本實用新型涉及一種清潔改質(zhì)設備，尤其涉及一種用于晶片行業(yè)的清潔改質(zhì)設備。

背景技術：

在晶片行業(yè)，對物料進行清潔時，通常是人工使用專用清潔溶劑手工清潔，從而易造成產(chǎn)品損壞和人體危害，且效率低。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的是提供一種清潔改質(zhì)設備，可提高生產(chǎn)效率，同時降低產(chǎn)品因認為作業(yè)而帶來產(chǎn)品不良率，改善了生產(chǎn)環(huán)境，減少了人體危害。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供一種清潔改質(zhì)設備，包括上座、下座和位于上座和下座之間的傳動架，所述上座內(nèi)設有電漿頭和與電漿頭連接并可使電漿頭反復移動的伺服引動器，所述上座的外頂部設有送風裝置，所述下座內(nèi)設有排風裝置，所述傳動架內(nèi)設有驅(qū)動裝置和由驅(qū)動裝置驅(qū)動的滾動輸送機構(gòu)。

作為本實用新型的進一步改進，所述上座和下座的正面均設有開關門，所述上座的開關門上設有控制器，所述伺服引動器、送風裝置和排風裝置均與控制器連接，所述上座的左側(cè)板、右側(cè)板、后側(cè)板和開關門均由透明抗靜電PVC板制作而成。

作為本實用新型的更進一步改進，所述排風裝置包括位于滾動輸送機構(gòu)下方的排風集風罩和位于排風集風罩下方的抽風裝置，所述抽風裝置的出風口位于下座外。

與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的清潔改質(zhì)設備的有益效果如下：

(1)采用清潔改質(zhì)設備對物料進行清潔，可提高生產(chǎn)效率，同時降低產(chǎn)品 因認為作業(yè)而帶來產(chǎn)品不良率，改善了生產(chǎn)環(huán)境，減少了人體危害。

(2)采用滾動輸送機構(gòu)，可提高生產(chǎn)效率。

通過以下的描述并結(jié)合附圖，本實用新型將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本實用新型的實施例。

附圖說明

圖1為清潔改質(zhì)設備的示意圖。

圖2為清潔改質(zhì)設備的剖面示意圖1。

圖3為清潔改質(zhì)設備的剖面示意圖2。

具體實施方式

現(xiàn)在參考附圖描述本實用新型的實施例，附圖中類似的元件標號代表類似的元件。

請參考圖1-3，所述的清潔改質(zhì)設備包括上座1、下座2和位于上座1和下座2之間的傳動架3。所述上座1內(nèi)設有電漿頭4和與電漿頭4連接并可使電漿頭4反復移動的伺服引動器5。所述上座1的外頂部設有送風裝置6，所述下座2內(nèi)設有排風裝置7。所述傳動架3內(nèi)設有驅(qū)動裝置8和由驅(qū)動裝置8驅(qū)動的滾動輸送機構(gòu)9，所述驅(qū)動裝置8為馬達。所述上座1和下座2的正面均設有開關門10、11，所述上座1的開關門10上設有控制器12，所述伺服引動器5、送風裝置6和排風裝置7均與控制器12連接，所述上座1的左側(cè)板、右側(cè)板、后側(cè)板和開關門10均由透明抗靜電PVC板制作而成。所述排風裝置7包括位于滾動輸送機構(gòu)9下方的排風集風罩7a和位于排風集風罩7a下方的抽風裝置7b，所述抽風裝置7b的出風口位于下座2外。

在傳動架3的進料端的光電檢知裝置檢測到產(chǎn)品進來時，伺服引動器5帶動電漿頭4進行左右連續(xù)反復移動，位于電漿頭4下方的滾動輸送機構(gòu)9表面的產(chǎn)品被移載經(jīng)過電漿頭4下方時，產(chǎn)品被電漿頭4處理，在真空狀態(tài)下，電 漿頭4利用具有高能量的射頻輻射使得氧、氬等氣體生成具有高反應活性的離子與有機污染物等反應形成揮發(fā)性化合物，以達到清洗產(chǎn)品的目的，所形成的揮發(fā)性物質(zhì)被排風裝置7抽出廠外，從而提高了生產(chǎn)效率，同時降低了產(chǎn)品因認為作業(yè)而帶來產(chǎn)品不良率，改善了生產(chǎn)環(huán)境，減少了人體危害。

以上結(jié)合最佳實施例對本實用新型進行了描述，但本實用新型并不局限于以上揭示的實施例，而應當涵蓋各種根據(jù)本實用新型的本質(zhì)進行的修改、等效組合。