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MEMS芯片和麥克風的制作方法技術資料下載

技術編號:41736139

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本技術涉及半導體,尤其涉及一種mems芯片和麥克風。背景技術、mems(micro?electro?mechanical?systems,微機電系統)芯片的主要應用實例包括壓力傳感器、加速度計及硅麥克風等,mems芯片一般是先淀積多晶硅導電層,再蒸發或者濺射金屬在導電層上,作為焊線連接點,隨后通過釋放工藝腐蝕出空腔結構。但是在腐蝕空腔結構過程中,釋放工藝的釋放溶液會沿著焊線連接點的邊界腐蝕下邊的導電層,導致導電層斷裂,破壞焊線連接點與導電層之間的電性連接。技術實現思路、本實用新型提供了一種m...
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