技術特征：

技術總結
本發明涉及一種雙功能柱對稱大尺寸高均勻性線型磁控靶鍍膜設備。該設備在圓形真空腔中心安放用于夾持凸形柱面鏡的轉動軸，在外圍安裝用于安放凹形柱面鏡的轉動圓環，在轉動圓環和轉動軸之間安放豎直擺放的線型磁控濺射靶槍，靶槍前安放有可以旋轉的氣動擋板。通過改變靶槍朝向和調整靶槍在真空腔內的徑向位置，可使靶槍分別指向轉動圓環和轉動軸，并對安裝在轉動圓環上的凹形柱面鏡或者是安裝在轉動軸上的凸形柱面鏡進行鍍制。通過改變靶槍前的氣動擋板的開關以及轉動圓環和轉動軸的轉動速率完成對薄膜制備工藝的控制。

技術研發人員：王占山;黃秋實;齊潤澤;張眾;慈連鰲
受保護的技術使用者：同濟大學
技術研發日：2017.04.17
技術公布日：2017.09.08