本發明涉及液合金外殼及表面處理技術領域，特別是涉及一種鎂鋁合金外殼及鎂鋁合金表面處理方法。

背景技術：

鎂鋁合金是以鎂和鋁為主要元素加入鋅、錳、鈰等其他元素組成的合金。鎂鋁合金具有密度小、比強度高、比彈性模量大、散熱好、消震性好、承受沖擊載荷能力比鋁合金大及耐有機物和堿的腐蝕性能好等優點。

對于鎂鋁合金目前最常用的表面處理工藝是噴涂，但顏色及可靠性均有較大限制，且外觀效果質感差。因此，鎂鋁合金常用于內置結構件，無法作為外觀件使用。

技術實現要素：

基于鎂鋁合金表面質感差無法作為外觀件的問題提供一種質感優良的能夠作為外觀件的鎂鋁合金外殼、終端及鎂鋁合金表面處理方法。

為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是：提供一種鎂鋁合金外殼，包括：

依次層疊的鎂鋁合金層、聯結層、可氧化附著層以及氧化層；

其中，所述聯結層用于聯結所述鎂鋁合金層和所述可氧化附著層，以使得二者結合力滿足預定要求。

本發明還提供一種終端，包括以上所述的鎂鋁合金外殼。

本發明還提供一種鎂鋁合金表面處理方法，包括：

在鎂鋁合金層一側形成聯結層；

在所述聯結層背對所述鎂鋁合金一側形成可氧化附著層；

對所述可氧化附著層進行陽極氧化，以形成氧化層。

本發明的有益效果是：區別于現有技術的情況，本發明通過聯結層在鎂鋁合金層上形成可氧化附著層，然后進一步在可氧化附著層上面形成氧化層。聯結層和可氧化附著層的設置有效實現了鎂鋁合金層的表面陽極氧化，以得到致密性佳，穩定性強的氧化膜。以上結構的鎂鋁合金外殼或者采用上述方法得到的鎂鋁合金外殼穩定性強、致密性佳、質感優良，讓一直只能作為內置件但具有密度小、比強度高、比彈性模量大、散熱好、消震性好、承受沖擊載荷能力強及耐腐蝕性的鎂鋁合金能夠作為外觀件使用。

附圖說明

圖1是本發明提供的鎂鋁合金外殼一實施例的結構示意圖；

圖2是本發明提供的鎂鋁合金外殼另一實施例的結構示意圖；

圖3是本發明提供的鎂鋁合金外殼又一實施例的結構示意圖；

圖4是本發明一實施例提供的終端的結構示意圖；

圖5是本發明提供的鎂鋁合金表面處理方法的一實施方式的流程圖；

圖6是本發明提供的鎂鋁合金表面處理方法的另一實施方式的流程圖；

圖7是本發明提供的鎂鋁合金表面處理方法的又一實施方式的流程圖。

具體實施方式

下面結合附圖詳細講解鎂鋁合金外殼、包括該鎂鋁合金外殼的終端，及鎂鋁合金表面處理方法。

參見圖1，圖1是本發明的鎂鋁合金外殼一實施例的結構示意圖，該鎂鋁合金外殼包括依次層疊的鎂鋁合金層100、聯結層200、可氧化附著層300以及氧化層400。其中，聯結層200用于聯結鎂鋁合金層100和可氧化附著層300，以使得二者結合力滿足預定要求。聯結層200和可氧化附著層300的設置有效實現了鎂鋁合金層100的表面陽極氧化，以得到致密性佳，穩定性強的氧化層400。從而使鎂鋁合金外表面質感優越，可成為電子設備等的外觀件。

可選地，聯結層200包括鉻，比如是純鉻層，其中6價鉻還能起到環保的作用。在其他實施例中聯結層也可以包括3價鉻或者銦。

可選地，聯結層200的厚度為150nm-250nm。

可氧化附著層300的設置作為可陽極氧化層的載體，將鎂鋁合金表面應力產生的砂眼及雜質元素得到進一步的填補和改性，進而在鎂鋁合金表面實現陽極氧化。

可選地，可氧化附著層300包括鋁，這樣能夠使得其外觀表面鋁的純度及含量進一步得到提升。在其他實施例中，可氧化附著層300也可以包括鎵和/或鈹。

可選地，可氧化附著層300的厚度在15μm以上。具體的，可氧化附著層300的厚度需要根據鎂鋁合金表面鋁離子的純度來調整。

本實施例中氧化層400包括三氧化二鋁。在其他實施例中，氧化層400也可以包括氧化鉀和/或氧化鈉，和/或氧化鎂。

可選地，氧化層包括三氧化二鋁氧化膜及嵌入三氧化二鋁氧化膜中的染色層(圖未示)。具體的，在實施陽極氧化的過程中初步形成的三氧化二鋁氧化膜上具有蜂窩狀的小孔，此時在該初步形成的三氧化二鋁氧化膜上染色可使顏色扎根滲透在三氧化二鋁氧化膜中，最后在進行封孔得到表面平滑的三氧化二鋁氧化膜。三氧化二鋁氧化膜中嵌入染色層后能夠使得氧化層色澤均勻膜層飽滿。在沒有在氧化層400中嵌入染色層的其他實施例中，該鎂鋁合金外殼呈現的顏色為可氧化附著層300或者氧化層400本身的顏色。

參見圖2，圖2是本發明的鎂鋁合金外殼另一實施例的結構示意圖。

本實施例中，該鎂鋁合金外殼還包括形成在氧化層400背對聯結層200一側的反射層500。該反射層500的設置能夠使得該鎂鋁合金外殼面向用戶的一面具有光線反射或者幻彩效果。

同時結合圖3，可選地，反射層500包括鈦靶層和/或硅靶層，即可以是單層的鈦靶層或硅靶層，或者為兩層，一層為鈦靶層，另一層為硅靶層。采用這樣的結構能夠使得該鎂鋁合金外殼面向用戶的一面光線反射率在90％以上，實現更好的幻彩效果。

可選地，一實施例中，該鎂鋁合金外殼還包括形成在氧化層背對聯結層200一側的氟化物層600，氟化物層600位于鋁鎂合金外殼的最外層。氟化物層600的設置能夠起到保護氧化層及抗指紋的作用。

可以理解的，當鎂鋁合金外殼還包括反射層500的時候，氟化物層600設置在反射層500背對氧化層400一側，如圖2所示。

參見圖4，本發明還提供一種終端，該終端包括以上實施例所描述的鎂鋁合金外殼800。該終端包括機身700，和設置在機身700的屏幕背對一面上的鎂鋁合金外殼800。

本發明還提供一種鎂鋁合金表面處理方法，參見圖5，為本發明一實施方式的鎂鋁合金表面處理方法流程圖。該方法包括：

s101：在鎂鋁合金層100一側形成聯結層200。

采用磁控濺射鍍膜的方式將制作聯結層的材料鍍在鎂鋁合金層100一側，具體的沉淀時間為70-150秒。可選地，該工藝在真空環境下完成。該聯結層200作為后續形成可氧化附著層的載體。優先地，鍍聯結層200的材料可以是：6價鉻，3價鉻，或者銦。

s102：在聯結層200背對鎂鋁合金層100一側形成可氧化附著層300。

采用電阻絲蒸發鍍膜方式在聯結層200背對鎂鋁合金層100一側沉積可氧化附著層300。可選地，沉淀時間為90-150秒。可選地，可選該工藝在真空環境下完成。具體的，鍍可氧化附著層300的材料可以是鋁，或者鎵和/或鈹。

s103：對可氧化附著層300進行陽極氧化，以形成氧化層400。

具體的，該陽極氧化工序包括:上掛、脫脂、水洗、堿洗、二連水洗、中和、水洗、化學拋光、水洗、中和、三連水洗、陽極氧化、二連水洗、中和、水洗、封孔、水洗、中和、水洗、烘干、下掛。可選地，陽極槽液硫酸濃度：150—180g/l。可選地，陽極槽溫度為12-18℃，陽極電壓為10-15v，陽極時間為25-40min。可選地，該氧化層400為三氧化二鋁。

本發明通過聯結層200在鎂鋁合金層100上形成可氧化附著層300，然后進一步在可氧化附著層300上面形成氧化層400。聯結層200和可氧化附著層300的設置有效實現了鎂鋁合金層100的表面陽極氧化，以得到致密性佳，穩定性強的氧化層400。采用上述方法得到的鎂鋁合金外殼穩定性強、致密性佳、質感優良，讓一直只能作為內置件但具有密度小、比強度高、比彈性模量大、散熱好、消震性好、承受沖擊載荷能力強及耐腐蝕性的鎂鋁合金能夠作為外觀件使用。

可選地，對可氧化附著層300進行陽極氧化，以形成氧化層的步驟完成之前產生的氧化層400背對聯結層200的表面形成蜂窩孔，形成蜂窩孔工序之后對氧化層400的表面進行染色，最后實施封孔工序。在s103步驟中嵌入染色工序能夠使得質感優越的氧化層400添加色彩，使鎂鋁合金外殼具有更美觀，更喜人。

參見圖6，為本發明鎂鋁合金表面處理方法的另一實施方式的流程圖。包括：

s201：在鎂鋁合金層100一側形成聯結層200。

s202：在聯結層200背對鎂鋁合金層100一側形成可氧化附著層300。

s203：對可氧化附著層300進行陽極氧化，以形成氧化層400。

s204：在氧化層400背對聯結層200一側鍍反射層500。

采用濺射鍍膜的方式以硅靶和/或鈦靶為材料在氧化層400背對聯結層200一側鍍反射層500。具體的，沉積時間為150—200秒；可選地，該工序在真空環境下完成。

參見圖7，為本發明鎂鋁合金表面處理方法的又一實施方式的流程圖。包括：

s301：在鎂鋁合金層100一側形成聯結層200。

s302：在聯結層200背對鎂鋁合金層100一側形成可氧化附著層300。

s303：對可氧化附著層300進行陽極氧化，以形成氧化層400。

s304：在氧化層400背對聯結層200一側鍍氟化物層600。

采用濺射鍍膜的方式以氟化物為材料在氧化層背對聯結層一側鍍氟化物層600。具體的，沉積時間為100-150秒；可選地，該工序在真空環境下完成。可以理解的，在其他實施例中，氟化物層600可在其他中間層之外，只要在該方法所制得的產品的最外層即可。例如當方法包括在氧化層上形成反射層時，氟化物層600形成在反射層500上。

具體的，以上三種實施方式的方法得到的產品如上文所描述的鎂鋁合金外殼。

以上所述僅為本發明的實施方式，并非因此限制本發明的專利范圍，凡是利用本發明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發明的專利保護范圍內。