本發(fā)明涉及基板清洗裝置和基板清洗方法。

背景技術(shù)：

1、例如用于lcd(liquid?crystal?display：液晶顯示器)、oled(organic?light-emitting?diode：有機(jī)發(fā)光二極管)等平板顯示器(fpd：flat?panel?display)用的玻璃板的表面被清洗裝置清洗。

2、在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中，記載了作為玻璃板的清洗裝置，使由多個(gè)圓盤(pán)刷構(gòu)成的清洗構(gòu)件在與輸送過(guò)程中的玻璃板的表面接觸的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)，去除附著于玻璃板的表面的附著物。在該清洗裝置中，利用調(diào)整單元對(duì)清洗構(gòu)件相對(duì)于玻璃板的表面的位置進(jìn)行微調(diào)來(lái)調(diào)整接觸狀態(tài)。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

4、專(zhuān)利文獻(xiàn)

5、專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2015-30570號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的課題

2、然而，在如專(zhuān)利文獻(xiàn)1那樣基于清洗構(gòu)件的高度來(lái)調(diào)整接觸狀態(tài)的清洗裝置中，必須準(zhǔn)確地檢測(cè)清洗構(gòu)件的前端位置來(lái)進(jìn)行高度調(diào)整，該調(diào)整作業(yè)花費(fèi)時(shí)間和工夫。而且，僅調(diào)整清洗構(gòu)件的高度，難以將對(duì)玻璃板的清洗力保持為恒定，有可能根據(jù)場(chǎng)所不同而清洗狀態(tài)產(chǎn)生不均。

3、另外，清洗構(gòu)件有可能因磨損等而不再與玻璃板接觸。因此，需要確認(rèn)清洗構(gòu)件是否實(shí)際與玻璃板接觸的面接觸。與該面接觸的確認(rèn)相伴的接觸狀態(tài)的檢測(cè)在一個(gè)清洗線中需要一～幾小時(shí)。

4、因此，本發(fā)明的目的在于提供一種基板清洗裝置，通過(guò)檢測(cè)清洗構(gòu)件相對(duì)于基板的接觸狀態(tài)，能夠利用清洗構(gòu)件良好地清洗基板，而且，能夠判定基板的輸送狀態(tài)、清洗構(gòu)件的設(shè)置狀態(tài)、基板清洗裝置中的異常的發(fā)生。

5、用于解決課題的技術(shù)方案

6、本發(fā)明由下述結(jié)構(gòu)構(gòu)成。

7、(1)一種基板清洗裝置，將被輸送的基板的表面和背面中的至少一個(gè)面作為被清洗面進(jìn)行清洗，其中，具備：基板輸送裝置，對(duì)所述基板進(jìn)行輸送；清洗構(gòu)件，一邊旋轉(zhuǎn)一邊與被輸送的所述基板的所述被清洗面接觸；多個(gè)載荷計(jì)，在與所述基板的輸送方向交叉的寬度方向的多個(gè)部位對(duì)所述清洗構(gòu)件施加于所述被清洗面的載荷進(jìn)行測(cè)定；及檢測(cè)部，基于來(lái)自多個(gè)所述載荷計(jì)的測(cè)定數(shù)據(jù)，檢測(cè)所述清洗構(gòu)件與所述基板的接觸狀態(tài)，并基于檢測(cè)到的所述接觸狀態(tài)，判定所述基板的輸送狀態(tài)、所述清洗構(gòu)件的設(shè)置狀態(tài)或基板清洗裝置中的異常的發(fā)生。

8、(2)一種基板清洗裝置，將被輸送的基板的表面和背面中的至少一個(gè)面作為被清洗面進(jìn)行清洗，其中，具備：基板輸送裝置，對(duì)所述基板進(jìn)行輸送；多個(gè)清洗處理部，在所述基板的輸送方向上排列，并利用清洗構(gòu)件對(duì)所述基板的所述被清洗面進(jìn)行清洗處理；載荷計(jì)，分別設(shè)置于多個(gè)所述清洗處理部，對(duì)所述清洗構(gòu)件施加于所述被清洗面的載荷進(jìn)行測(cè)定；及檢測(cè)部，基于來(lái)自多個(gè)所述載荷計(jì)的測(cè)定數(shù)據(jù)，檢測(cè)所述清洗構(gòu)件與所述基板的接觸狀態(tài)，并基于檢測(cè)到的所述接觸狀態(tài)，判定所述基板的輸送狀態(tài)或所述清洗構(gòu)件的設(shè)置狀態(tài)。

9、(3)一種基板清洗方法，將基板的表面和背面中的至少一個(gè)面作為被清洗面進(jìn)行清洗，其中，利用基板輸送裝置輸送所述基板；使清洗構(gòu)件一邊旋轉(zhuǎn)一邊與被輸送的所述基板的所述被清洗面接觸，對(duì)所述被清洗面進(jìn)行清洗；利用設(shè)置于與所述基板的輸送方向交叉的寬度方向的多個(gè)部位的多個(gè)載荷計(jì)對(duì)所述清洗構(gòu)件施加于所述被清洗面的載荷進(jìn)行測(cè)定；及在檢測(cè)部中，基于來(lái)自多個(gè)所述載荷計(jì)的測(cè)定數(shù)據(jù)，檢測(cè)所述清洗構(gòu)件與所述基板的接觸狀態(tài)，并基于檢測(cè)到的所述接觸狀態(tài)，判定所述基板的輸送狀態(tài)、所述清洗構(gòu)件的設(shè)置狀態(tài)或基板清洗裝置中的異常的發(fā)生。

10、(4)一種基板清洗方法，將基板的表面和背面中的至少一個(gè)面作為被清洗面進(jìn)行清洗，其中，利用基板輸送裝置輸送所述基板；在所述基板的輸送方向上排列有多個(gè)的清洗處理部中，利用清洗構(gòu)件對(duì)所述基板的所述被清洗面進(jìn)行清洗處理；利用分別設(shè)置于多個(gè)所述清洗處理部的載荷計(jì)，對(duì)所述清洗構(gòu)件施加于所述被清洗面的載荷進(jìn)行測(cè)定；在檢測(cè)部中，基于來(lái)自多個(gè)所述載荷計(jì)的測(cè)定數(shù)據(jù)，檢測(cè)所述清洗構(gòu)件與所述基板的接觸狀態(tài)，并基于檢測(cè)到的所述接觸狀態(tài)，判定所述基板的輸送狀態(tài)、所述清洗構(gòu)件的設(shè)置狀態(tài)或基板清洗裝置中的異常的發(fā)生。

11、發(fā)明效果

12、根據(jù)本發(fā)明的基板清洗裝置，通過(guò)檢測(cè)清洗構(gòu)件相對(duì)于基板的接觸狀態(tài)，能夠利用清洗構(gòu)件良好地清洗基板，而且，能夠判定基板的輸送狀態(tài)、清洗構(gòu)件的設(shè)置狀態(tài)、基板清洗裝置中的異常的發(fā)生。

技術(shù)特征：

1.一種基板清洗裝置，將被輸送的基板的表面和背面中的至少一個(gè)面作為被清洗面進(jìn)行清洗，其中，具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清洗裝置，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板清洗裝置，其中，

4.一種基板清洗裝置，將被輸送的基板的表面和背面中的至少一個(gè)面作為被清洗面進(jìn)行清洗，其中，具備：

5.根據(jù)權(quán)利要求1、2和4中任一項(xiàng)所述的基板清洗裝置，其中，

6.一種基板清洗方法，將基板的表面和背面中的至少一個(gè)面作為被清洗面進(jìn)行清洗，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板清洗方法，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的基板清洗方法，其中，

9.一種基板清洗方法，將基板的表面和背面中的至少一個(gè)面作為被清洗面進(jìn)行清洗，其中，

10.根據(jù)權(quán)利要求6、7和9中任一項(xiàng)所述的基板清洗方法，其中，

技術(shù)總結(jié)
提供通過(guò)檢測(cè)清洗構(gòu)件相對(duì)于基板的接觸狀態(tài)，能夠由清洗構(gòu)件良好地清洗基板，而且能夠判定基板的輸送狀態(tài)、清洗構(gòu)件的設(shè)置狀態(tài)、基板清洗裝置中的異常的發(fā)生的基板清洗裝置和基板清洗方法?；迩逑囱b置(100)將被輸送的玻璃板(G)的表面和背面中的至少一個(gè)面作為被清洗面進(jìn)行清洗，其中，具備：基板輸送裝置(10)，對(duì)玻璃板(G)進(jìn)行輸送；圓盤(pán)刷(23)，一邊旋轉(zhuǎn)一邊與被輸送的玻璃板(G)的被清洗面接觸；多個(gè)測(cè)力傳感器(61)，在與玻璃板(G)的輸送方向(X)交叉的寬度方向的多個(gè)部位對(duì)圓盤(pán)刷(23)施加于被清洗面的載荷進(jìn)行測(cè)定；及作為檢測(cè)部的控制部(71)，基于來(lái)自多個(gè)測(cè)力傳感器(61)的測(cè)定數(shù)據(jù)，檢測(cè)圓盤(pán)刷(23)與玻璃板(G)的接觸狀態(tài)，并基于檢測(cè)到的接觸狀態(tài)，判定玻璃板(G)的輸送狀態(tài)、圓盤(pán)刷(23)的設(shè)置狀態(tài)或基板清洗裝置(100)中的異常的發(fā)生。

技術(shù)研發(fā)人員：紅谷篤史,渡邊翔太郎,橫山哲史,阿部修平,堀江滿,佐藤貴文
受保護(hù)的技術(shù)使用者：AGC株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/4/24