1.一種真空溶劑再生的制乙烯的反應(yīng)系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括氫炔混合均壓單元、加氫反應(yīng)單元、膜分離單元、真空過濾單元、高溫蒸汽及旋轉(zhuǎn)床再生單元和真空低壓蒸餾單元；
所述加氫反應(yīng)單元包括漿態(tài)床、漿態(tài)床溫控裝置、氣液冷凝分離裝置，其中，所述漿態(tài)床設(shè)有混合氣進(jìn)口、氣體產(chǎn)品出口、凝液進(jìn)口、漿液出口、以及換熱介質(zhì)進(jìn)口、換熱介質(zhì)出口；所述混合氣進(jìn)口連接所述氫炔混合均壓單元；所述漿液出口連接所述真空過濾單元；
所述漿態(tài)床溫控裝置通過所述換熱介質(zhì)出口、換熱介質(zhì)進(jìn)口與所述漿態(tài)床連通；
所述氣液冷凝分離裝置的氣體產(chǎn)品進(jìn)口連接所述漿態(tài)床的氣體產(chǎn)品出口，所述氣液冷凝分離裝置的凝液出口連接所述漿態(tài)床的凝液進(jìn)口，所述氣液冷凝分離裝置的氣體出口連接所述膜分離單元的氣體進(jìn)口；
所述真空過濾單元的液相物料出口連接所述真空低壓蒸餾單元，所述真空過濾單元的固相物料出口連接所述高溫蒸汽及旋轉(zhuǎn)床再生單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述氫炔混合均壓單元為文丘里混合器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述膜分離單元的氫氣出口與所述氫炔混合均壓單元的氫氣入口相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述漿態(tài)床溫控裝置包括電加熱器、冷凝器及溫度自控系統(tǒng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述真空低壓蒸餾單元的溶劑出口連接所述漿態(tài)床的溶劑入口；所述高溫蒸汽及旋轉(zhuǎn)床再生單元包括順序相連的高溫蒸汽洗脫裝置和旋轉(zhuǎn)床，所述旋轉(zhuǎn)床的出料口與所述漿態(tài)床的催化劑入口相連。