1.一種多層薄膜的制備方法，其特征在于：所述多層薄膜以H13為基體，在基體上經(jīng)過(guò)非平衡離子濺射鍍膜工藝依序沉積Cr結(jié)合層、CrN過(guò)渡層和CrMoAlN功能層；具體制備步驟如下：
步驟（1）打開(kāi)非平衡濺射離子鍍?cè)O(shè)備，開(kāi)機(jī)預(yù)熱，冷卻通水，先后打開(kāi)機(jī)械泵和分子泵，抽真空至1.0×10-4Pa;
步驟（2） 通入氬氣，調(diào)節(jié)氣瓶閥門和流量計(jì)，調(diào)整真空腔內(nèi)氣體，使磁控靶放電起輝；
步驟（3）基體表面等離子清洗：基體偏壓調(diào)整為-450V，用Ar離子轟擊基體表面，除去基體表面雜質(zhì)，清洗20min;
步驟（4）基體偏壓調(diào)整為-100V，同時(shí)開(kāi)啟兩個(gè)Cr靶，靶電流設(shè)置為4A，沉積一層純金屬Cr層打底；
步驟（5） 基體偏壓調(diào)整為-75V，通入氮?dú)猓练eCrN過(guò)渡層，通過(guò)OEM系統(tǒng)控制氮?dú)饬髁浚拱胁臑R射的Cr原子數(shù)目逐漸減少，涂層中的N含量逐漸增加；
步驟（6）開(kāi)啟Al靶和Mo靶，Al靶電流逐步增加至6A，Mo靶電流增加至指定數(shù)值，四靶全部處于開(kāi)啟狀態(tài)，開(kāi)始沉積CrMoAlN功能層60min，即可獲得Cr-CrN-CrMoAlN多層薄膜；
步驟（7）鍍層完成并冷卻后，鍍膜室放氣，取樣并抽真空；
最終制得Cr-CrN-CrMoAlN多層薄膜，所述Cr結(jié)合層厚度為0.2~0.4μm ；所述CrN過(guò)渡層厚度為1.0~1.2μm；所述CrMoAlN功能層厚度為2.2~2.4μm；所述涂層總厚度為3.4~4μm。
2.一種多層薄膜結(jié)合性能評(píng)價(jià)的方法，其特征在于所述方法按如下步驟進(jìn)行：
步驟A）由H13基體經(jīng)過(guò)非平衡離子濺射鍍膜工藝分別沉積Cr結(jié)合層、CrN過(guò)渡層和CrMoAlN功能層制得Cr-CrN-CrMoAlN多層薄膜；
設(shè)置設(shè)備參數(shù)為：Cr靶電流4A，Al靶電流6A, Mo靶電流設(shè)定在0~6A,偏壓-75V，Cr結(jié)合層沉積360s，CrN過(guò)渡層沉積600s，CrMoAlN功能層沉積3600s；
制得Cr-CrN-CrMoAlN多層薄膜，所述Cr結(jié)合層厚度為0.2~0.4μm ；所述CrN過(guò)渡層厚度為1.0~1.2μm；所述CrMoAlN功能層厚度為2.2~2.4μm；所述涂層總厚度為3.4~4μm；
步驟B）取步驟A）所制備的Cr-CrN-CrMoAlN多層薄膜經(jīng)過(guò)多功能劃痕儀進(jìn)行劃痕實(shí)驗(yàn)；其中：最大載荷為30N，加載速率為30mN/s，劃痕長(zhǎng)度為1mm；
步驟C ）取步驟A）所制備的Cr-CrN-CrMoAlN多層薄膜經(jīng)過(guò)激光共聚焦掃描顯微鏡獲得薄膜表面劃痕形貌評(píng)估其結(jié)合性能。