技術總結
本實用新型公開了一種用于柔性電子元件的卷對卷高真空濺鍍系統，其中，濺鍍系統結構為：左右兩邊分設進樣腔和工藝腔，進樣腔和工藝腔相連通，在連通之處上方固定有上真空隔絕裝置，下方固定有下真空隔絕裝置；在進樣腔內依次設置有保護膜收料輥、放料輥、保護膜放料輥和收料輥；在柔性襯底行進流程上設置有若干導向輥；在工藝腔內設置有鍍膜輥，并設置有與鍍膜輥配套進行濺射工作的直流濺射源、磁控濺射裝置和擋板。本實用新型柔性襯底經過輥輪時不觸碰到濺鍍面，且增加真空隔絕裝置，減少了襯底更換時間，提高了單位時間內卷材的產出量；加入加熱裝置以及表面處理模組，提高了鍍膜品質，提高了柔性電子元件的良品率。

技術研發人員：黃皓堅;高啟仁;胡堂祥
受保護的技術使用者：成都捷翼電子科技有限公司
文檔號碼：201621196623
技術研發日：2016.11.03
技術公布日：2017.04.26