本發(fā)明涉及硅靶材生產技術領域，特別涉及一種特殊角度硅靶材的生產方法。

背景技術：

普通平面靶材在加工特殊角度或控制精度倒角時，其生產難度在于其普通平面磨床不能掉轉角度，龍門磨床不方面小件加工，利用加工中心等數控機床刀具問題難解決，利用電火花加工粗糙度底，硅材料由于脆性大，機械加工成為難點，目前傳統(tǒng)方式采用普通倒角機進行45度角加工，效率低，加工精度難控制，崩邊嚴重，無法完成其他角度的的加工，更無法完成所需角度的精度的控制。

技術實現要素：

為克服現有技術的不足，本發(fā)明提供一種特殊角度硅靶材的生產方法。本發(fā)明為實現上述目的所采用的技術方案是：一種特殊角度硅靶材的生產方法，其特征是：將靶材利用精密口鉗進行裝夾，用正弦吸盤裝夾成所需角度，應用于平面加工進行加工的生產方式。

所述一種特殊角度硅靶材的生產方法，具體包括以下步驟：

第一步：將普通方形靶材按照傳統(tǒng)的標準靶材生產工藝進行加工；

第二步：將加工成的標準靶材進行倒角處理，特殊角度邊不進行倒角處理；

第三步：將正弦吸盤在磨床上找正，根據所要加工的角度按公式H＝L×sina算出所墊塊規(guī)的高度，其中：H為塊規(guī)高度，L為兩正弦柱中心距，把計算好的塊規(guī)放到吸盤下面后的正弦柱下墊正，按照三角函數，調整為所需加工角度；

第四步：用精密口鉗將標準方靶進行固定，固定于正弦吸盤進行找正；

第五步：用磨床按照平面加工方式計算出圖紙所需尺寸進行研磨；

第六步：將方形靶進行清洗，按圖紙檢驗，形成特殊角度硅靶材產品。

所述所要加工的角度a為0—60度。

所述最終加工出的特殊角度硅靶材的加工誤差在+0.1mm,粗糙度小于1.6。

本發(fā)明產品精度由+0.3mm提高到+0.1mm；粗糙度由Ra>3.2提高到<1.6；綜合成本降低30％以上，有效避免多工序加工導致的崩邊崩角硅片出成率可到90％以上；生產角度由單一45度，增加到0—60度，極大的延伸了異性靶材特殊角度加工范圍。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的工藝流程圖。

圖2為本發(fā)明正弦吸盤找正原理示意圖。

圖中：1-正弦吸盤，2、方形靶。

具體實施方式

以下結合附圖對本發(fā)明做進一步說明，但本發(fā)明并不限于具體實施例。

實施例1

一種特殊角度硅靶材的生產方法，將靶材利用精密口鉗進行裝夾，用正弦吸盤裝夾成所需角度，應用于平面加工進行加工的生產方式，具體包括以下步驟：

第一步：將普通方形靶材按照傳統(tǒng)的標準靶材生產工藝進行加工；

第二步：將加工成的標準靶材進行倒角處理，特殊角度邊不進行倒角處理；

第三步：將正弦吸盤在磨床上找正，所要加工的角度為60度，如圖2所示，根據所要加工的角度a按公式H＝L×sina算出所墊塊規(guī)的高度，其中：H為塊規(guī)高度，L為兩正弦柱中心距，圖中虛線部分為實際使用尺寸，把計算好的塊規(guī)放到吸盤下面后的正弦柱下墊正，按照三角函數，調整為所需加工角度；

第四步：用精密口鉗將標準方靶進行固定，固定于正弦吸盤進行找正；

第五步：用磨床按照平面加工方式計算出圖紙所需尺寸進行研磨；

第六步：將方形靶進行清洗，按圖紙檢驗，形成特殊角度硅靶材產品。

最終加工出的特殊角度硅靶材的加工誤差在+0.1mm,粗糙度為1.5。

實施例2

本實施例中所述的一種特殊角度硅靶材的生產方法的各步驟均與實施例1中相同，不同的技術參數為：所要加工的角度為45度；最終加工出的特殊角度硅靶材的粗糙度為1.4。

實施例3

本實施例中所述的一種特殊角度硅靶材的生產方法的各步驟均與實施例1中相同，不同的技術參數為：所要加工的角度為30度；最終加工出的特殊角度硅靶材的粗糙度為1.0。

以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理和主要特征，本領域的技術人員應該了解本發(fā)明不受上述實施例的限制，上述的實施例和說明書描述的只是說明本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入本發(fā)明要求保護的范圍內，本發(fā)明要求保護范圍由所附的權利要求書和等效物界定。