一種水晶膜及其鍍膜工藝的制作方法
【專利摘要】本發明提出了一種水晶膜及其鍍膜工藝,屬于外裝噴涂鍍膜領域。該鍍膜方法包括以下步驟:將溫水通入陶瓷磁芯后電離,得到鍍膜劑和活性水的步驟;將鍍膜劑和活性水按照一定比例均勻混合,得到水晶鍍膜液的步驟;將水晶鍍膜液通過高壓沖洗機噴射到待處理物表面,析出玻璃成分的步驟;玻璃成分與帶負電荷的待處理物表面結和,同時和空氣中的水分發生反應、自然固化、形成水晶膜的步驟。本發明水晶膜為純無機材料,不易被氧化,延長漆膜壽命2~3倍,膜厚度為30~40納米,具有極好的親水性能,能大幅減少灰塵、生物的附著能力。
【專利說明】一種水晶膜及其鍍膜工藝【技術領域】[0001]本發明涉及一種外裝噴涂鍍膜工藝,具體涉及一種水晶膜及其鍍膜工藝。【背景技術】[0002]隨著科學進步、工業技術的發展,對金屬和非金屬表面涂覆保護層或裝飾層,已由手工向工業自動化方向發展,而且新技術開發應用的程度越來越高,所以鍍膜應用也越來越廣泛。[0003]傳統的鍍膜工藝主要包括:一、采用特殊夾具和專用精密光纖鍍膜設備進行鍍膜;二、有機溶劑噴涂法,其中,工藝一由于特殊夾具和專用精密光纖鍍膜設備的價格很高、成本巨大,且特殊夾具較為精密,不易清洗,容易損壞等問題而沒有推廣應用;有機溶劑噴涂法,此工藝抗氧化性差、易老化、硬度低、耐磨性差,耐油、鹽、酸、堿性差。[0004]鑒于上述現有技術中存在的問題,本發明根據現有鍍膜的特性,從根本上對現有工藝進行改進,提供一種鍍膜工藝,增強其表面處理強度和實用性能。
【發明內容】
[0005]本發明提供了一種水晶膜及其鍍膜工藝,該水晶膜為純無機材料、不易被氧化,具有極好的未水性能,能大幅減少灰塵、生物的附著能力。[0006]本發明任務之一是提供一種水晶膜:[0007]一種水晶膜,該水晶膜厚度為30~40納米,硬度達3.0GPA以上,防劃傷同時具有很強的韌性。[0008]本發明的任務之二是提供上述水晶膜的鍍膜方法:[0009]該鍍膜方法包括以下步驟:[0010]a)將30~50°C的水通入以壓電陶瓷和過氧化鎂為主要成分的陶瓷磁芯后電離, 得到鍍膜劑和活性水的步驟;[0011]b)將上述鍍膜劑和活性水按照重量份數6~15:100均勻混合,得到水晶鍍膜液的步驟;[0012]c)待處理物表面進行處理使其帶負電荷,將步驟b)中的水晶鍍膜液通過高壓沖洗機噴射到待處理物表面,析出玻璃成分的步驟;[0013]d)上述帶正電荷的水晶鍍膜液中的玻璃成分與帶負電荷的待處理物表面結和,同時和空氣中的水分發生反應、自然固化、形成水晶膜的步驟。[0014]上述步驟a)中鍍膜劑的有效成分為全氫聚硅氮烷。[0015]上述步驟b)中活性水水壓保持1.7~1.9Kg。[0016]上述步驟c)待處理物為金屬、瓷磚或玻璃。[0017]上述步驟c)高壓沖洗`機噴射壓力為4.9MPa。[0018]本發明所帶來的有益技術效果:[0019]本發明提供了一種水晶膜及其鍍膜工藝,與現有技術相比,本發明水晶膜為純無機材料,不易被氧化,延長漆膜壽命2~3倍;將30~50°C的水通入以壓電陶瓷和過氧化鎂為主要成分的陶瓷磁芯后,陶瓷磁芯使水電解,增加其活性,成為具有清潔作用的活性水; 然后將活性水與鍍膜劑按照一定的比例混合均勻,得到水晶鍍膜液,將水晶鍍膜液通過高壓沖洗機噴射到帶負電荷的待處理物表面,析出的玻璃成分即硼酸硅分子與帶負電荷的待處理物表面結合、常溫固化后形成高硬度的水晶膜。本發明水晶膜厚度為30~40納米,具有極好的未水性能,能大幅減少灰塵、生物的附著能力。【專利附圖】
【附圖說明】[0020]下面結合附圖與【具體實施方式】對本發明做進一步說明:[0021]圖1為本發明鍍膜原理圖。【具體實施方式】[0022]本發明提供了一種水晶膜及其鍍膜工藝,為了使本發明的目的、技術方案以及優點更清楚、明確,以下將結合具體實施例,對本發明進一步詳細說明。[0023]實施例1:[0024]本發明水晶膜的鍍膜方法包括如下四個步驟:[0025]步驟a:[0026]首先利用自動加熱系統,將自來水加熱至30°C,提供陶瓷磁芯,該陶瓷磁芯以壓電瓷和過氧化鎂為主要成分,將溫度為30°C的自來水通入上述電壓為220伏的陶瓷磁芯, 自來水發生電離,形成溶入了有陶瓷磁芯析出的鍍膜劑,該鍍膜劑的有效成分為全氫聚硅氮烷;陶瓷芯為使水進行電解,增加其活性,成為具有清潔作用的活性水;[0027]步驟b:[0028]活性水選定為1.7Kg,將鍍膜劑和活性水按照重量份數6:100均勻混合,得到水晶鍍膜液;[0029]步驟c:[0030]將金屬、瓷磚或玻璃表面進行處理使其帶負電荷,本發明采用電鍍的原理使待處理物表面帶有負電荷,將步驟b)中的水晶鍍膜液通過高壓沖洗機噴射到金屬、瓷磚或玻璃表面,高壓沖洗機的噴射壓力為4.9MPa,經噴射后析出玻璃成分,玻璃成分即為硼酸硅分子;[0031]步驟d:[0032]帶正電荷的水晶鍍膜液中的玻璃成分與帶負電荷的待處理物表面結和,同時和空氣中的水分發生反應、自然固化、形成水晶膜。[0033]實施例2:[0034]與實施例1不同之處在于:步驟a自來水溫度加熱至40°C,活性水選定為1.8Kg。[0035]實施例3:[0036]與實施例1不同之處在于:步驟a自來水溫度加熱至50°C,活性水選定為1.9Kg。[0037]參照上述實施例1步驟a、b、C、d,本發明鍍膜機理如圖1所示:[0038]如圖1a所示:通過陶瓷磁芯的水即活性水,變為弱堿性,中和原自來水中的氯元素等有機成分,同時通過220伏的陶瓷磁芯后,自來水發生電離,變成很小的分子水即活性水,活性水具有清潔作用、洗凈能力提高,參照步驟C,經噴射后析出玻璃成分;[0039]如圖1b所示:利用水晶鍍膜液用高壓噴射到外壁上時發生的沖擊電子,根據電鍍的原理使待處理物表面帶負電荷,使之與帶正電荷的水晶鍍膜液中的玻璃成分結合在一起,同時和空氣中水蒸氣反應而形成熔融體,熔融體為未固化后的水面膜;[0040]如圖1c所示:根據電鍍的原理,待處理物的保護層分子與硼酸硅的分子會緊密結合在一起,上述熔融體自然固化后,最終得到本發明水晶膜。[0041]水晶I旲的各項性能指標如表1所不:[0042]表1
【權利要求】
1.一種水晶膜,其特征在于:所述水晶膜厚度為30~40納米,硬度達3.0GPA以上。
2.如權利要求1所述水晶膜的鍍膜方法,其特征在于所述鍍膜方法包括以下步驟:a)將30~50°C的水通入以壓電陶瓷和過氧化鎂為主要成分的陶瓷磁芯后電離,得到鍍膜劑和活性水的步驟;b)將上述鍍膜劑和活性水按照重量份數6~15:100均勻混合,得到水晶鍍膜液的步驟;c)待處理物表面進行處理使其帶負電荷,將步驟b)中的水晶鍍膜液通過高壓沖洗機噴射到待處理物表面,析出玻璃成分的步驟;d)上述帶正電荷的水晶鍍膜液中的玻璃成分與帶負電荷的待處理物表面結和,同時和空氣中的水分發生反應、自然固化、形成水晶膜的步驟。
3.根據權利要求2所述的鍍膜方法,其特征在于:所述步驟a)中鍍膜劑的有效成分為全氫聚娃氮燒。
4.根據權利要求3所述的鍍膜方法,其特征在于:所述步驟b)中活性水水壓保持1.7 ~1.9Kg。
5.根據權利要求2或3所述的鍍膜方法,其特征在于:所述步驟c)待處理物為金屬、 瓷磚或玻璃。
6.根據權利要求2或3所述的鍍膜方法,其特征在于:所述步驟c)高壓沖洗機噴射壓力為 4.9MPa。
【文檔編號】C25D9/08GK103556199SQ201310362311
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2013年8月19日 優先權日:2013年8月19日
【發明者】張兵, 孟祥東, 李茂濤, 李勇, 孫鵬飛 申請人:青島聚蚨源機電有限公司