一種光學鏡片生產系統的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種光學鏡片生產系統，包括：清洗裝置、傳送帶裝置和鍍膜裝置；傳送帶裝置設置于清洗裝置與鍍膜裝置之間；清洗裝置包括：清洗池、超聲波振蕩器和鏡片夾持裝置；超聲波振蕩器設置于清洗池的內側壁上；鏡片夾持裝置包括可旋轉地設立于清洗池底部中央的立桿，立桿外側面設有的多個U型夾持框；鍍膜裝置包括：殼體、抽真空裝置和坩堝，所述殼體包括外層殼體、中層殼體和內層殼體，所述外層殼體、中層殼體和內層殼體為密封殼體，真空室以及各殼體之間分別設置有真空泵。本實用新型光學鏡片生產系統提高了光學鏡片的生產效率和產品品質。
【專利說明】
一種光學鏡片生產系統
技術領域
[0001]本實用新型涉及光學鏡片加工技術領域，特別是涉及一種光學鏡片生產系統。
【背景技術】
[0002]光學鏡片加工工序依次包括:銑磨、精磨、拋光、清洗、磨邊、鍍膜、涂墨和膠合。在現有技術中，鏡片清洗通常是將鏡片放置于清洗池內，通過超聲清洗裝置進行清洗，但由于鏡片的面積較大，對超聲清洗裝置產生的超聲波具有一定的阻隔作用，從而使鏡片兩面的清洗效果不一，無法一次有效的清凈鏡片上附著的雜質，需要進行多次清洗，不僅效率低下，重復夾裝鏡片也容易造成鏡片破損。
[0003]真空鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術，在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。其被廣泛應用于生產光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。真空蒸發鍍膜是在真空室中，加熱蒸發容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍膜固體上，即襯底或基片表面，從而凝結形成固態薄膜的方法。現有的真空蒸發鍍膜裝置具有結構簡單，操作容易，制成的薄膜純度高等優點。但在蒸發鍍膜過程都必須在空氣非常稀薄的環境中進行，而現有的真空離子蒸發鍍膜裝置是在真空室內的底部(坩禍旁)設置通向栗來抽真空，不僅抽真空效果不佳，還會影響蒸發容器中逸出的蒸氣流的流動方向，從而使蒸發物原子或分子將與大量空氣分子碰撞，使膜層受到嚴重污染，甚至形成氧化物，并由于空氣分子的碰撞阻擋，難以獲得連續薄膜，所形成的薄膜在基板上的附著力較小，工藝重復性不佳。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型要解決的技術問題，提供一種光學鏡片生產系統，用于解決現有技術中光學鏡片清洗效率低，易破損的問題，以及鍍膜過程中真空條件不佳，難于得到連續薄膜以及薄膜在基板上的附著力較小，工藝重復性不佳的問題。
[0005]本實用新型是這樣實現的:
[0006]—種光學鏡片生產系統，包括:清洗裝置、傳送帶裝置和鍍膜裝置；
[0007]所述傳送帶裝置設置于清洗裝置與鍍膜裝置之間，包括傳送皮帶和皮帶驅動電機；
[0008]所述清洗裝置包括:清洗池、超聲波振蕩器和鏡片夾持裝置；
[0009]所述超聲波振蕩器設置于清洗池的內側壁上；
[0010]所述鏡片夾持裝置包括通過旋轉軸承可旋轉地設立于清洗池底部中央的立桿，以及均勻地設置于立桿外側面的多個U型夾持框，其中，U型夾持框開口朝上并豎直設置于立桿外側面；
[0011]所述立桿的底端延伸至清洗池底面之外并傳動連接于驅動電機；
[0012]所述鍍膜裝置包括:殼體、抽真空裝置和坩禍，所述殼體由外至內依次包括外層殼體、中層殼體和內層殼體，所述外層殼體、中層殼體和內層殼體為密封殼體，內層殼體圍成中央真空室，內層殼體與中層殼體圍成第一夾層空腔，中層殼體與外層殼體圍成第二夾層空腔；
[0013]所述抽真空裝置包括第一真空栗、第二真空栗、第三真空栗和用于檢測真空值的真空壓力傳感器；
[0014]第一真空栗設置于第一夾層空腔內，并通過密封管道與中央真空室連通；
[0015]第二真空栗設置于第二夾層空腔內，并通過密封管道與第一夾層空腔連通；
[0016]第三真空栗設置于外層殼體外，并通過密封管道與第二夾層空腔連通。
[0017]進一步的，所述驅動電機為永磁同步電機。
[0018]進一步的，所述U型夾持框的三個夾持面上分別設置有夾持凹槽。
[0019]進一步的，所述夾持凹槽的材質為橡膠。
[0020]本實用新型具有如下優點:本實用新型光學鏡片生產系統包括了清洗裝置和鍍膜裝置，通過傳送帶裝置連接清洗裝置與鍍膜裝置，可進行清洗與鍍膜操作，提高了鏡片生產效率;進一步的，清洗裝置內設置了超聲振蕩器，鏡片夾持裝置包括可旋轉設置于清洗池中央的立桿和U型夾持框，在清洗時驅動電機可驅動立桿(包括鏡片)在清洗池內旋轉，從而使鏡片的各個方向都能得到有效的清洗，能過一次清洗就能清凈鏡片表面雜質，提高了清洗效率，同時也可避免鏡片多次夾裝造成的破損;并且鍍膜裝置的殼體采用三層密封殼體，并在殼體之間設置有夾層空腔，在不同的夾層空腔內和在殼體外分別設置了真空栗，通過逐層抽真空的方式對中央真空室進行抽真空，大大提高了抽真空的效果，從而使本真空離子蒸發鍍膜裝置能夠制得連續薄膜，提高薄膜在基板上的附著力，以及工藝重復性。
【附圖說明】
[0021 ]圖1為本實用新型實施方式光學鏡片生產系統的結構示意圖；
[0022]圖2為本實用新型實施方式中清洗裝置在豎直方向的剖視圖；
[0023]圖3為本實用新型實施方式中清洗裝置的俯視圖；
[0024]圖4為本實用新型實施方式中鍍膜裝置結構示意圖。
[0025]標號說明:
[0026]1、清洗裝置;2、傳送帶裝置;3、鍍膜裝置；11、清洗池；12、第一超聲波振蕩器；13、立桿；14、光學鏡片；15、驅動電機；16、減速齒輪組；17、第二超聲波振蕩器;21、傳送帶;22、皮帶驅動輪;31、殼體;32、坩禍;33、抽真空裝置;34、基材;35、固定裝置；131、U型夾持框；132、旋轉軸承；311、外層殼體;312、中層殼體；313、內層殼體;314、進料通道；315、艙門；331、第一真空栗;332、第二真空栗;333、第三真空栗;334、真空壓力傳感器;3111、中央真空室;3121、第一夾層空腔;3131、第二夾層空腔。
【具體實施方式】
[0027]為詳細說明本實用新型的技術內容、構造特征、所實現目的及效果，以下結合實施方式并配合附圖詳予說明。
[0028]請參閱圖1，為實用新型實施方式一種光學鏡片生產系統，該光學鏡片生產系統包括清洗裝置1、傳送帶裝置2和鍍膜裝置3;所述清洗裝置I用于清洗光學鏡片，所述鍍膜裝置3用于進行鍍膜操作。所述傳送帶裝置2設置于清洗裝置I與鍍膜裝置3之間，所述傳送帶裝置設置于清洗裝置與鍍膜裝置之間，包括傳送皮帶21和皮帶驅動電機;傳送皮帶21的至少一端設置有皮帶驅動輪22，皮帶驅動電機與皮帶驅動輪傳動連接。
[0029]請參閱圖2，所述清洗裝置包括:清洗池11、第一超聲波振蕩器12、第二超聲波振蕩器17和用于夾裝光學鏡片的鏡片夾持裝置。
[0030]所述清洗池11為方形池子，第一超聲波振蕩器12設置于清洗池11的一內側壁上，第二超聲波振蕩器17設置于清洗池11內與第一超聲波振蕩器12相對的另一內側壁上。第一超聲波振蕩器12和第二超聲波振蕩器17在清洗池內高頻振蕩，從而帶動清洗池內的清洗液一同振蕩來清洗鏡片表面雜質。
[0031]請參閱圖3，所述鏡片夾持裝置包括通過旋轉軸承132可旋轉地設立于清洗池11底部中央的立桿13，以及均勻地設置于立桿12外側面的多個U型夾持框131，其中，U型夾持框131開口朝上并豎直設置于立桿13外側面。清洗時光學鏡片14夾裝于各U型夾持框內，所述U型夾持框131的三個夾持面上分別設置有與光學鏡片厚度相適配的夾持凹槽。為防止鏡片磨損以及便于安裝固定，所述夾持凹槽的材質優選為橡膠。
[0032]所述立桿13連接于驅動電機15，驅動電機15設置于清洗池11的下方，所述立桿13的底端穿透清洗池11的底面，在立桿13的底端設置有齒輪，所述齒輪通過減速齒輪組16傳動連接于驅動電機15。優選的，所述驅動電機為永磁同步電機。
[0033]當清洗時，第一超聲波振蕩器12和第二超聲波振蕩器17上電工作，并且驅動電機15上電旋轉，并通過減速齒輪組16減速后帶動立桿13在清洗池內緩慢勻速旋轉，從而使鏡片的各個方向都能得到有效的清洗，能過一次清洗就能清凈鏡片表面雜質，提高了清洗效率，同時也可避免鏡片多次夾裝造成的破損。為了進一步提高清洗裝置的清洗效率，所述第一超聲波振蕩器12和第二超聲波振蕩器7采用不同的頻率振蕩。
[0034]在本實施方式中，第一超聲波振蕩器12和第二超聲波振蕩器17的內部電路結構為:高頻方波信號發生器(可以采用NE555芯片+外圍電阻搭建)、功率放大電路和晶體振蕩器，其中高頻方波信號發生器與功率放大電路的輸入端連接，功率放大電路的輸出端連接晶體振蕩器。
[0035]當清洗結束后，可通過人工或機械手臂將鏡片轉移至傳送帶裝置上，再通過人工或機械手臂轉移至鍍膜裝置內進行鍍膜。
[0036]請參閱圖4，所述鍍膜裝置3包括殼體31、抽真空裝置33和坩禍32，所述殼體31由外至內依次包括外層殼體311、中層殼體312和內層殼體313，所述外層殼體311、中層殼體312和內層殼體313為密封殼體，內層殼體313圍成中央真空室3111，內層殼體313的內側面設置有內襯，內層殼體313與中層殼體312圍成第一夾層空腔3121，中層殼體312與外層殼體311圍成第二夾層空腔3131。為了便于進出料，在殼體31的側面設置有貫穿外層殼體311、中層殼體312和內層殼體313的進料通道314，在進料通道314上設置有艙門315，艙門315上設置有密封橡膠。
[0037]所述抽真空裝置33包括第一真空栗331、第二真空栗332、第三真空栗333和多個用于檢測真空值的真空壓力傳感器334，所述中央真空室3111、第一夾層空腔3121和第二夾層空腔3131內分別設置有所述真空壓力傳感器334。真空壓力傳感器334用于檢測所在空間的真空值。
[0038]所述第一真空栗331設置于第一夾層空腔3121內，并通過密封管道與中央真空室3111連通，用于對中央真空室3111抽真空;第二真空栗332設置于第二夾層空腔3131內，并通過密封管道與第一夾層空腔3121連通，用于對第一夾層空腔3121抽真空;第三真空栗333設置于外層殼體311外，并通過密封管道與第二夾層空腔3131連通，用于對第二夾層空腔3131抽真空。
[0039]所述坩禍32設置于中央真空室3111的底部，坩禍32的底部設置有加熱裝置，坩禍32的上方設置有用于夾裝鍍膜基材的固定裝置35，鍍膜基材34夾裝于固定裝置35上。優選的，所述加熱裝置為耐高溫的鎢絲，鎢絲通過導線連接于電源。
[0040]待形成薄膜的原材料放置于坩禍32上，在加熱裝置的作用下，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍膜基材表面，凝結形成固態薄膜。
[0041]本實用新型真空離子蒸發鍍膜裝置的殼體采用三層密封殼體，并在殼體之間設置有夾層空腔，并且在不同的夾層空腔內和在殼體外分別設置了真空栗，使每個夾層空腔維持在不同的真空值(中央真空室 > 第一夾層空腔 > 第二夾層空腔)，降低了各級真空栗的抽真空壓力差，通過逐層抽真空的方式對中央真空室進行抽真空，大大提高了抽真空的效果，從而使本真空離子蒸發鍍膜裝置能夠制得連續薄膜，提高薄膜在基板上的附著力，以及工藝重復性。
[0042]為了防止抽真空裝置對蒸氣流的干擾，在本實施方式中，所述中央真空室3111的頂部設置有兩個以上抽氣口，第一真空栗331的密封管道連接于各抽氣口。
[0043]進一步的，為了提高真空栗停止工作時密封管道的氣密性，所述密封管道中分別串聯有單向閥。
[0044]由于薄膜的原材料的蒸氣流帶有較高的溫度，從而使基材34的溫度也逐漸變高，不利于蒸氣流凝結成膜。因此，在一實施方式中，在所述固定裝置的基材固定面設置有半導體制冷片，半導體制冷片的制冷面朝向基材夾裝方向。從而通過半導體制冷片的作用降低基材34的溫度，提高蒸氣流凝結成膜的效果。為了提高半導體制冷片的制冷效果，在半導體制冷片的發熱面還設置了導熱材料(如銅)，通過導熱材料連接于內層殼體，從而使半導體制冷片發熱面的溫度傳遞至內層殼體上。
[0045]以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效形狀或結構變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。
【主權項】
1.一種光學鏡片生產系統，其特征在于，包括:清洗裝置、傳送帶裝置和鍍膜裝置； 所述傳送帶裝置設置于清洗裝置與鍍膜裝置之間，包括傳送皮帶和皮帶驅動電機； 所述清洗裝置包括:清洗池、超聲波振蕩器和鏡片夾持裝置； 所述超聲波振蕩器設置于清洗池的內側壁上； 所述鏡片夾持裝置包括通過旋轉軸承可旋轉地設立于清洗池底部中央的立桿，以及均勻地設置于立桿外側面的多個U型夾持框，其中，U型夾持框開口朝上并豎直設置于立桿外側面； 所述立桿的底端延伸至清洗池底面之外并傳動連接于驅動電機；所述鍍膜裝置包括:殼體、抽真空裝置和坩禍，所述殼體由外至內依次包括外層殼體、中層殼體和內層殼體，所述外層殼體、中層殼體和內層殼體為密封殼體，內層殼體圍成中央真空室，內層殼體與中層殼體圍成第一夾層空腔，中層殼體與外層殼體圍成第二夾層空腔；所述抽真空裝置包括第一真空栗、第二真空栗、第三真空栗和用于檢測真空值的真空壓力傳感器； 第一真空栗設置于第一夾層空腔內，并通過密封管道與中央真空室連通； 第二真空栗設置于第二夾層空腔內，并通過密封管道與第一夾層空腔連通； 第三真空栗設置于外層殼體外，并通過密封管道與第二夾層空腔連通。2.根據權利要求1所述的光學鏡片生產系統，其特征在于，所述驅動電機為永磁同步電機。3.根據權利要求1所述的光學鏡片生產系統，其特征在于，所述U型夾持框的三個夾持面上分別設置有夾持凹槽。4.根據權利要求1所述的光學鏡片生產系統，其特征在于，所述夾持凹槽的材質為橡膠。
【文檔編號】C23C14/56GK205635766SQ201620435504
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年5月13日
【發明人】關振奮
【申請人】晉譜（福建）光電科技有限公司