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一種顆粒狀碳化硅單晶的生長方法與流程

文檔序號:12168869閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題,本發(fā)明提供了一種顆粒狀碳化硅單晶的生長方法,通過使用多孔石墨板上涂覆高碳含量聚合物,在聚合物表面均勻布置小顆粒SiC籽晶,將多孔石墨板非涂覆面固定在石墨坩堝上蓋上,SiC粉料放于石墨坩堝底部,坩堝上蓋與SiC粉料相對放置,石墨坩堝放入感應(yīng)加熱爐中進(jìn)行SiC單晶生長,生長溫度1800℃?2400℃,生長壓力1×10?4Pa?1×104Pa,得到顆粒狀SiC單晶。由此,可以直接得到顆粒狀SiC單晶,避免了切割操作,并且顆粒狀SiC單晶可以直接作為SiC寶石原料,提高了生產(chǎn)率,降低了生產(chǎn)成本。

技術(shù)研發(fā)人員:喬松;楊昆;高宇;鄭清超
受保護(hù)的技術(shù)使用者:河北同光晶體有限公司
文檔號碼:201611125920
技術(shù)研發(fā)日:2016.12.09
技術(shù)公布日:2017.03.08

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