技術(shù)編號：41223897
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本公開的示例性實施方式涉及基板處理方法和基板處理裝置。背景技術(shù)、在專利文獻中，公開了在半導(dǎo)體基板上使用euv光形成可圖案化的薄膜的技術(shù)。、現(xiàn)有技術(shù)文獻、專利文獻、專利文獻：日本特表-號公報技術(shù)實現(xiàn)思路、本公開提供了一種調(diào)節(jié)顯影圖案形狀的技術(shù)。、在本公開的一個示例性實施方式中，提供了一種基板處理方法，包括：(a)提供具有底膜和所述底膜上的抗蝕劑膜的基板的工序，所述抗蝕劑膜具有第一區(qū)域和第二區(qū)域；(b)除去所述第二區(qū)域的至少一部分，使所述第一區(qū)域的側(cè)面的至少一部分...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。