本公開涉及一種液供給裝置、液供給方法以及存儲介質。

背景技術：

1、以往，已知有一種液處理裝置，該液處理裝置使半導體晶圓(下面也稱為晶圓。)等基板用的處理液在循環線中循環，并且經由從該循環線分支的分支線向液處理部供給處理液。在該液處理裝置的循環線設置有從處理液去除異物的過濾器模塊(下面也稱為過濾器。)以及用于對在循環線中流動的處理液進行調溫的調溫部(參照專利文獻1)。

2、現有技術文獻

3、專利文獻

4、專利文獻1：日本特開2021-9956號公報

技術實現思路

1、發明要解決的問題

2、本公開提供一種能夠降低循環線內的處理液被污染的技術。

3、用于解決問題的方案

4、本公開的一個方式的液供給裝置具備罐、循環線、泵、以及供給線。罐貯存處理液。循環線使從罐輸送出的處理液向罐返回。泵設置于循環線。供給線與循環線連接，用于向對基板進行液處理的液處理部供給處理液。循環線具備設置有泵的主線、以及從主線分支出的第一分支線和第二分支線。供給線具備與第一分支線連接的第一供給線、以及與第二分支線連接的第二供給線。第一分支線從上游起依次具備第一加熱機構、第一過濾器、以及用于排出在第一分支線中流動的處理液的第一排液線，并且第一分支線具備第一分支循環線和第一閥，第一分支循環線從第一加熱機構與第一過濾器之間分支出，用于使從罐輸送出的處理液向罐返回，第一閥用于在第一排液線與第一分支線之間切換處理液的流出目的地。第二分支線從上游起依次具備第二加熱機構、第二過濾器、以及用于排出在第二分支線中流動的處理液的第二排液線，并且第二分支線具備第二分支循環線和第二閥，第二分支循環線從第二加熱機構與第二過濾器之間分支出，用于使從罐輸送出的處理液向罐返回，第二閥用于在第二排液線與第二分支線之間切換處理液的流出目的地。

5、發明的效果

6、根據本公開，能夠降低循環線內的處理液被污染。

技術特征：

1.一種液供給裝置，具備：

2.根據權利要求1所述的液供給裝置，其中，

3.根據權利要求2所述的液供給裝置，其中，

4.根據權利要求2所述的液供給裝置，還具備：

5.根據權利要求2所述的液供給裝置，其中，

6.根據權利要求3所述的液供給裝置，其中，

7.一種液供給方法，在根據權利要求1所述的液供給裝置中包括以下工序：

8.根據權利要求7所述的液供給方法，還包括以下工序：

9.一種存儲介質，是存儲了在計算機上動作來控制液供給裝置的程序的計算機可讀取的存儲介質，

技術總結
提供一種液供給裝置、液供給方法以及存儲介質。具備罐、循環線、泵以及供給線。循環線具備設置有泵的主線、以及從主線分支出的第一分支線和第二分支線。第一分支線具備第一加熱機構、第一過濾器以及第一排液線，還具備第一分支循環線和第一閥，該第一分支循環線從第一加熱機構與第一過濾器之間分支出，使從罐輸送出的處理液向罐返回，該第一閥在第一排液線與第一分支線之間切換處理液的流出目的地。第二分支線具備第二加熱機構、第二過濾器以及第二排液線，還具備第二分支循環線和第二閥，該第二分支循環線從第二加熱機構與第二過濾器之間分支出，使從罐輸送出的處理液向罐返回，該第二閥在第二排液線與第二分支線之間切換處理液的流出目的地。

技術研發人員：長田創,奧田勝也,巖永尚大,小佐井一樹
受保護的技術使用者：東京毅力科創株式會社
技術研發日：
技術公布日：2025/4/24