技術總結
發明公開了一種泰曼型點源陣列異位同步移相干涉儀及其測量方法，屬于光學干涉測量儀器領域。該干涉儀包括點光源及其分光組件、泰曼型主干涉儀和分光成像組件。方法為：點光源發出的球面波經分光組件分成四束后進入主干涉儀，采用分光組件將一個點光源復制成相同的四個，通過調整四個點光源在主干涉儀準直物鏡焦面上與光軸的距離，在參考面與測試面的干涉中引入不同的相移量，然后通過分光成像組件在一個CCD上同時獲取四幅成像清晰的相移干涉圖。本發明具有成本低、抗震性好、對比度好、易于操作等特點，可以用于光學元件的實時高精度檢測等領域。

技術研發人員：陳磊;丁煜;朱文華;韓志剛;鄭東暉;張瑞;張沁園;烏蘭雅圖
受保護的技術使用者：南京理工大學
文檔號碼：201611187788
技術研發日：2016.12.20
技術公布日：2017.05.10