技術特征：

技術總結
一種等離子體系統的腔室包括：腔室壁，其定義等離子體加工區域；襯底支架，其經配置以支撐等離子體加工區域中的襯底；以及內襯，其位在等離子體加工區域中并且將腔室壁與等離子體加工區域分離。還提供一種用于等離子體系統的內襯以及一種用于將內襯安裝到等離子體系統的方法。

技術研發人員：廖崇憲;蔡文包
受保護的技術使用者：臺灣積體電路制造股份有限公司
技術研發日：2016.12.30
技術公布日：2017.09.12