1.一種金屬化薄膜電容器薄膜結構，包括電介質薄膜和覆蓋在所述電介質薄膜上的蒸鍍電極層，所述蒸鍍電極層包括第一金屬層和第二金屬層，其特征在于，所述第一金屬層位于所述第二金屬層上，所述第一金屬層與所述第二金屬層重疊處設有加厚區(qū)，所述加厚區(qū)寬度為所述第二金屬層寬度的35％-50％。
2.根據(jù)權利要求1所述的金屬化薄膜電容器薄膜結構，其特征在于，所述第一金屬層前端面與所述第二金屬層前端面處于同一豎直面，所述第一金屬層后端面為斜坡面。
3.根據(jù)權利要求2所述的金屬化薄膜電容器薄膜結構，其特征在于，所述第一金屬層前端面至后端面中點之間的區(qū)域為加厚區(qū)。
4.根據(jù)權利要求1-3任一所述的金屬化薄膜電容器薄膜結構，其特征在于，所述加厚區(qū)寬度為所述第二金屬層寬度的50％。
5.根據(jù)權利要求1-3任一所述的金屬化薄膜電容器薄膜結構，其特征在于，所述第一金屬層為鋅金屬層。
6.根據(jù)權利要求1-3任一所述的金屬化薄膜電容器薄膜結構，其特征在于，所述第二金屬層為鋁金屬層。