污染。

傳統方法另一個缺點是化學反應不能充分進行，液體與銅反應集中在銅和液體的接觸面，離銅箔稍有一點距離的液體難于與銅反應，尤其是遠離銅片的液體不能與銅反應。

因此，迫切需要有一種攪動液體的裝置，需要按充分反應要求設定的優化程序控制多個電動機使多組攪動片自動地、正反向靈活自如地攪動液體的裝置。但至今未見相關產品和專利問世。

技術實現要素：

本發明正是為上術需要而發明的一種依托機器人技術的環保的化學工藝加工平臺，其特征是由以下部件構成：盛放反應液體耐腐蝕反應器(1)，反應器底部有平行的為待加工板材定位的槽(2)，帶定位槽的橫梁(3)，與(1)固定的水平基板(4)，豎直基板(5)依托直角件與(4)固定，電動機(6)與豎直基板固定，耐腐蝕轉軸(8)通過連軸器(7)與電動機(6)相連，轉軸(8)的限位環(9)與(5)固定，轉軸(8)上開有槽(11)，耐腐蝕攪動片(10)插入槽(11)，單片機主板(12)和驅動器(13)相連并安裝在另盒內，驅動器輸出端與各電動機相連。

所述依托機器人技術其特征是：在單片機智能控制下使分布在平臺不同位置的電動機和攪動片按化學反應的要求按優化的程序先后正轉、反轉、快轉、慢轉、停轉。使攪動片對液體充分攪動，使需要蝕刻的固體與反應液充分接觸，達到最佳效果，反應后成精美產品。

以制作電路板為案例：

反應液用鹽酸和雙氧水，反應后生成氯化銅一種鹽可綜合利用。環保無化學污染。

銅在有鹽酸和雙氧水共存的環境下反應方程式：Cu十2HCl十H₂O₂＝CuCl₂十2H₂O

由于反應充分，反應液中HCl含量極少，很容易用加熱使之揮發用水吸收再利用，氯化銅可利用。

傳統方法用三氯化鐵與銅反應，生成難以分離和再利用的兩種鹽，作廢液污染環境。

化學方程式：Cu十2FeCl₃＝CuCl₂十2FeCl₂

本發明同樣適合其他銅蝕刻、鐵蝕刻、玻璃蝕刻等。

本發明突出的實質性特點和顯著進步是

1、依托智能機器人技術攪動液體力度大小、方向可控；

2、電動機和攪動裝置可以單個按程序轉動，也可多個轉動，使對液體的攪動達到最佳狀態；

3、因液體充分攪動，液體與固體板材例如敷銅板充分接觸，液體分應充分，鹽酸含量極少，方便回收；

4、巧妙地選擇反應液，例如制電路板，鹽酸本不與銅和雙氧水單獨反應，利用鹽酸利雙氧水共存的情況下能與銅反應，環保。

附圖說明

圖1為本發明整體結構圖。

圖2為本發明局部特寫圖：耐腐蝕轉軸(8)，轉軸槽(11)，和準備插入槽(11)的攪動片(10)

具體實施方式

制作盛放反應液體耐腐蝕反應器(1)，反應器底部有平行的定位槽(2)，帶定位槽的橫梁(3)，與(1)固定的水平基板(4)，豎直基板(5)依托直角件與(4)固定，電動機(6)與豎直基板固定，耐腐蝕轉軸(8)通過連軸器(7)與電動機(6)相連，轉軸(8)的限位環(9)與(5)固定，轉軸(8)上開有槽(11)，耐腐蝕攪動片(10)插入槽(11)，單片機主板(12)和驅動器(13)相連并安裝在另盒內，驅動器輸出端與各電動機相連。

所述依托機器人技術，其特征是：在單片機智能控制下使分布在平臺不同位置的電動機和攪動片按化學反應的要求按優化的程序先后正轉、反轉、快轉、慢轉、停轉。使攪動片對液體充分攪動，使需要蝕刻的固體與反應液充分接觸，達到最佳效果，反應后成精美產品。

單片機與多個驅動器連接，以4個為宜，每個驅動器的輸出端與電動機相連。

以制作電路板為案例：反應液用鹽酸和雙氧水，反應后生成氯化銅一種鹽可綜合利用。環保無化學污染。

銅在有鹽酸和雙氧水共存的環境下反應方程式：Cu十2HCl十H₂O₂＝CuCl₂十2H₂O

由于反應充分，反應液中HCl含量極少，很容易用加熱使之揮發用水吸收再利用，氯化銅可利用。

傳統方法用三氯化鐵與銅反應，生成難以分離和再利用的兩種鹽，作廢液污染環境。

化學方程式：Cu十2FeCl₃＝CuCl₂十2FeCl₂

本發明同樣適合其他銅蝕刻、鐵蝕刻、玻璃蝕刻等。