專利名稱：涂敷裝置及涂敷方法
技術領域：
本發明涉及涂敷裝置及涂敷方法，尤其是涉及一種在行進的片材上涂敷涂敷液之際，通過吸嘴對形成在涂敷寬度方向兩端部且比目標涂敷膜厚更厚的厚涂部進行吸引的技術。
背景技術：
在行進的帶狀的片材通過例如桿涂敷裝置來連續涂敷涂敷液的情況下，大多在涂敷寬度方向的兩端部形成有涂敷得比目標涂敷膜厚更厚的厚涂部。
尤其是，在以比較低的片材張力來行進(與搬運同義)片材且以高涂敷量連續地高速涂敷具有比較高的表面張力、高粘度的涂敷液的情況下下，厚涂部的寬度也變寬，且相對于目標涂敷膜厚的厚涂部的厚涂比也增高。另外，當在涂敷之前的片材兩端部形成有滾花時，厚涂部的厚涂比容易進一步變大。厚涂比在將目標涂敷膜厚設為d(濕膜厚)而將厚涂部的高度設為H時，以H/d來表示。
厚涂部的厚涂比與目標涂敷膜厚相比通常為1. 5倍以上，在有上述滾花的情況下往往也超過2倍 3倍。另外，厚涂部的涂敷寬度方向上的寬度也從3mm前后達到20mm以上。
當存在厚涂部時，會引發在干燥區域中厚涂部未干透而弄搬運輥、或由于片材的卷取而引起片材彼此粘結之類等的制造方面的大問題。
另一方面，作為該厚涂部的對策，如專利文獻I所示，進行通過吸嘴對厚涂部進行吸引的方法。在這種情況下，在厚涂比較大時往往提高吸引壓力來進行對應。
在先技術文獻
專利文獻
專利文獻I日本特開平7-299410號公報
但是，當過于增高吸引壓力時，會在行進的片材上產生抖動，無法實現片材的穩定搬運。尤其是，在片材的搬運中途有片材浮起工序、或作為片材表面的附帶傷痕對策而以比較低的片材張力來搬運的情形中，往往是無法提高吸引壓力的。因而，通過吸嘴來吸引厚涂部的方法需要以比較低的吸引壓力來提高吸引效率。
另外，當為了提高吸引壓力而使吸嘴過于接近片材時，存在產生片材的接合部或片材耳部的抖動、或吸嘴前端與片材的凹處^)沖撞而使片材切斷的危險，成為引發重大故障的原因。
另外，當在吸嘴前端的外壁面上附著并殘存有所吸引的涂敷液時，隨著時間的經過所附著的涂敷液干燥而粘著堆積，最終導致妨礙吸引。
從這樣的背景出發，期望即便是比較低的吸引壓力，也能夠有效地對厚涂部的涂敷液進行吸引的技術。發明內容
本發明就是鑒于這樣的情況而作出的，在行進的片材上涂敷涂敷液之際，能夠通過吸嘴比現有技術更為有效地吸引厚涂部，因此，能夠使吸引壓力比較小，從而消除行進的片材發生抖動等的不良狀況的涂敷裝置及涂敷方法。
為了實現所述目的，本發明提供一種涂敷裝置，其具備吸嘴，在行進的帶狀的片材上涂敷涂敷液之際，該吸嘴對形成在涂敷寬度方向兩端部且比目標涂敷膜厚更厚的厚涂部進行吸引，其中，所述吸嘴的涂敷寬度方向上的吸引面寬度Do及吸引口寬度Di在所述厚涂部的涂敷寬度方向上的寬度為W及高度為H、所述片材與所述吸引面之間的間隙為L時，滿足下述的式I及式2。
W ( Do...(式 I)、W*H/L 彡 Di < Do-1mm...(式 2)。
根據本發明的涂敷裝置，吸嘴的涂敷寬度方向上的吸引面寬度Do及吸引口寬度 Di在厚涂部的寬度W、高度H及間隙的關系中，滿足上述式I及式2，因此，在行進的片材上涂敷涂敷液之際使通過吸嘴吸引厚涂部的吸引能力與現·有技術相比更為顯著提高。因而， 能夠使吸引壓力比較小地抑制行進的片材的抖動，同時能夠確保厚涂部高的吸引性能。
在本發明的涂敷裝置中，優選的是，所述吸嘴具有將吸引壓力設定在30 ISOkPa 的范圍內的吸引壓力調整機構。
其示出了在使用滿足上述式I及式2的吸嘴來吸引厚涂部的情況下，將片材的抖動抑制至沒有問題的程度時的吸引壓力的范圍，只要處于該范圍內，就能夠始終維持吸嘴的吸引性能地抑制片材的抖動。
在本發明的涂敷裝置中，優選的是，所述吸引面相對于所述厚涂部具有凹狀的吸引面。
通過吸引面具有相對于厚涂部的凹狀形狀，由此與滿足上述式I及式2協同作用地，使厚涂部的涂敷液變得易于吸引口吸入，從而能夠進一步地提高厚涂部的吸引性能。另夕卜，在吸引面外側的吸嘴外壁面上難以附著涂敷液。
在本發明的涂敷裝置中，優選的是，具有所述吸引面寬度Do不同的多個吸嘴；將所述吸嘴支承為沿著鉛垂方向滑動自如的主體；使所述吸嘴沿著鉛垂方向滑動移動的移動機構；相對于所述主體拆裝所述吸嘴的拆裝機構。
根據本發明，厚涂部的寬度和高度根據涂敷液的組成或物性、及滾花的有無等的涂敷條件而不同。
在本發明的涂敷裝置的方式中，準備吸引面寬度Do不同的多個吸嘴，并設有相對于支承吸嘴的主體而能夠拆裝的機構，故能夠基于厚涂部的寬度來使用適當的吸嘴。由此， 能夠簡單地滿足式I的W < Do的條件。
另外，使吸嘴相對于主體而能夠沿著鉛垂方向滑動移動，故能夠對式2的W*H/ LSDi中的間隙L進行調整。由此，即便改變吸引口寬度Di也能夠滿足式2。需要說明的是，式2的Di < Do-1mm的條件也可以預先形成在吸嘴中。
為了實現所述目的，本發明提供一種涂敷方法，其具備吸引工序，在該工序中，在行進的帶狀的片材上涂敷涂敷液之際，通過吸嘴對形成在涂敷寬度方向兩端部且比目標涂敷膜厚更厚的厚涂部進行吸引，其中，所述吸引工序包括測定所述厚涂部的高度H和所述涂敷寬度方向上的厚涂寬度W的厚涂部測定工序；根據所述測定出的厚涂寬度W，將所述吸嘴的吸引面的所述涂敷寬度方向上的吸引面寬度Do設定為W < Do的吸引面寬度設定工序；根據所述測定出的厚涂部的高度H和從所述片材至所述吸引面的間隙L，將所述吸嘴的所述涂敷寬度方向上的吸引口寬度Di設定為滿足W*H/L彡Di < Do-1mm的吸引口寬度設定工序。
根據本發明的涂敷方法，測定厚涂部的高度H和寬度W，并根據該結果，將吸嘴的吸引面寬度Do和吸引口寬度Di設定為滿足W彡Do及W*H/L彡Di < Do-lmm。
由此，在行進的片材上涂敷涂敷液之際，能夠與現有技術相比更為有效地通過吸嘴吸引厚涂部。因而，能夠使吸引壓力比較小地抑制行進的片材的抖動，同時能夠確保厚涂部高的吸引性能。
在本發明的涂敷方法中，優選的是，在所述吸引面寬度設定工序中，準備滿足所述 Di < Do-1mm且吸引面寬度Do不同的多個吸嘴，并根據所述厚涂部寬度的測定結果來選擇滿足所述W < Do的吸嘴，在所述吸引口寬度設定工序中，通過對所述選擇出的吸嘴的所述間隙L進行調整來滿足所述W*H/L ( Di。
其是用于滿足上述的W彡Do及W*H/L彡Di < Do-1mm的優選具體例，準備滿足Di < Do-1mm且吸引面寬度不同的多個吸嘴。然后，根據測定出的厚涂部的寬度W，從多個準備的吸嘴之中選擇使用滿足W彡Do的吸嘴。另外，根據厚涂部的高度H，以滿足W*H/L ( Di 的方式對片材和吸引面的間隙進行調整。
在本發明的涂敷方法中，優選的是，將所述吸嘴的吸引壓力設定在30 180kPa的范圍內。
其示出了在吸引工序中將片材的抖動抑制至沒有問題的程度時的吸引壓力的范圍，只要處于該范圍內，就能夠始終維持吸嘴的吸引性能地抑制片材的抖動。
發明效果
根據本發明的涂敷裝置及涂敷方法，在行進的片材上涂敷涂敷液之際，能夠與現有技術相比更為有效地通過吸嘴對厚涂部進行吸引，因此，能夠使吸引壓力比較小，從而消除行進的片材發生抖動等不良狀況。


圖1是表示本發明的實施方式中的涂敷裝置的整體結構的側視圖。
圖2是說明厚涂部的說明圖。
圖3是通過吸嘴對厚涂部進行吸引的圖。
圖4是說明本發明的涂敷裝置中所具備的吸嘴的說明圖。
圖5是說明吸嘴的吸引面及吸引口的各種方式的說明圖。
圖6是具備吸嘴的周邊構件的吸引裝置的說明圖。
圖7是吸引裝置的另一方式的說明圖。
圖8是實施例中的試驗A的條件及結果的表圖。
圖9是實施例中的試驗B的條件及結果的表圖。
圖10是對比本發明和現有技術技術中的厚涂部的吸引性能的說明圖。
圖11是對比本發明和現有技術技術中的吸嘴污垢的說明圖。
圖12是實施例中的試驗C的條件及結果的表圖。
圖13是實施例中的試驗D的條件及結果的表圖。
符號說明
10...桿涂敷裝置
12...桿涂敷頭
14,16...引導輥
15(15A、15B). · ·吸嘴
18...片材
20.··桿
22...桿承受機構
24...供液路
26...排液路
28···上游側內澆道機構
30...下游側內澆道機構
32...岐管
34...狹槽
36··· —次側焊道
38...岐管
40...狹槽
42...涂敷膜
43···厚涂部
44...滾花
46···噴出管
47...清洗液供給配管
48···吸引通路
48A...吸引通路的內壁面
50···吸引口
52···吸引配管
54...吸引面
56···吸嘴外壁面
58···吸引裝置
60. · ·主體
62...移動機構
64...拆裝機構
66...導軌
68...滑塊
70···線性引導件
72···懸掛構件
74...電動機
76...滾珠絲杠
78(78A、78B、78C)…吸引面板
A...涂敷液
B...清洗液具體實施方式
以下，參考添加附圖，對本發明所涉及的涂敷裝置及涂敷方法的最佳實施方式進 行詳細敘述。
圖1是表示本發明的涂敷裝置的一實施方式的桿涂敷裝置的側視剖視圖。
如圖1所示，桿涂敷裝置10主要具有桿涂敷頭12 ;夾著該桿涂敷頭12而設置在 片材行進方向的上游側和下游側上的一對引導輥14、16 ;吸嘴15。
并且，在將片材18搭接在桿涂敷頭12的桿20上的狀態下進行涂敷涂敷液A之際， 通過吸嘴15對形成在涂敷寬度方向兩端部且比目標涂敷膜厚更厚的厚涂部43 (參考圖2) 進行吸引。
桿涂敷頭12主要包括兩端由未圖示的軸承而支承為旋轉自如地桿(線束 桿)20 ;在該桿20的整個長度上支承于支承面22k上的桿承受機構22 ;在比桿承受機構22 靠上游側且在與桿承受機構22之間形成涂敷液A的供液路24的上游側內澆道機構28 ;在 比桿承受機構22靠下游側，形成排出剩余的涂敷液A的排液路26的下游側內澆道機構30。
供液路24由岐管32和狹槽34構成，且向岐管32供給的涂敷液A經由狹槽34而 沿著片材18的寬度方向被均勻地壓出。由此，在相對于桿20的片材18的行進方向上的上 游側(以下，稱之為“一次側”)形成有一次側焊道36。
排液路26由岐管38和狹槽40構成，且在桿20表面上流下的剩余的涂敷液A經 由狹槽40而向岐管38回收。向岐管38回收的剩余的涂敷液A通過未圖示的吸引泵等而 向岐管38外排出。在該桿20表面上流下的剩余涂敷液以使桿20與桿承受機構22之間不 卷入空氣的方式發生作用。
形成這些一次側的焊道36的涂敷液A借助旋轉的桿20而被拾取，由此涂敷在與 桿20搭接并連續行進的片材18上。從供液路24向一次側焊道36供給的涂敷液A之中剩 余的涂敷液A在狹槽40及上游側內澆道機構28的外側28A流下。
桿20的旋轉無論是借助片材18的行進而從動旋轉的情況，還是設有驅動源來旋 轉驅動情況中的任一者均可，另外，旋轉驅動的方向無論是向與片材18的行進方向的相同 方向的旋轉，還是向相反方向的旋轉均可。
在這樣的桿涂敷中，如圖2所示，大多通過涂敷在片材18上的涂敷液A來形成涂 敷膜42，并且在涂敷膜42的涂敷寬度方向的兩端部(圖2中示出一端側)形成有涂敷得比 目標涂敷膜厚d(濕膜厚)厚的厚涂部43。因而，如圖3所示，通過一對吸嘴15、15來吸引 厚涂部43 (黑色的粗線)。由此，防止在涂敷工序之后的干燥裝置中厚涂部43不干透而弄 臟搬運輥、或由于片材18的卷取而引發片材彼此粘結等的制造方面的不良狀況。
尤其是，在以比較低的片材張力來行進(與搬運同義)片材18且以高涂敷量連續 地高速涂敷具有比較高的表面張力、高粘度的涂敷液的情況下，厚涂部43的寬度W也變寬， 相對于目標涂敷膜厚d的厚涂部43的高度H也增高，從而厚涂比(H/d)變大。另外，當在 涂敷之前的片材兩端部形成有滾花44 (微細的凹凸)時，厚涂部43的厚涂比容易進一步變 大。
需要說明的是，在本實施方式中以桿涂敷為例進行了說明，但即便在桿涂敷以外的涂敷方法中進行，形成厚涂部43也是同樣的。
圖4是配置在厚涂部43的上方的吸嘴15的側視剖視圖。
如圖4所示，吸嘴15構成為雙重管結構，在雙重管的中心軸部設有清洗液B的噴出管46。噴出管46的噴出孔46A從該噴出管46的前端部朝向吸嘴15的吸引通路48的內壁面48A地設置多個，且形成為使清洗液B不直接與厚涂部43碰觸。從噴出管46的噴出孔46A噴出的清洗液B的噴出角度Θ也因吸嘴的結構而不同，但相對于噴出管46的中心軸為20°以上，優選為30°以上。噴出孔46A的孔徑為O. 2 3mm，更優選為O. 7 1. 5mm 左右較佳。另外，噴出管46的前端直徑為3 10mm，更優選為4 8mm左右較佳。
在吸嘴15的上部連接有向噴出管46供給清洗液B的清洗液供給配管47，其與未圖示的清洗液供給罐及送液泵連接。作為清洗液B，優選相對于涂敷液A具有溶解性的物質，例如可以使用水、有機溶劑、這些物質的混合液。
另外，在吸嘴15的上部側面連接有與吸引通路48連通而對吸引口 50賦予吸引壓力的吸引配管52，其經由未圖示的收集罐而與真空泵連接。另外，在吸引配管52上設有對吸引壓力進行調整的調整閥53。
由此，當驅動吸嘴15時，從形成在吸嘴15前端的吸引面54上的吸引口 50吸引厚涂部43的涂敷液A，并且從噴出管46朝向吸引通路48的內壁面48A噴出清洗液B。然后， 將從厚涂部43吸引到吸嘴15內的涂敷液A和從噴出管46噴出到吸嘴15內的清洗液B通過吸引通路48而從吸引配管52向吸嘴15外排出(參考圖11)。
為了提高排氣能力，使吸嘴15的內徑從前端部逐漸擴大、或者如圖4所示那樣階段性地擴大，從而使壓力損失盡可能地減少較佳。這樣的結構通過供給清洗液B的本發明的模式而能夠實現。
這樣的吸嘴15的吸引面54的寬度Do及吸引口 50的寬度Di在厚涂部43的寬度 W及高度H和吸嘴15的吸引面54與片材18面之間的間隙L的關系中，滿足下述的式I及式2是重要的。
W SDo…(式 I)
W*H/L 彡 Di < Do-1mm…(式 2)
此處，
Do…吸引面的涂敷寬度方向的寬度
Di···吸引口的涂敷寬度方向的寬度
W…厚涂部的涂敷寬度方向的寬度
H…厚涂部的高度
L···片材與吸引面之間的間隙
吸嘴15的吸引面54的寬度Do及吸引口 50的寬度Di通過滿足上述的式I及式 2，在行進的片材18上涂敷涂敷液A之際，能夠使由吸嘴15吸引厚涂部43的吸引性能與現有技術相比得到顯著提高。因而，能夠使吸引壓力P變得比較小而抑制行進的片材18的抖動，同時以較高的吸引效率來吸引厚涂部43。
為了抑制片材18的抖動，對吸引壓力調整閥53的開度進行調整，優選將吸嘴15 的吸引壓力P設定在30 180kPa的范圍內，更優選為設定在30 150kPa的范圍內。在此，吸引壓力P(kPa)作為大氣壓Po(kPa)和吸引通路48的壓力Pi(kPa)之差(Po-Pi)來表示。若吸引壓力小于30kPa，則無法充分地吸引除去厚涂部43，若吸引壓力超過180kPa， 則無法抑制片材18的抖動。
優選涂敷速度為20 120m/分鐘的范圍。若涂敷速度超過120m/分鐘，則不但會給涂敷膜42的品質帶來惡劣影響，而且吸嘴15的吸引性能也容易降低。
在上述式2中，顯然間隙L比厚涂部43的高度H高，但優選作為上限值為 ImmdOOO μ m)。若間隙L超過1mm，則也有可能給吸嘴15的吸引性能帶來惡劣影響。
優選的是，目標涂敷膜厚d以濕膜厚計為5 100 μ m的范圍。
作為片材18，只要是可撓性的支承體，尤其是沒有限制，可以使用塑料膜(例如 PET膜)、金屬膜(例如鋁膜)等。在使用PET膜的情況下，優選為可以使用厚50 300 μ m 的PET膜，在使用鋁膜的情況下，優選為可以使用厚O.1 O. 3mm厚的鋁膜。
圖5A 圖5C示出了吸嘴15的吸引面54及吸引口 50的形狀、及吸引面54的凹形狀的各種方式。圖5B是從箭頭a方向觀察圖5A的吸嘴15時的圖，圖5C是沿著圖5A的 b-b線的縱向剖視圖。
如圖5B所示，吸嘴15的吸引面54優選能夠使用圓板狀、正方形或者長方形，且優選與吸引面54的形狀相匹配地形成吸引口 50的形狀。
另外，如圖5C所示，除平坦的吸引面54A以外，可以優選采用相對于厚涂部43而向內側 彎曲的吸引面54B、或者相對于厚涂部43而向內側呈梯形狀彎曲的吸引面54C。
吸引面54具有相對于厚涂部43而言例如圖5的54B或54C那樣的凹狀形狀，由此與滿足上述式I及式2協同作用地，使厚涂部43的涂敷液A變得易于向吸引口 50吸入， 從而能夠進一步地提高厚涂部43的吸引性能。另外，在吸引面54外側的吸嘴外壁面56上難以附著涂敷液。
吸嘴外壁面56相對于吸引面54的角度Θ優選為20 45°的范圍。
另外，厚涂部43的寬度W和高度H因涂敷液A的組成或物性、及滾花44的有無等的涂敷條件而不同。因而，吸引面寬度Do及吸引口寬度Di在恒定的一個吸嘴15中，是難以滿足上述式I及式2的。
圖6是以能夠基于厚涂部43的寬度W和高度H來簡單地滿足上述式I及式2的方式而構成的吸引裝置58。
如圖6所示，吸引裝置58包括吸引面寬度Do不同的多個吸嘴15(15A、15B);將吸嘴15支承為沿著鉛垂方向滑動自如的主體60 ;使吸嘴15沿著鉛垂方向滑動移動的移動機構62 ;相對于主體60拆裝吸嘴15的拆裝機構64。需要說明的是，在圖6中，以兩座吸嘴 15AU5B為例進行了說明，但也可以是三座以上。
S卩，在吸嘴15的附近設有對吸嘴15進行支承的倒L字型的主體60。在該主體60 側面上沿著鉛垂方向設有導軌66，構成拆裝機構64的一方側的滑塊68經由線性引導件70 而滑動自如地支承在導軌66上。在滑塊68上形成有第一嵌合部68A。
另一方面，在吸嘴15的導軌側側面上形成有構成拆裝機構64的另一方側且與滑塊68的第一嵌合部嵌合的第二嵌合部68B。拆裝機構64為將吸嘴15支承為相對于滑塊 68拆裝自如簡單的機構，但并不局限于所述的第一嵌合部68A和第二嵌合部68B的嵌合。
另外，在吸嘴15的上表面設有門型的懸掛構件72，并且，與設置在主體60上的能夠正反旋轉的電動機74連結的滾珠絲杠76向下方延伸設置，并與懸掛構件72的形成有陰螺紋的孔72A螺合。由此，通過使電動機74正反旋轉而使滾珠絲杠76旋轉，從而使吸嘴15 沿著上下方向移動需要說明的是，也可以不使用電動機74而通過手動來使滾珠絲杠76旋轉。
接著，對于通過具備圖6所示的吸引裝置58的桿涂敷裝置10，將涂敷液涂敷在行進的片材18上的涂敷方法進行說明。
預先進行試驗涂敷，并用測定器(未圖示)來測定厚涂部43的寬度W和高度H。 測定即可以是離線方式測定，也可以是在線方式測定。
接著，從準備多個的吸引面寬度Do不同的吸嘴15(15A、15B)之中，根據測定出的厚涂寬度W來選擇吸引面寬度Do滿足u式I的W < Do的吸嘴15B，并將該吸嘴15B安裝在滑塊68上。
接著，根據測定出的厚涂部43的高度H，以使吸引口寬度Di滿足式2的W*H/ L^Di的方式，使所述安裝的吸嘴15B沿著鉛垂方向滑動而調整間隙L。需要說明的是，對于式2的Di < Do-1mm的條件而言，在準備多個的吸嘴15中預先設定。
通過以上工作結束涂敷準備，故開始涂敷運轉，并且將吸嘴15的吸引壓力設定在比現有技術小的30 180kPa的范圍內。
由此，能夠根據厚涂部43的寬度W及高度H，以滿足上述式I及式2的方式通過吸嘴15來吸引厚涂部43，故能夠比現有技術更為有效地吸引厚涂部43。因而，能夠使吸引壓力P比現有技術小，從而能夠消除在行進的片材18上產生抖動，而使吸嘴前端與片材18接觸等的不良狀況。
需要說明的是，在圖6中，設有拆裝機構而能夠更換吸嘴整體，但如圖7所示，也可以準備吸引面寬度Do不同的多個吸引面板78A、78B、78C，從而能夠與形成在吸嘴15的前端部上的嵌合部80拆裝自如地嵌合。在這種情況下，無需圖6的拆裝機構64，而能夠將吸嘴 15經由線性引導件70直接支承在導軌66上。
[實施例1]
接著，在行進的帶狀的片材18上涂敷涂敷液A之際，關于采用滿足本發明的吸引條件的吸嘴15對厚涂部43進行吸引的情況和采用不滿足本發明的條件的吸嘴15對厚涂部43進行吸引的情況下進行試驗，調查了厚涂部43的“吸引性能”及吸嘴前端部的“吸嘴污垢”及“片材的抖動”。
[試驗A]
首先，通過改變涂敷液A的粘度、表面張力、目標涂敷膜厚d、滾花44的有無的涂敷條件，來對厚涂部的寬度W、厚涂部的高度H及厚涂比(H/d)如何變化進行了調查。
(涂敷條件及厚涂部的吸引條件)
*涂敷液的組成…作為涂敷液使用包含30質量％的氧化鈦粒子的聚氨酯水溶液， 對于涂敷液的粘度實施2、5、10、15mPas(cP)的4個級別，對于表面張力實施30、40、50dyn/ cm的3個級別
*涂敷速度…50m/分鐘
*目標涂敷膜厚d…實施15、30、45的3個級別
*涂敷裝置· · ·使用桿涂敷裝置
*片材…使用厚度250μπι的PE T(聚對苯二甲酸乙二醇酯)膜
*滾花…實施有無的2個級別
* 間隙 L...以 200 μ m 實施
*吸嘴的吸引壓力…以IOOkPa實施
*清洗液…使用水
(試驗結果)
如圖8的表I的試驗I 15所示，通過改變涂敷液A的粘度、表面張力、目標涂敷膜厚d、滾花44的有無的涂敷條件，從而厚涂部43的寬度W在5 16mm的范圍內變化，厚涂部43的高度H在19. 5 135 μ m的范圍內變化及厚涂比(H/d)在1. 3 3. O的范圍內變化。
[試驗B]
在試驗B中，對于試驗A中的試驗I 15之中的無滾花44的試驗7及試驗9，關于采用滿足本發明的吸引條件的吸嘴15對厚涂部43進行吸引的情況和采用不滿足本發明的條件的吸嘴15對厚涂部43進行吸引的情況下進行試驗，對比了“厚涂部的吸引性能”和 “吸嘴污垢”。
(本發明的吸引條件)
本發明的吸引條件滿足上述的式I及式2。·
(評價方法)
“厚涂部的吸引性能”通過吸引后的厚涂部43的寬度W和厚涂比(H/d)來評價，將吸引后的厚涂部43的寬度為吸引前的厚涂部43的寬度的1/2以下、厚涂比(H/d)為I以下設為合格。需要說明的是，在表2的吸引后的厚涂部43的寬度W中，的記載是指沒有厚涂部而無法測定寬度W的含義。以后說明的表3、表4中也是同樣的。
另外，對于“吸嘴污垢”而言按以下內容進行評價，將吸引到吸嘴前端部的外壁面 56上的涂敷液A的附著較多且污垢較嚴重的情況設為X，將涂敷液A的附著較少且污垢也不怎么嚴重的情況設為Λ，將沒有涂敷液A的附著且未被污染的情況設為〇。并且，〇設為合格。
(試驗結果)
圖9的表2表不試驗結果。
*試驗7-1…不滿足式I及式2的W*H/L ( Di。
*試驗7-2…不滿足式I及式2的W*H/L ( Di。
*試驗7-3...滿足式I但不滿足式2的W*H/L ( Di。
*試驗7-4…滿足式I及式2。
*試驗7-5···滿足式I及式2。
*試驗7-6···滿足式I及式2。
*試驗7-7…滿足式I但不滿足式2的Di < Do-lmm。
*試驗9-1…不滿足式I及式2的W*H/L ( Di。
*試驗9-2...滿足式I但不滿足式2的W*H/L ( Di。
*試驗9-3···滿足式I及式2。
*試驗9-4···滿足式I及式2。
*試驗9-5···滿足式I及式2。
*試驗9-6…滿足式I及式2但間隙L比厚涂部的高度H低。
從上述的試驗結果可知，對于涂敷條件而言，即便厚涂部43的狀態發生變化，但通過使用滿足本發明的吸引條件(式I及式2)的吸嘴15，“厚涂部的吸引性能”顯著得到改善。即，如圖1OA所示，厚涂部43的涂敷液A在寬度整體上被吸引除去。另外，如圖1lA 所示，從厚涂部43吸引出的涂敷液A不會附著在吸嘴外壁面56上，而是與清洗液B —同通過吸引通路48而向吸嘴15外排出。即，可見“吸嘴污垢”的顯著改善。尤其是，式I的 W^Do的條件對于改善“厚涂部的吸引性能”及“吸嘴污垢”的效果大。
與其相對，在使用不滿足本發明的吸引條件(式I及式2)的吸嘴15的情況下，如圖1OB所示，無法將厚涂部43的涂敷液吸引除去至目標涂敷膜厚d以下，厚涂比超過了 I。 另外，如圖1lB所示，從厚涂部43吸引出的涂敷液A附著在吸嘴外壁面56上，產生了“吸嘴污垢”。
需要說明的是，試驗9-6雖然滿足式I及式2，但由于間隙L比厚涂部43的高度H 低，故形成“厚涂部的吸引性能”及“吸嘴污垢”一并較差的結果。將間隙L設定得比厚涂部43的高度H高這樣的吸引條件為常見的情況，故可以不必認為包含在本發明的吸引條件中，但也可以認為包含在本發明的吸引條件中。
[試驗C]
在試驗C中，對于試驗A中的試驗I 15之中的有滾花44的試驗3及試驗15，與試驗B同樣地進行。
滾花44形成為，在離片材寬度方向的端5mm 15mm寬度的片材面上沿著片材長度方向而使微小凹凸高度成為10 μ m。
試驗C中的本發明的吸引條件及評價方法與試驗B同樣 故省略，以下對試驗結果進行說明。
(試驗結果)
圖12的表3表不試驗結果。
*試驗3-1···滿足式I及式2。
*試驗3-2…滿足式I及式2。
*試驗3-3···滿足式I及式2。
*試驗3-4…滿足式I及式2。
*試驗3-5···滿足式I及式2。
*試驗3-6…滿足式I及式2。
*試驗15-1…滿足式I但不滿足式2的Di < Do-lmm。
*試驗15-2…不滿足式I及式2。
*試驗15-3…不滿足式I但滿足式2。
*試驗15-4…滿足式I及式2。
*試驗15-5…滿足式I及式2。
*試驗15-6…滿足式I及式2。
從上述的試驗結果可知，在有滾花44的情況下，成為與試驗B同樣的試驗結果，無論滾花44的是否有無，均能夠適用本發明。即，通過使用滿足發明的吸引條件(式I及式2)的吸嘴15，在“厚涂部的吸引性能”及“吸嘴污垢”這兩方中均成為良好的結果。
與其相對，在使用不滿足本發明的吸引條件(式I及式2)的吸嘴15的情況下，成為“厚涂部的吸引性能”及“吸嘴污垢”中的至少一方較差的結果。
[試驗D]
在試驗D中，對于試驗C中獲得良好的結果的試驗3-4及試驗3-11，關于在改變吸嘴15的吸引壓力時，吸嘴15的“厚涂部的吸引性能”和“吸嘴污垢”、及行進的片材18的 “片材抖動”如何變化進行了試驗。
(評價方法)
“吸嘴污垢”與上述同樣。另外，“片材抖動”通過目視來評價，將片材18的抖動完全沒有的情況設為〇，將稍微存在抖動但沒有向吸嘴15的接觸的情況設為Λ，將由于抖動而導致片材18與吸嘴15接觸的情況設為X。并且，Λ以上設為合格。
(試驗結果)
圖13的表4表示試驗結果。
*試驗3-4-1…吸引壓力為IOkPa的情況
*試驗3-4-2…吸引壓力為30kPa的情況
*試驗3-4-3…吸引壓力為IOOkPa的情況
*試驗3-4-4…吸引壓力為150kPa的情況
*試驗3-4-5…吸引壓力為180kPa的情況
*試驗3-4-6…吸引壓力為200kPa的情況
*試驗3-11-1…吸引壓力為30kPa的情況
*試驗3-11-2…吸引壓力為50kPa的情況
*試驗3-11-3…吸引壓力為IOOkPa的情況
*試驗3-11-4…吸引壓力為150kPa的情況
*試驗3-11-5…吸引壓力為180kPa的情況
*試驗3-11-6…吸引壓力為200kPa的情況
*試驗3-11-7…吸引壓力為220kPa的情況
從圖13的表4的結果可知，在試驗3-4-1那樣吸引壓力過低至IOkPa的情況下， 沒有“片材抖動”，但在“厚涂部的吸引性能”及“吸嘴污垢”的評價中，在吸引后也容易殘留厚涂部43，且還容易產生吸嘴外壁面56的吸嘴污垢。
另外，在試驗3-4-20及試驗3-11-7那樣吸引壓力過高至200kPa以上的情況下， “厚涂部的吸引性能”及“吸嘴污垢”的評價良好，但片材抖動成為X。
與其相對，如試驗3_4_2 試驗3_4_6、及試驗3_11_1 試驗3_11_6那樣，吸引壓力在30 ISOkPa的范圍內的話，可知“厚涂部的吸引性能”及“吸嘴污垢”的評價良好，并且片材抖動得到顯著抑制。尤其是，吸引壓力在30 150kPa的范圍內的話，完全無法觀察到片材抖動。
因而可知，為了關于“厚涂部的吸引性能”、“吸嘴污垢”、“片材抖動”全部獲得良好的結果，吸嘴15除了滿足上述式I及式2以外，優選將吸引壓力設定在30 ISOkPa的范圍內，更優選設定在30 150Pa的范圍內。
權利要求
1.一種涂敷裝置，其具備吸嘴，在行進的帶狀的片材上涂敷涂敷液之際，該吸嘴對形成在涂敷寬度方向兩端部且比目標涂敷膜厚更厚的厚涂部進行吸引，其中， 所述吸嘴的涂敷寬度方向上的吸引面寬度Do及吸引口寬度Di在所述厚涂部的涂敷寬度方向上的寬度為W及高度為H、所述片材與所述吸引面之間的間隙為L時，滿足下述的式I及式2， W≤Do…(式I) W*H/L ≤ Di < Do-1mm…(式 2)。
2.如權利要求1所述的涂敷裝置，其中， 所述吸嘴具有將吸引壓力設定在30 ISOkPa的范圍內的吸引壓力調整機構。
3.如權利要求1或2所述的涂敷裝置，其中， 所述吸引面相對于所述厚涂部具有凹狀的吸引面。
4.如權利要求1或2所述的涂敷裝置，其中， 具有 所述吸引面寬度Do不同的多個吸嘴； 將所述吸嘴支承為沿著鉛垂方向滑動自如的主體； 使所述吸嘴沿著鉛垂方向滑動移動的移動機構； 相對于所述主體拆裝所述吸嘴的拆裝機構。
5.一種涂敷方法，其具備吸引工序，該吸引工序中，在行進的帶狀的片材上涂敷涂敷液之際，通過吸嘴對形成在涂敷寬度方向兩端部且比目標涂敷膜厚更厚的厚涂部進行吸引，其中， 所述吸引工序包括 測定所述厚涂部的高度H和所述涂敷寬度方向上的厚涂寬度W的厚涂部測定工序；根據所述測定出的厚涂寬度W，將所述吸嘴的吸引面的所述涂敷寬度方向上的吸引面寬度Do設定為W < Do的吸引面寬度設定工序； 根據所述測定出的厚涂部的高度H和從所述片材到所述吸引面的間隙L，將所述吸嘴的所述涂敷寬度方向上的吸引口寬度Di設定為滿足W*H/L彡Di < Do-1mm的吸引口寬度設定工序。
6.如權利要求5所述的涂敷方法，其中， 在所述吸引面寬度設定工序中，準備滿足所述Di < Do-1mm且吸引面寬度Do不同的多個吸嘴，并根據所述厚涂部寬度的測定結果來選擇滿足所述W < Do的吸嘴， 在所述吸引口寬度設定工序中，通過對所述選擇出的吸嘴的所述間隙L進行調整來滿足所述W*H/L < Di。
7.如權利要求5或6所述的涂敷方法，其中， 將所述吸嘴的吸引壓力設定在30 180kPa的范圍內。
全文摘要
本發明提供一種涂敷裝置及涂敷方法，在行進的片材上涂敷涂敷液之際，能夠通過吸嘴比現有技術更為有效地吸引厚涂部，因此，能夠使吸引壓力比較小，從而消除行進的片材發生抖動等的不良狀況。在涂敷裝置(10)具有吸嘴(15)，在行進的帶狀的片材(18)上涂敷涂敷液之際，該吸嘴對形成在涂敷寬度方向兩端部且比目標涂敷膜厚d厚的厚涂部(43)進行吸引，吸嘴(15)的涂敷寬度方向上的吸引面寬度Do及吸引口寬度Di在將厚涂部(43)的涂敷寬度方向上的寬度為W及高度為H、片材(18)與吸引面(54)之間的間隙為L時，滿足下述的式1及式2。即，W≤Do…(式1)、W*H/L≤Di＜Do-1mm…(式2)。
文檔編號B05D3/12GK103008179SQ201210348068
公開日2013年4月3日 申請日期2012年9月18日 優先權日2011年9月22日
發明者能條和彥, 大島篤, 城正樹, 坂本孝博 申請人:富士膠片株式會社