用于控制勻場單元的方法、控制單元和磁共振設備與流程
本發(fā)明涉及一種用于控制勻場單元(shimeinheit)的方法、控制單元和磁共振設備。
背景技術：
在磁共振設備(也稱為磁共振斷層成像系統(tǒng))中通常借助主磁體使受檢查人員、特別是患者的待檢查的身體暴露于相對高的主磁場，例如1.5或3或7特斯拉的主磁場。附加地，借助梯度線圈單元發(fā)出梯度脈沖。然后，通過射頻天線單元借助合適的天線裝置發(fā)送高頻的射頻脈沖，例如激勵脈沖，這導致了特定的通過該射頻脈沖共振激勵的原子的核自旋圍繞所定義的翻轉角相對于主磁場的磁力線傾斜。在核自旋弛豫時發(fā)射射頻信號(所謂的磁共振信號)，這些射頻信號借助合適的射頻天線被接收并且然后被進一步處理。根據這樣獲得的原始數據最終可以重建期望的圖像數據。
因此對于特定的測量發(fā)送特定的磁共振序列(也稱為脈沖序列)，其由射頻脈沖(激勵脈沖和重聚焦脈沖)以及與之相適應協(xié)調地待發(fā)送的梯度脈沖的序列組成，所述梯度脈沖在沿著不同空間方向的不同的梯度軸上具有特定的梯度脈沖形狀。時間上與之相適應地為此設置讀取窗，其預先給定其中采集感應的磁共振信號的時間段。
在借助磁共振設備的磁共振成像中，檢查體積中的主磁場的均勻性是具有更大意義的。在均勻性的小的偏差的情況下已經會導致在核自旋的頻率分布中的大的偏差，從而拍攝低質量的磁共振圖像數據。為了改善檢查體積中的均勻性，磁共振設備典型地具有可調節(jié)的勻場單元。特別是為此公知電的勻場線圈，其以不同的勻場電流控制產生不同的補償磁場，以改善均勻性。
借助磁共振設備的梯度線圈單元發(fā)送由磁共振序列的規(guī)定所限定的特定的梯度脈沖形狀可以導致磁共振序列的拍攝體積中的不期望的渦流場。梯度線圈單元的運行在此可以引起磁共振設備的所有導電部件中的渦流。特別是在磁共振設備的磁體的、例如由鋁構成的屏蔽中，尤其會出現渦流。在拍攝體積中出現的渦流場可以導致借助磁共振序列采集的磁共振圖像的質量損失。由此，例如脂肪抑制在特定的磁共振序列中由于渦流場會變差。
雖然磁共振設備典型的梯度線圈單元設計為，使得由梯度線圈單元的運行引起的渦流以及由此在磁共振序列的拍攝體積中的渦流場被最小化。但是，在制造梯度線圈時的制造公差會導致在梯度線圈中的實際的導線導引部偏離期望的形狀。由此，在軸向上的初級導線樣式相對于次級導線樣式例如會偏移。這樣的偏移可以導致梯度線圈單元中的導線導引部的對稱性的損失以及由此導致在梯度線圈單元的梯度場和渦流場中的整數項。恰好薄的梯度線圈單元在這種偏移上可以是更敏感的。而在梯度場中的干擾項典型地可以被忽略，由此在梯度線圈單元的渦流場中的整數項通常不可以被忽略。在梯度線圈單元的渦流場中的典型的整數項例如沿著z軸(a(2,0)項)、沿著x軸(a(2,1)項)或沿著y軸(b(2,1)項)取向。
技術實現要素：
因此，本發(fā)明要解決的技術問題是，改善對磁共振成像中的渦流的補償。上述技術問題通過按照本發(fā)明的特征來解決。優(yōu)選的實施在從屬權利要求中描述。
按照本發(fā)明的用于在檢查對象的磁共振成像期間控制磁共振設備的勻場單元的方法包括以下方法步驟：
-按照磁共振序列的規(guī)定提供梯度脈沖形狀，該磁共振序列被用于檢查對象的磁共振成像，
-修正梯度脈沖形狀，
-在使用修正后的梯度脈沖形狀的條件下產生勻場設置，
-在使用勻場設置的條件下控制勻場單元，其中對勻場單元的控制在借助磁共振設備的梯度線圈單元發(fā)出梯度脈沖形狀期間進行。
檢查對象可以是患者、健康的受試者、動物或模體。
勻場單元典型地集成地布置在磁共振設備的梯度線圈單元中。勻場單元的部分或整個勻場單元也可以布置在磁共振設備的局部線圈中。勻場單元可以包括多個勻場通道或勻場線圈。在磁共振序列期間，勻場單元的勻場通道或勻場線圈可以具有恒定的或可變的勻場電流。勻場單元典型地由勻場控制單元來控制，該勻場控制單元可以具有勻場電流放大器。勻場控制單元可以借助勻場設置來控制勻場單元。勻場設置例如可以規(guī)定在勻場單元的勻場線圈中可能取決于時間的、勻場電流的電流分布。勻場控制單元由此可以在磁共振成像的情況下向勻場單元的勻場通道或勻場線圈施加通過勻場設置規(guī)定的電流。
梯度脈沖形狀尤其給出了梯度振幅的時間變化，以所述梯度振幅按照磁共振序列的規(guī)定來控制梯度線圈單元。在此，梯度脈沖形狀尤其對應于單個的梯度切換或單個的梯度脈沖或也對應于多個梯度切換或梯度脈沖。梯度脈沖形狀可以通過不同的參數來定義，諸如時間長度、最大振幅、邊緣坡度。梯度脈沖形狀尤其由磁共振設備的控制單元，特別是梯度控制單元來提供或產生。
梯度脈沖形狀的修正可以在梯度控制單元中或在與梯度控制單元分開的單元中進行。特別地，由電子部件或數字濾波器進行梯度脈沖形狀的修正。梯度脈沖形狀的修正可以借助數字和/或電子實施的修正算法進行，其具有梯度脈沖形狀作為輸入參數并且具有修正后的梯度脈沖形狀作為輸出參數。
在使用修正后的梯度脈沖形狀的條件下產生勻場設置可以包括利用修正后的梯度脈沖形狀直接控制勻場單元或勻場放大器。替換地或附加地還可以借助例如在校準測量中確定的、數字或電子實施的傳遞函數將修正后的梯度脈沖形狀轉換為勻場設置。
尤其是在發(fā)出梯度脈沖形狀期間在使用勻場設置的條件下勻場單元被控制為，使得至少在發(fā)出梯度脈沖形狀的部分時間段期間或在完整時間段期間，勻場電流的按照勻場設置規(guī)定的電流分布流入勻場單元的勻場線圈。由此，勻場單元可以被控制為，使得至少部分地或完整地通過借助勻場設置規(guī)定的勻場電流來補償由于發(fā)出梯度脈沖形狀而產生的渦流。勻場單元的控制和梯度脈沖形狀的發(fā)出由此可以時間上彼此調諧，特別是具有相同的時間延遲地進行。
勻場單元的控制和梯度脈沖形狀的發(fā)出的時間調諧在此可以是特別重要的。時間調諧在此可以通過如下確保，即，優(yōu)選自動地通過提供和修正應當被發(fā)出的梯度脈沖形狀來觸發(fā)勻場設置的產生。也就是，勻場設置特別地不是獨立于待發(fā)出的梯度脈沖形狀產生，而是可以由待發(fā)出的梯度脈沖形狀直接導出。也就是優(yōu)選地，存在直接的電子和/或數字實施的路徑，其根據為了發(fā)出而提供的梯度脈沖形狀借助對梯度脈沖形狀的修正來產生勻場設置，借助該勻場設置在發(fā)出梯度脈沖形狀期間可以控制勻場單元。特別優(yōu)選地，由此可以自動地由勻場單元來補償由于發(fā)出梯度脈沖形狀而產生的渦流。用于磁共振成像的磁共振序列由此優(yōu)選地可以保持不變，也就是不需要調整磁共振序列。
由此，所建議的過程可以特別有利且有效地抑制由于梯度切換引起的渦流。由此可以提高在磁共振成像中拍攝的磁共振圖像數據的質量或可以避免磁共振圖像數據中的偽影。特別地還可以將在制造檢查中與期望的形狀具有較大偏差的梯度線圈盡管如此交付給顧客而不必將其銷毀。
一種實施方式在于，梯度脈沖形狀的修正包括形成梯度脈沖形狀的導數，其中在使用梯度脈沖形狀的導數的條件下產生勻場設置。形成梯度脈沖形狀的導數可以包括對梯度脈沖形狀的微分或計算梯度脈沖形狀關于時間的變化。在形成導數的情況下尤其抑制梯度脈沖形狀的恒定部分，例如具有恒定振幅的平臺。在形成導數的情況下正是突出梯度脈沖形狀的上升的或下降的邊緣。梯度脈沖形狀的導數的形成可以在為此合適的梯度控制單元中進行，該梯度控制單元對于勻場設置的產生轉發(fā)梯度脈沖形狀的預加重(
一種實施方式在于，將梯度脈沖形狀的修正和在使用修正后的梯度脈沖形狀的條件下對勻場設置的產生進行為使得借助為了控制勻場單元而使用的勻場設置，至少部分地補償在借助梯度線圈單元發(fā)出梯度脈沖形狀期間出現的二階的渦流份額。對于該應用情況，梯度脈沖形狀的修正特別有利地可以包括形成梯度脈沖形狀的導數。所建議的過程可以特別有利地用于抑制二階的渦流份額。由此恰好在拍攝體積的邊緣區(qū)域可以達到圖像質量的明顯改善，因為二階的渦流場典型地在拍攝體積中的高徑向位置的情況下典型地與正方形中的半徑成比例地影響磁共振圖像數據。由此借助所建議的補償可以特別有利地將大拍攝體積用于采集磁共振圖像數據，而不會損失圖像質量。例如在肩部成像的情況下這一點可以是特別具有優(yōu)勢的。特別有利地，不僅可以補償二階的渦流場中的典型的整數項，諸如沿著z軸的場項(a(2,0)項)、沿著x軸的場項(a(2,1)項)或沿著y軸的場項(b(2,1)項)，而且還可以補償附加的相交項，諸如b(2,2)項。
一種實施方式在于，僅在借助梯度線圈單元發(fā)出梯度脈沖形狀的上升的和/或下降的邊緣期間，在使用勻場設置的條件下控制勻場單元。由此，在使用修正后的梯度脈沖形狀的條件下產生的勻場設置尤其被構造為，使得由勻場設置規(guī)定的勻場電流僅在發(fā)出上升的和/或下降的邊緣期間流過勻場線圈。該建議的對勻場單元的控制可以特別有利地用于補償尤其在發(fā)出梯度脈沖形狀的上升的或下降的邊緣期間出現的渦流場。當然，也可以存在另外的、不基于梯度脈沖形狀的勻場設置，其在梯度脈沖形狀的恒定階段期間觸發(fā)勻場電流的流動。
一種實施方式在于，在檢查對象的磁共振成像之前在校準中確定表征梯度線圈的二階的渦流份額的傳遞函數，其中在使用傳遞函數的條件下產生勻場設置。在此，在校準中不僅可以測量零階和一階的渦流場，也稱為渦流份額，而且附加地還可以測量二階的渦流場。在此在安裝磁共振設備時可以特定于該磁共振設備或特定于一系列的磁共振設備執(zhí)行校準。傳遞函數的確定在此可以包括對于渦流份額的二階項的所有組合確定振幅和時間常數。
按照本發(fā)明的用于磁共振設備的控制單元包括梯度控制單元、勻場控制單元和從梯度控制單元至勻場控制單元的接口，其中接口被構造為用于從梯度控制單元接收梯度脈沖形狀、用于修正梯度脈沖形狀并且用于將修正后的梯度脈沖形狀傳輸到勻場控制單元。接口可以表示在梯度控制單元與勻場控制單元之間的電子連接或界面。由此，接口可以具有輸入組件，其從梯度控制單元接收梯度脈沖形狀。接口可以具有修正組件，其修正梯度脈沖形狀。最后，接口可以具有輸出組件，其將修正后的梯度脈沖形狀傳輸到勻場控制單元。接口由此能夠實現勻場單元的自動控制，其通過由梯度控制單元提供梯度脈沖形狀來觸發(fā)。由此，按照本發(fā)明的控制單元能夠實現已經描述的、對由于發(fā)出梯度脈沖形狀而產生的渦流場的自動補償。同時，所建議的勻場單元可以特別有利地用于專業(yè)人員已知的動態(tài)勻場，其中可以實時地補償基于層的(特別是二階的)非均勻性或呼吸影響或其它動態(tài)干擾。同樣，對于時間關鍵的過程可以降低對于靜態(tài)勻場設置的勻場設置時間。
控制單元的一種實施方式在于，接口被構造為用于形成所接收的梯度脈沖形狀的導數并且用于將梯度脈沖形狀的導數傳輸到勻場控制單元。為此，接口可以包括合適的組件，諸如高通濾波器和/或數字濾波器。接口由此可以抑制梯度脈沖形狀的直流分量并且將梯度脈沖形狀的上升的和/或下降的邊緣傳輸到勻場控制單元。由此可以特別有利地補償尤其在發(fā)出梯度脈沖形狀的上升的和下降的邊緣期間引起的渦流。
控制單元的一種實施方式在于，接口包括控制組件，其能夠在借助梯度控制單元控制梯度線圈單元期間實時地將修正后的梯度脈沖形狀傳輸到勻場控制單元。由此，可以以修正后的梯度脈沖形狀、以與由梯度控制單元以梯度脈沖形狀控制梯度線圈單元的相同速度來控制勻場控制單元。由此，勻場控制單元或勻場單元可以特別有利地補償在運行梯度線圈單元時出現的渦流。
按照本發(fā)明的磁共振設備包括梯度線圈單元、勻場單元和按照本發(fā)明的控制單元，其中梯度控制單元被構造為用于借助梯度脈沖形狀控制梯度線圈單元；并且勻場控制單元被構造為用于在使用修正后的梯度脈沖形狀的條件下產生勻場設置并且用于借助勻場設置控制勻場單元。磁共振設備在此可以在其運行時特別有利地具有在磁共振設備的導電部件中的減小的渦流。
磁共振設備的一種實施方式在于，梯度控制單元和勻場控制單元彼此調諧為，使得在借助梯度脈沖形狀控制梯度線圈單元期間控制勻場單元。特別有利地，勻場控制單元和梯度控制單元的時間調諧能夠實現通過勻場單元補償由于運行梯度線圈單元引起的渦流。
磁共振設備的一種實施方式在于，勻場單元具有二階的勻場線圈，其中在使用勻場設置的條件下控制二階的勻場線圈。二階的勻場線圈在此可以特別有利地被用于補償二階的渦流場。
磁共振設備的一種實施方式在于，勻場單元具有高于二階的勻場線圈，其中在使用勻場設置的條件下控制高于二階的勻場線圈。與在之前的段落描述的一樣，也可以對于高階，例如三階或四階確定傳遞函數。高階的勻場線圈然后尤其可以被設置用于補償由于發(fā)出梯度脈沖形狀而產生的高階的渦流場。高階的勻場線圈在此優(yōu)選地可以集成在直接放置在檢查對象的身體上的局部線圈中。恰好在使用不對稱的梯度線圈單元來發(fā)出梯度脈沖形狀的情況下，對高階的渦流場的補償是特別具有優(yōu)勢的。
磁共振設備的一種實施方式在于，磁共振設備被構造為用于實施按照本發(fā)明的方法。由此，磁共振設備被構造為用于實施用于在檢查對象的磁共振成像期間控制磁共振設備的勻場單元的方法。磁共振設備的控制單元的梯度控制單元被構造為用于按照磁共振序列的規(guī)定提供梯度脈沖形狀，該磁共振序列被用于檢查對象的磁共振成像。接口被構造為用于修正梯度脈沖形狀。勻場控制單元被構造為用于在使用修正后的梯度脈沖形狀的條件下產生勻場設置。勻場控制單元被構造為用于在使用勻場設置的條件下控制勻場單元，其中在借助磁共振設備的梯度線圈單元發(fā)出梯度脈沖形狀期間進行勻場單元的控制。
按照本發(fā)明的控制單元和按照本發(fā)明的磁共振設備的優(yōu)點基本上相應于前面詳細描述的按照本發(fā)明的方法的優(yōu)點。在此提到的特征、優(yōu)點或替換的實施方式同樣也可以轉用到其它要求保護的對象，并且反之亦然。換言之，裝置的權利要求也可以以結合方法描述或要求保護的特征來擴展。方法的相應的功能性特征在此通過相應的裝置模塊，特別是通過硬件模塊來構造。
附圖說明
下面結合在附圖中示出的實施例對本發(fā)明作進一步的描述和說明。
附圖中：
圖1以示意圖示出了按照本發(fā)明的具有按照本發(fā)明的控制單元的磁共振設備，
圖2示出了按照本發(fā)明的方法的實施方式的流程圖，
圖3示出了按照本發(fā)明的過程的示例性圖解。
具體實施方式
圖1示意性示出了具有按照本發(fā)明的控制單元24的按照本發(fā)明的磁共振設備11。
磁共振設備11包括由磁體單元13構成的探測器單元，具有用于產生強的且特別是恒定的主磁場18的主磁體17。此外，磁共振設備11具有用于容納檢查對象15(在該情況下是患者)的圓柱形的患者容納區(qū)域14，其中患者容納區(qū)域14在圓周方向上被磁體單元13圓柱形地包圍。患者15可以借助磁共振設備11的患者支撐裝置16移入患者容納區(qū)域14。為此，患者支撐裝置16具有臥榻板，其可移動地布置在磁共振設備11內。磁體單元13借助磁共振設備的殼體外殼31向外屏蔽。
此外，磁體單元13具有用于產生磁場梯度的梯度線圈單元19，該磁場梯度在成像期間用于空間編碼。此外，磁體單元13具有射頻天線單元20，其在所示的情況下構造為固定地集成在磁共振設備10中的身體線圈；和用于激勵在由主磁體17產生的主磁場18中出現的極化的射頻天線控制單元29。射頻天線單元20將高頻的磁共振序列入射到基本上由患者容納區(qū)域14構成的檢查空間中。此外，射頻天線單元20被構造為用于特別是從患者15接收磁共振信號。
此外，磁共振設備11包括勻場單元34。圖1中示出的勻場單元34布置在梯度線圈單元19的直接的空間環(huán)境中或集成地布置在梯度線圈單元19中。但是還可以考慮的是，勻場單元34的部分或整個勻場單元34布置在磁共振設備11的未示出的局部線圈中。勻場單元尤其可以包括多個勻場通道或勻場線圈。勻場單元34尤其具有二階的勻場線圈，其中在使用勻場設置的條件下控制二階的勻場線圈。勻場單元34還可以具有高于二階的勻場線圈，其中在使用勻場設置的條件下控制高于二階的勻場線圈。
控制單元24包括梯度控制單元28和勻場控制單元33。梯度控制單元28被構造為用于借助梯度脈沖形狀控制梯度線圈單元19。勻場控制單元33被構造為用于產生勻場設置以及用于借助勻場設置控制勻場單元34。所示的控制單元24在所示的情況下還包括射頻天線控制單元29，其被構造為用于控制射頻天線單元20。
此外，控制單元24包括從梯度控制單元28至勻場控制單元33的接口32。接口包括輸入組件32a，其從梯度控制單元28接收梯度脈沖形狀。接口包括修正組件32b，其修正梯度脈沖形狀。接口具有輸出組件32c，其將修正后的梯度脈沖形狀傳輸到勻場控制單元33。勻場控制單元33然后可以在使用修改后的梯度脈沖形狀的條件下產生勻場設置。
優(yōu)選地，接口32，特別是接口32的修正組件32b和輸出組件32c，被構造為用于形成所接收的梯度脈沖形狀的導數并且用于將梯度脈沖形狀的導數傳輸到勻場控制單元33。優(yōu)選地，接口或接口的控制組件，例如輸出組件32c，能夠實現在借助梯度控制單元28控制梯度線圈單元19期間實時地將修正后的梯度脈沖形狀傳輸到勻場控制單元33。優(yōu)選地，梯度控制單元28和勻場控制單元33彼此調諧，使得在借助梯度脈沖形狀控制梯度線圈單元19期間進行勻場單元34的控制。
在磁共振設備11的提供單元25，在該情況下是顯示單元25上可以向使用者提供重建的磁共振圖像。此外，磁共振設備11具有輸入單元26，借助其可以在測量過程期間由使用者輸入信息和/或參數。
由此，磁共振設備11與控制單元24一起被構造為用于實施按照本發(fā)明的用于在檢查對象15的磁共振成像期間控制勻場單元34的方法。
所示的磁共振設備11當然可以包括磁共振設備11通常具有的其它組件。此外，磁共振設備11的一般功能對于專業(yè)人員是公知的，從而對其它組件不再詳細描述。
圖2示出了按照本發(fā)明的用于在檢查對象15的磁共振成像期間控制磁共振裝置11的勻場單元34的方法的第一實施方式的流程圖。
在第一方法步驟40中，借助控制單元24的梯度控制單元28按照磁共振序列的規(guī)定提供梯度脈沖形狀，該磁共振序列被用于檢查對象15的磁共振成像。然后將梯度脈沖形狀從梯度控制單元28傳輸到控制單元24的接口32。
在另外的方法步驟41中，借助控制單元24的接口32修正梯度脈沖形狀。在此，梯度脈沖形狀的修正尤其包括在另外的方法步驟41的子步驟diff中形成梯度脈沖形狀的導數。然后可以將梯度脈沖形狀的導數從接口32傳輸到勻場控制單元33。
在另外的方法步驟42中，在使用修正后的梯度脈沖形狀的條件下借助控制單元24的勻場控制單元33產生勻場設置。在此，尤其在使用在另外的方法步驟41的子步驟diff中已經產生的梯度脈沖形狀的導數的條件下產生勻場設置。
在另外的方法步驟43中，在另外的方法步驟43的第一子步驟43-1中在使用勻場設置的條件下借助勻場控制單元33控制勻場單元34。同時，在另外的方法步驟43的第二子步驟43-2中借助磁共振設備11的梯度線圈單元19發(fā)出梯度脈沖形狀。在此特別地，借助梯度線圈單元19發(fā)出原始的梯度脈沖形狀而不是修正后的梯度脈沖形狀。在此，勻場單元34的控制在借助梯度線圈單元19發(fā)出梯度脈沖形狀期間進行。特別優(yōu)選地，僅在借助梯度線圈單元19發(fā)出梯度脈沖形狀的上升和/或下降邊緣期間，在使用勻場設置的條件下控制勻場單元34。
在按照圖2的方法中，修正梯度脈沖形狀并且在使用修正后的梯度脈沖形狀的條件下產生勻場設置，使得借助為了控制勻場單元33而使用的勻場設置至少部分地補償在借助梯度線圈單元19發(fā)出梯度脈沖形狀期間出現的二階的渦流份額。
在檢查對象15的磁共振成像之前優(yōu)選地可以在另外的方法步驟44中在校準中確定表征梯度線圈19的二階的渦流份額的傳遞函數，其中在使用傳遞函數的條件下產生勻場設置。
圖3示出了按照本發(fā)明的過程的示例性圖解。明顯地，圖3中示出的形狀僅能視為示例性的。所示的梯度脈沖形狀及其修正當然也可以與圖3中所示不同地構造。
在框50中示出了示例性的梯度脈沖形狀，其由梯度控制單元28所提供。梯度脈沖形狀包括具有恒定振幅的平臺、上升邊緣和下降邊緣。
梯度脈沖形狀現在被傳輸到梯度線圈單元19，由該梯度線圈單元對其進行發(fā)出以用于磁共振成像，如在框51中所示的那樣。
梯度脈沖形狀不僅被傳輸到梯度線圈單元19，而且附加地也被傳輸到接口32。在另外的步驟中接口修正梯度脈沖形狀。梯度脈沖形狀的特別有利的修正在此是形成梯度脈沖形狀的導數。在框52中示出了在框50中所示的梯度脈沖形狀的導數。具有恒定振幅的平臺在梯度脈沖形狀的導數中作為零位線示出。相反如在框52中可以看出的那樣，在導數中明顯顯現梯度脈沖形狀的上升和下降邊緣。
現在將修正后的梯度脈沖形狀，也就是特別是梯度脈沖形狀的導數，從接口32傳輸到勻場控制單元33。勻場控制單元33可以根據梯度脈沖形狀的導數產生勻場設置，借助該勻場設置由勻場控制單元33控制勻場單元34。
在框53a、53b、53c、53d、53e中示出了勻場單元34的五個二階的勻場線圈的示例性的電流分布。在此，所示的電流分布基于框52中所示的梯度脈沖形狀的導數。在所示的情況下，對于所有五個勻場線圈相同地構造電流分布，其中這一點在具體的應用情況下不必這樣。
梯度脈沖形狀51現在可以由梯度線圈單元19來發(fā)出，而同時勻場單元34的勻場線圈具有在框53a、53b、53c、53d、53e中示出的電流分布。明顯的是，僅當由梯度線圈單元19處理梯度脈沖形狀的上升和下降邊緣時，電流流過勻場線圈。在二階的勻場線圈中通過在框53a、53b、53c、53d、53e中示出的電流分布能夠特別有利地補償由于發(fā)出梯度脈沖形狀的上升和下降邊緣而產生的渦流場。
雖然在細節(jié)上通過優(yōu)選的實施例詳細闡述和描述本發(fā)明，但是本發(fā)明不受所公開的示例限制并且可以由專業(yè)人員從中導出其它方案，而不脫離本發(fā)明的保護范圍。
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