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一種廣泛適用的斑點束平行透鏡設計方法與流程

文檔序號:11100628閱讀:來源:國知局
技術總結
本發明公開了一種廣泛適用的斑點束平行透鏡磁鐵邊界形狀設計方法,屬于半導體裝備領域。如圖1所示是斑點束平行透鏡磁鐵及斑點束線的俯視圖,斑點束平行透鏡磁鐵設計方法包括:1、平行透鏡入口焦點位置O點;2、束線中心軌跡上入口焦點與平行透鏡入口距離L;3、束線掃描角度θ;4、束線在平行透鏡中的偏轉半徑R;5、束線出平行透鏡期望的偏轉角度Θ;6、束線經過平行透鏡后的期望束寬Δ;該設計方法的主要思想是,首先確定平行透鏡入口焦點位置O點后,給出束線中心軌跡上入口焦點與平行透鏡入口距離L及要求的束線掃描角度θ,根據這三個參量可求出平行透鏡磁鐵的入口邊界方程。同樣,根據束線在平行透鏡中的偏轉半徑R、束線出平行透鏡期望的偏轉角度Θ及束線經過平行透鏡后的期望束寬Δ,根據這三個參量可求出平行透鏡磁鐵的出口邊界方程。

技術研發人員:王高騰
受保護的技術使用者:北京中科信電子裝備有限公司
文檔號碼:201510710366
技術研發日:2015.10.28
技術公布日:2017.05.10

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