本發(fā)明屬于玻璃精深加工，具體涉及一種可鋼化中低透三銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。

背景技術(shù)：

1、在現(xiàn)代建筑領(lǐng)域，玻璃材料因其美觀、透光和結(jié)構(gòu)特性而成為不可或缺的組成部分。隨著社會對建筑美學(xué)和功能性要求的不斷提升，玻璃不再僅僅作為結(jié)構(gòu)的透明分割，而是逐漸變成一種滿足多種功能需求的智能材料。

2、低輻射玻璃通過在玻璃表面鍍上一層或多層金屬或金屬氧化物薄膜，能夠有效地反射室內(nèi)熱量，減少熱量流失，同時(shí)允許自然光進(jìn)入，提高采光效果。然而，這種玻璃的性能往往與其透光率和遮陽性能之間存在一種權(quán)衡關(guān)系。隨著透光率的提高，雖然采光效果得到改善，但遮陽性能可能會降低。因此需多鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)，使其能夠在保持一定透光率的同時(shí)，也具備良好的遮陽性能，從而實(shí)現(xiàn)建筑的綠色節(jié)能和提升居住者的舒適度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有的技術(shù)存在的上述問題，提供一種可鋼化中低透三銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法，旨在使其具有一定的透過率，同時(shí)還兼具良好的遮陽效果。

2、本發(fā)明的目的可通過下列技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：一種可鋼化中低透三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，本鍍膜玻璃包括玻璃基片層和鍍膜層，所述鍍膜層自玻璃基片層向外依次復(fù)合有十八個(gè)膜層，其中第一層為氮化硅層，第二層為氮化鎳鉻層，第三層氮化硅層，第四層為氧化鋅鋁層,第五層為銀層,第六層為鎳鉻合金層,第七層為氧化鋅鋁層,第八層為氧化鋅錫層，第九層為氧化鋅鋁層，第十層為銀層，第十一層為鎳鉻合金層，第十二層為氧化鋅錫層，第十三層為氧化鋅鋁層,第十四層為銀層，第十五層為鈦層,第十六層為氧化鋅鋁層,第十七層為氮化硅層,第十八層為氧化鋯層。

3、優(yōu)選的，所述第一層的鍍膜厚度為10～40納米，所述第二層的鍍膜厚度為2～10納米，所述第三層的鍍膜厚度為5～10納米，所述第四層的鍍膜厚度為5～10納米，所述第五層的鍍膜厚度為10～15納米；所述第六層的鍍膜厚度為1～3納米；所述第七層的鍍膜厚度為10～15納米；所述第八層的鍍膜厚度為15～30納米；所述第九層的鍍膜厚度為10～20納米；所述第十層的鍍膜厚度為10～20納米；所述第十一層的鍍膜厚度為1～3納米；所述第十二層的鍍膜厚度為30～80納米；所述第十三層的鍍膜厚度為5～20納米；所述第十四層的鍍膜厚度為10～20納米；所述第十五層的鍍膜厚度為1～3納米；所述第十六層的鍍膜厚度為5～10納米；所述第十七層為的鍍膜厚度為15～30米；所述第十八層的鍍膜厚度為5～10納米。

4、制備上述一種可鋼化中低透三銀低輻射鍍膜玻璃的方法，其特征在于，本方法包括如下步驟：

5、1)選用浮法原片作為玻璃基片層；

6、2)使用鍍膜專用洗片機(jī)對玻璃基片層進(jìn)行清洗并干燥，鍍膜前必須保證玻璃基片層的表面干燥、無雜質(zhì)、無靜電；清洗使用去離子水，水質(zhì)電阻要求大于10μs/cm；

7、3)磁控濺射鍍膜

8、a、磁控濺射第一層

9、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1～2個(gè)；靶材配置為硅鋁(sial)；工藝氣體比例：氬氣和氮?dú)?，氬氣和氮?dú)獾谋壤秊?：6；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；

10、b、磁控濺射第二層

11、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材配置為鎳鉻合金(nicr)；工藝氣體比例：氬氣和氮?dú)?，氬氣和氧氣的比例?:1；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；

12、c、磁控濺射第三層

13、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1～2個(gè)；靶材配置為硅鋁(sial)；工藝氣體比例：氬氣和氮?dú)?，氬氣和氧氣的比例?:6；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；

14、d、磁控濺射第四層

15、靶材數(shù)量：直流平面靶2～4個(gè)；靶材配置為鋅鋁合金(znal)；工藝氣體比例：氬氣和氧氣；濺射氣壓為2～3×10-3mbar；

16、e、磁控濺射第五層

17、靶材數(shù)量：直流平面靶1個(gè)；靶材配置為銀(ag)；工藝氣體比例：純氬氣；濺射氣壓為2～3×10-3mbar；

18、f、磁控濺射第六層

19、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材配置為鎳鉻合金(nicr)；工藝氣體比例：純氬氣；濺射氣壓為2～3×10-3mbar；

20、g、磁控濺射第七層

21、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1～2個(gè)；靶材配置為鋅鋁合金(znal)；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為5:9；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；

22、h、磁控濺射第八層

23、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶2～4個(gè)；靶材配置為鋅錫合金(znsn)；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為5:9；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；

24、i、磁控濺射第九層

25、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1～2個(gè)；靶材配置為鋅鋁合金(znal)；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為5:9；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；

26、j、磁控濺射第十層

27、靶材數(shù)量：直流平面靶1個(gè)；靶材配置為銀(ag)；工藝氣體比例：純氬氣；濺射氣壓為2～3×10-3mbar；

28、k、磁控濺射第十一層

29、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶1個(gè)；靶材配置為鎳鉻合金(nicr)；工藝氣體比例：純氬氣；濺射氣壓為2～3×10-3mbar；

30、l、磁控濺射第十二層

31、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶2～5個(gè)；靶材配置為鋅錫合金(znsn)；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為5:9；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；

32、m、磁控濺射第十三層

33、靶材數(shù)量：交流平面靶2～4個(gè)；靶材配置為鋅鋁合金(znal)；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為5:9；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；

34、n、磁控濺射第十四層

35、靶材數(shù)量：直流平面靶1個(gè)；靶材配置為銀(ag)；工藝氣體比例：純氬氣；濺射氣壓為2～3×10-3mbar；

36、o、磁控濺射第十五層

37、靶材數(shù)量：交流平面靶1個(gè)；靶材配置為鈦(ti)；工藝氣體比例：純氬氣；濺射氣壓為2～3×10-3mbar；

38、p、磁控濺射第十六層

39、靶材數(shù)量：交流平面靶2～3個(gè)；靶材配置為鋅鋁合金(znal)；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為5:9；濺射氣壓為3～5×10-3mbar

40、q、磁控濺射第十七層

41、靶材數(shù)量：交流旋轉(zhuǎn)靶3～4個(gè)；靶材配置為硅鋁(sial)；工藝氣體比例：氬氣和氮?dú)猓瑲鍤夂脱鯕獾谋壤秊?:6；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；

42、r、磁控濺射第十八層

43、靶材數(shù)量：交流平面靶1～2個(gè)；靶材配置為鋯(zr)；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為100：3；濺射氣壓為3～5×10-3mbar

44、4)總膜層厚度控制在160～349nm，一般濺射室傳動走速控制在3.0～6.5m/min。

45、本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)：

46、1、本專利技術(shù)產(chǎn)品6mm超白單片透過率透過色t∈[50，60],a*∈[0，-3]，b*∈[-1，+3]；玻面顏色a*∈[-1,-2]，b*∈[-6，-10]；膜面顏色a*∈[0,-15]，b*∈[0，+5]；光熱比性能＞1.9。

47、2、可進(jìn)行異地后續(xù)切割、磨邊、鋼化或彎鋼化等工藝加工，可大面積生產(chǎn)且在長期運(yùn)輸、儲存過程中不易劃傷、氧化。

48、3、本鍍膜玻璃采用氮化硅夾心結(jié)構(gòu)，有效調(diào)節(jié)玻璃反射效果，使其可見光透過色為中性色。

49、4、本鍍膜玻璃中，在最外低輻射功能層(銀層)的上方鍍有鈦層，其在后續(xù)鋼化加工中，兩層相互結(jié)合在一起，形成銀鈦合金層，進(jìn)一步提高玻璃的透過率。

50、5、本鍍膜玻璃中，使用氧化鋅錫作為介質(zhì)層具有較高的光吸收和透射性能，進(jìn)而使本鍍膜玻璃在可見光透過色更為中性。