技術特征：

1.一種泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀，其特征在于，包括：點光源(1)及其分光組件(2)、主干涉儀和分光成像組件(11)，由點光源(1)發出的球面波經分光組件(2)分成四束后進入主干涉儀，最后通過分光成像組件(11)在一個CCD上同時獲取四幅相移干涉圖，其中：

所述點光源(1)及其分光組件(2)用于產生四個復振幅相同但空間位置不同的發散球面波；

所述主干涉儀為泰曼型干涉儀，使從參考面反射回的參考光和測試面反射回的測試光形成干涉場；

所述分光成像組件(11)用于將四個光源分別經參考面與測試面反射產生的干涉場在CCD靶面上分開，并且使得CCD靶面與測試面共軛。

2.根據權利要求1所述的泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀，其特征在于，所述分光組件(2)包括順次共光軸設置的第一準直物鏡(3)、棋盤光柵(4)、第一會聚物鏡(5)和孔徑光闌(6)，所述孔徑光闌(6)濾出棋盤光柵(4)的(±1，±1)級四束衍射光，并且濾除其它級次衍射光，所得的四束衍射光復振幅相同，并且分別位于正方形的四個頂點，該正方形位于第一會聚物鏡(5)的焦面，但中心不在主干涉儀的光軸上，該正方形的邊長d即相鄰發散球面波的橫向錯位距離，d由棋盤光柵(4)與第一會聚物鏡(5)確定：

d＝2f₁λ/Λ

其中，f₁為第一會聚物鏡(5)的焦距，λ為入射光波長，Λ為棋盤光柵(4)的光柵周期。

3.根據權利要求1所述的泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀，其特征在于，所述主干涉儀包括共光軸設置的第二準直物鏡(7)、分光棱鏡(8)、參考面(9)和測試面(10)，由點光源(1)發出的球面波經分光組件(2)分成四束后進入主干涉儀，進入主干涉儀的四束光分別由第二準直物鏡(7)擴束，經分光棱鏡(8)后，分別通過參考面(9)和測試面(10)，其中每束光分別被參考面(9)和測試面(10)反射形成參考光和測試光，參考光和測試光沿原路返回并分別經分光棱鏡(8)透射和反射，進入分光成像組件(11)。

4.根據權利要求1所述的泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀，其特征在于，所述分光成像組件(11)包括順次共光軸設置的第二會聚物鏡(12)、透鏡陣列(13)、成像物鏡(14)、CCD(15)，所述透鏡陣列(13)位于第二會聚物鏡(12)的焦面；

經參考面與測試面反射回來的四組參考光與測試光，分別經過透鏡陣列(13)中各個透鏡的物方主點，成像物鏡(14)將經過透鏡陣列(13)的四組參考光與測試光準直成平行光，該平行光在CCD(15)的靶面上形成四個分開的光斑。

5.根據權利要求4所述的泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀，其特征在于，所述透鏡陣列(13)為2×2負透鏡陣列，每個負透鏡的焦距f₂滿足f₂＝-dF_#，其中d為相鄰發散球面波的橫向錯位距離，F_#為主干涉儀中第二準直物鏡(7)的F數。

6.根據權利要求4所述的泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀，其特征在于，所述成像物鏡(14)的前焦面與透鏡陣列(13)的像方主面重合，成像物鏡(14)的焦距f₃滿足f₃≤LF_#/2，其中L為CCD(15)靶面的寬度。

7.根據權利要求4所述的泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀，其特征在于，所述CCD(15)的靶面與主干涉儀中測試面(10)共軛，CCD(15)的靶面與成像物鏡(14)像方主面之間的距離l為

8.一種基于權利要求1所述泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀的測量方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1，點光源通過分光組件產生四個復振幅相同但空間位置不同的發散球面波，該四個發散球面波分別位于正方形的四個頂點，該正方形的中心不在主干涉儀的光軸上，將被測件置于主干涉儀中作為測試面，調整測試面使測試光與參考光的光程，使得CCD上同時獲取四幅相移干涉圖；

步驟2，令x、y分別為所述正方形中心與主干涉儀光軸之間距離在水平、豎直方向上的投影長度，且滿足或者調節測試臂與參考臂長的差值D為或者得到相移量依次遞增π/2的四幅干涉圖，其中f₄為主干涉儀中準直物鏡的焦距，k＝2π/λ為波矢，λ為入射光波長；

步驟3，從一幀CCD圖像上提取出四幅干涉圖，通過移相算法對四幅干涉圖進行處理，恢復出測試面的面形或波像差。

9.根據權利要求8所述的泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀的測量方法，其特征在于，步驟1所述CCD上同時獲取四幅相移干涉圖，忽略常數相移因子-2Dk，每幅干涉圖的相移量δ(r)滿足：

δ(r)＝Dk(r/f₄)²

其中，D為參考臂和測試臂長的差值，k＝2π/λ為波矢，為發散球面波到主干涉儀光軸之間的錯位距離，f₄為主干涉儀中準直物鏡的焦距。

10.根據權利要求8所述的泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀的測量方法，其特征在于，步驟3所述移相算法為隨機移相算法或者四步移相算法。