專利名稱：一種鍍錫液的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種鍍錫液。
背景技術：
金屬鍍錫層是電子元器件連接材料必須的工藝，其質量直接影響電子元器件的性能，被廣泛用在電容器、二極管、電阻等連接線的表面鍍層，目前的鍍錫溶液存在鍍層不均勻結合強度低和光潔度差等缺點。

發明內容
本發明的目的在于提供一種可焊性好、鍍層均勻、表面光潔度高的鍍錫液。本發明的技術解決方案是:
一種鍍錫液，其特征是:也就是其配方為:羥基甲烷磺酸亞錫5 20g/L ；乙烷磺酸100 200g/L ；乙撐硫脲30 100g/L ；甲醒50 100g/L ;聚乙烯亞胺聚乙二醇0.1 2g/L ；甲酚磺酸0.1 2g/L ;羥基甲烷磺酸鹽20 100g/L ;聚氧乙烯脂肪醇醚I 3g/L ;余量蒸餾水。本發明配方合理，可焊性好鍍層均勻、鍍層不易發黑。
具體實施方式
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實施例1
一種鍍錫液，也就是其配方為:羥基甲烷磺酸亞錫10g/L ;乙烷磺酸150g/L ;乙撐硫脲50g/L ;甲醛50g/L ;聚乙烯亞胺聚乙二醇lg/L ;甲酚磺酸lg/L ;羥基甲烷磺酸鹽50g/L ;聚氧乙烯脂肪醇醚2g/L與余量蒸餾水混合即可。
權利要求
1.一種鍍錫液，其特征是:也就是其配方為:羥基甲烷磺酸亞錫5 20g/L ;乙烷磺酸100 200g/L ；乙撐硫脲30 100g/L ；甲醒50 100g/L ;聚乙烯亞胺聚乙二醇0.1 2g/L ;甲酚磺酸0.1 2g/L ;羥基甲烷磺酸鹽20 100g/L ;聚氧乙烯脂肪醇醚I 3g/L ;余量蒸餾水。 ·
全文摘要
本發明公開了一種鍍錫液，其也就是其配方為羥基甲烷磺酸亞錫5～20g/L；乙烷磺酸100～200g/L；乙撐硫脲30～100g/L；甲醛50～100g/L；聚乙烯亞胺聚乙二醇0.1～2g/L；甲酚磺酸0.1～2g/L；羥基甲烷磺酸鹽20～100g/L；聚氧乙烯脂肪醇醚1～3g/L；余量蒸餾水。本發明配方合理，可焊性好鍍層均勻、鍍層不易發黑。
文檔編號C25D3/32GK103184484SQ20111045887
公開日2013年7月3日 申請日期2011年12月31日 優先權日2011年12月31日
發明者趙春美 申請人:趙春美