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提高芍藥盆花觀賞品質的方法與流程

文檔序號:12292728閱讀:332來源:國知局

本發明涉及一種提高芍藥盆花觀賞品質的方法。



背景技術:

隨著人民生活水平的不斷提高,人們對工作、生活環境的要求也越來越高,室內擺放盆栽植物作為裝飾進行美化也越來越受到人們的青睞。芍藥(Paeonia lactiflora Pall.)是芍藥科多年生宿根草本花卉,為我國傳統名花,與牡丹并稱姐妹花。芍藥因其花朵碩大、花色繁多、花型豐富、花香馥郁等優良的觀賞特性,自古以來就深受人們的喜愛,而近年來盆栽芍藥的市場需求急劇增加,已成為人們裝點家居、美化辦公環境的重要素材。芍藥喜光耐寒、不耐積水,適宜栽植于排水良好、陽光充足的地方,在這種環境下植株才能生長旺盛、花大而多。而盆栽芍藥常處于室內弱光處、根系生長受限且肥力不足,雖能開花,但花數量和質量明顯下降,觀賞價值較低,一盆芍藥只能開兩個花朵,并且植株整體生長勢較弱。此外,盆栽芍藥常因水分控制不合理而引起排水不暢,造成爛根,影響植株生長發育,導致一些優良品種不能夠充分展現其觀賞特性。雖然現代栽培技術在不斷地提高,但與盆栽芍藥相配套的栽培管理方法仍發展滯后,這給消費者和生產者帶來了困難,制約了盆栽芍藥的進一步發展。目前關于優質芍藥的栽培管理技術研究主要針對大田栽培,如劉玉梅在《觀賞芍藥生態習性及栽培技術研究進展》一文中從栽植地選擇、基肥、栽植、肥水管理、中耕除草、支撐及剪殘花和繁殖等方面總結了芍藥露地栽培技術;薛琴芬等在《芍藥栽培與主要病蟲害防治》一文中除了介紹了栽植和繁殖方法,對田間的主要病蟲害及防治方法提出了詳細的指導。這些技術雖然能提高芍藥觀賞價值,但都是在露地栽培條件下實現的,光照充足,水肥管理粗放,而在盆栽條件下,外界環境和生長條件不同,管理技術難以實現預期效果。而對于盆栽芍藥的研究主要從花期調控和栽培基質等小環節展開,如張秀麗在《盆栽芍藥花期調控研究》一文中通過溫度和GA3對盆栽芍藥進行處理,以調控盆栽芍藥花期;中國發明專利CN102106248B公開了一種芍藥無土栽培基質,該方法將栽培過食用菌的廢菌棒經過處理得到的菇渣替代部分泥炭土,該方法節約了經濟成本;中國發明專利CN102126879A公開了一種盆栽芍藥專用營養液,是由包含大量元素的母液和包含微量元素的母液調制而成,該方法提供了一種新型芍藥施肥方法。雖然以上方法都提高了盆栽芍藥質量,但主要集中在基質和肥料的選擇,沒有針對性給出系統的管理措施。

因此,研發一種提高盆栽芍藥觀賞品質的方法十分必要。



技術實現要素:

本發明的目的是克服現有技術存在的不足,提供一種提高芍藥盆花觀賞品質的方法,旨在解決盆栽芍藥在生長過程中由于光照弱、肉質根系粗大、營養不足等因素引起的觀賞品質下降等問題。

本發明的目的通過以下技術方案來實現:

提高芍藥盆花觀賞品質的方法,包括以下步驟:

a)選擇芍藥苗:選擇植株根系完整、健壯、無病蟲害的3年生以上芍藥苗;

b)選擇花盆:選擇高度為25~30cm、口徑為30~35cm、通氣性能好、利于植株生長的花盆;

c)準備基質:采用由泥炭、園土、蛭石和珍珠巖混合構成的基質,泥炭、園土、蛭石和珍珠巖的體積比為(3~5):(1~1.5):(1~1.5):(1~1.5);

d)上盆:上盆前用含有(600~1000)mg/L的50%多菌靈作為基質殺蟲、殺菌劑和(2~8)mg/L生根粉的混合溶液浸根;在花盆底部鋪一層陶粒墊排水孔,利于排出多余的水,然后鋪上基質,將處理好的芍藥植株放入、扶正,繼續填入基質,并輕輕提苗、晃動、按壓,使盆中基質更嚴實,栽植高度以植株鱗芽與盆口平齊為準;

e)水肥管理:上盆后第一次用清水將植株澆透,以花盆底部排水孔流出水為準,而后每次澆水均見干見濕,防止積水;芍藥喜肥性強,早春芽萌動后,結合澆水輕施一次含氮的液體肥;在現蕾后、開花前,葉面噴施葉面肥;

f)光照:室內需將花盆置于陽臺或光線充足處,溫室栽培光線不足時需每天補光;現蕾期適時調整盆間距,通風透氣,夏季需遮陰,避免強光灼傷;

g)修剪:現蕾后及時將側蕾摘除,花后及時剪去殘花。

進一步地,上述的提高芍藥盆花觀賞品質的方法,其中,步驟a),每盆栽有5~10個飽滿鱗芽。

進一步地,上述的提高芍藥盆花觀賞品質的方法,其中,步驟d),混合溶液浸根3~5min;在花盆底部鋪一層陶粒墊排水孔,然后鋪上3~5cm基質。

進一步地,上述的提高芍藥盆花觀賞品質的方法,其中,步驟e),含氮的液體肥為尿素。

進一步地,上述的提高芍藥盆花觀賞品質的方法,其中,步驟e),含氮的液體肥為濃度0.3%的尿素。

進一步地,上述的提高芍藥盆花觀賞品質的方法,其中,步驟e),在現蕾后、開花前,每隔10天施1次葉面肥。

進一步地,上述的提高芍藥盆花觀賞品質的方法,其中,步驟e),開花后噴施2次葉面肥。

進一步地,上述的提高芍藥盆花觀賞品質的方法,其中,步驟e),葉面肥為磷酸二氫鉀水溶液。

進一步地,上述的提高芍藥盆花觀賞品質的方法,其中,所述葉面肥為濃度0.2%磷酸二氫鉀水溶液。

進一步地,上述的提高芍藥盆花觀賞品質的方法,其中,步驟f),溫室栽培光線不足時需每天補光2小時以上,現蕾期適時調整盆間距為25~30cm。

本發明與現有技術相比具有顯著的優點和有益效果,具體體現在以下方面:

(1)本發明方法采用適于盆栽芍藥生長的混合基質(泥炭、園土、蛭石和珍珠巖),上盆前通過誘導根系再生的處理,并在植株生長過程中通過施液體肥(0.3%的尿素)和葉面肥(0.2%磷酸二氫鉀水溶液)以及補充光照來促進植物的營養生長和生殖生長;

(2)種植出的盆栽芍藥不僅株形緊湊,花莖挺立,而且花量大,花色艷麗,葉片厚實有光澤,大大提高了盆栽芍藥的觀賞品質;

(3)該方法能很好地補充芍藥營養生長和生殖生長過程中所需的營養物質,操作簡單,提高了盆栽芍藥的成活率和生命力,能有效的提高盆栽芍藥的經濟價值;

(4)選用尺寸合適的花盆以及配合使用五彩石和圖案瓷盆,最終提高了盆栽芍藥的整體觀賞價值。

具體實施方式

本發明針對盆栽芍藥在生長過程中由于光照弱、肉質根系粗大、營養不足等因素引起的觀賞品質下降問題,提供一種提高盆栽芍藥觀賞品質的栽培管理方法,為生產者和消費者在盆栽芍藥栽培中提供關鍵技術支撐。

提高芍藥盆花觀賞品質的栽培管理方法:

選擇芍藥苗:選擇植株根系完整、健壯、無病蟲害的3年生以上芍藥苗,每盆栽保證有5~10個飽滿鱗芽。

選擇花盆:芍藥為發達的肉質條狀根系,根系長度通常在15~20cm,選擇高度為25~30cm、口徑為30~35cm、通氣性能好、利于植株生長的花盆;同時考慮到美觀因素,因此選擇帶有牡丹、芍藥花朵圖案的瓷盆;

準備基質:基質要求疏松、肥沃、腐殖質含量高、肥效持久而又宜排水,采用由泥炭、園土、蛭石和珍珠巖混合構成的基質,泥炭、園土、蛭石和珍珠巖的體積比為(3~5):(1~1.5):(1~1.5):(1~1.5);

上盆:上盆前用含有(600~1000)mg/L的50%多菌靈作為基質殺蟲、殺菌劑和(2~8)mg/L生根粉的混合溶液浸根3~5min;在花盆底部鋪一層陶粒墊排水孔,利于排出多余的水,然后鋪上3~5cm基質,將處理好的芍藥植株放入、扶正,繼續填入基質,并輕輕提苗、晃動、按壓,使盆中基質更嚴實,栽植高度植株鱗芽與盆口平齊為準,最后用五彩石鋪面裝飾基質;

水肥管理:上盆后第一次用清水將植株澆透,以花盆底部排水孔流出水為準,而后每次澆水均見干見濕,防止積水;芍藥喜肥性強,早春芽萌動后,結合澆水輕施一次含氮的液體肥(0.3%尿素);在現蕾后、開花前,每隔10天施1次葉面肥,開花后噴施2次葉面肥,葉面肥為0.2%磷酸二氫鉀水溶液。

光照:喜光照,在充足的光照下,才能生長旺盛、花色艷麗,室內需將花盆置于陽臺或光線充足處,溫室栽培光線不足時需每天補光2小時以上;現蕾期適時調整盆間距,通風透氣,夏季需遮陰,避免強光灼傷;

修剪:生長較好的芍藥,不僅枝繁葉茂,而且每枝花莖上有3~5個花蕾,為了使養分集中,保證主蕾花大色艷,現蕾后及時將側蕾摘除,花后及時剪去殘花,以減少養分消耗,10月份將地上部枯枝全部剪去,防止越冬滋生病菌。

實施例1:

芍藥苗的選擇:選擇植株根系完整、健壯、無病蟲害的4年生芍藥苗,購于菏澤春秋園藝中心,每盆約有10個飽滿鱗芽。

花盆的選擇:選擇高度30cm、口徑35cm、通氣性能好、帶有牡丹花朵圖案的瓷盆。

基質的準備:選用泥炭:園土:蛭石:珍珠巖(5:1.5:1.5:1.5)混合的基質。

上盆:在花盆底部鋪一層陶粒來墊排水孔,以利于排出多余的水。然后鋪上3cm基質,將處理好的芍藥植株放入,扶正,繼續填入基質,并輕輕提苗、晃動、按壓使盆中基質更嚴實,栽植高度以植株鱗芽與盆口平齊為準。最后用五彩石鋪面裝飾基質,并且上盆前用含有1000mg/L的50%多菌靈作為基質殺蟲、殺菌劑和8mg/L生根粉的混合溶液浸根5min。

水肥管理:上盆后第一次用清水將植株澆透,以花盆底部排水孔流出水為準,而后每次澆水均見干見濕,防止積水。在早春芽萌動后,結合澆水輕施一次含氮的液體肥(0.3%尿素);在現蕾后、開花前,每隔10天施1次葉面肥,開花后噴施2次,葉面肥為0.2%磷酸二氫鉀水溶液。

光照:每天補光2小時,現蕾期適時調整盆間距為30cm,通風透氣,夏季適當遮陰,避免強光灼傷,保護葉片。

修剪:現蕾后及時將側蕾摘除,花后及時剪去殘花,10月份將地上部枯枝全部剪去。

實施例2:

芍藥苗的選擇:選擇植株根系完整、健壯、無病蟲害的3年生芍藥苗,購于菏澤春秋園藝中心,每盆約有5個飽滿鱗芽。

花盆的選擇:選擇高度25cm、口徑30cm、通氣性能好、帶有牡丹花朵圖案的瓷盆。

基質的準備:選用泥炭:園土:蛭石:珍珠巖(3:1:1:1)混合的基質。上盆:在花盆底部鋪一層陶粒來墊排水孔,以利于排出多余的水。然后鋪上4cm基質,將處理好的芍藥植株放入,扶正,繼續填入基質,并輕輕提苗、晃動、按壓使盆中基質更嚴實,栽植高度植株鱗芽與盆口平齊為準。最后用五彩石鋪面裝飾基質,并且上盆前用含有600mg/L的50%多菌靈作為基質殺蟲、殺菌劑和2mg/L生根粉的混合溶液浸根3min。

水肥管理:上盆后第一次用清水將植株澆透,以花盆底部排水孔流出水為準,而后每次澆水均見干見濕,防止積水。在早春芽萌動后,結合澆水輕施一次含氮的液體肥(0.3%尿素);在現蕾后、開花前,每隔10天施1次葉面肥,開花后噴施2次,葉面肥為0.2%磷酸二氫鉀水溶液。

光照:每天補光2小時,現蕾期適時調整盆間距為25cm,通風透氣,夏季適當遮陰,避免強光灼傷,保護葉片。

修剪:現蕾后及時將側蕾摘除,花后及時剪去殘花,10月份將地上部枯枝全部剪去。

實施例3:

芍藥苗的選擇:選擇植株根系完整、健壯、無病蟲害的5年生芍藥苗,購于菏澤春秋園藝中心,每盆約有8個飽滿鱗芽。

花盆的選擇:選擇高度27cm、口徑35cm、通氣性能好、帶有牡丹花朵圖案的瓷盆。

基質的準備:選用泥炭:園土:蛭石:珍珠巖(4:1.2:1.2:1.2)混合的基質。上盆:在花盆底部鋪一層陶粒來墊排水孔,以利于排出多余的水。然后鋪上5cm基質,將處理好的芍藥植株放入,扶正,繼續填入基質,并輕輕提苗、晃動、按壓使盆中基質更嚴實,栽植高度植株鱗芽與盆口平齊為準。最后用五彩石鋪面裝飾基質,并且上盆前用含有800mg/L的50%多菌靈作為基質殺蟲、殺菌劑和5mg/L生根粉的混合溶液浸根4min。

水肥管理:上盆后第一次用清水將植株澆透,以花盆底部排水孔流出水為準,而后每次澆水均見干見濕,防止積水。在早春芽萌動后,結合澆水輕施一次含氮的液體肥(0.3%尿素);在現蕾后、開花前,每隔10天施1次葉面肥,開花后噴施2次,葉面肥為0.2%磷酸二氫鉀水溶液。

光照:每天補光2小時,現蕾期適時調整盆間距為30cm,通風透氣,夏季適當遮陰,避免強光灼傷,保護葉片。

修剪:現蕾后及時將側蕾摘除,花后及時剪去殘花,10月份將地上部枯枝全部剪去。

對比例:

芍藥苗的選擇:選擇植株根系完整、健壯、無病蟲害的4年生芍藥苗,購于菏澤春秋園藝中心,每盆約有10個飽滿鱗芽。

花盆的選擇:選室內常用的紅棕色塑料盆,高度21cm、口徑23cm。

基質的準備:選園土:泥炭(1:1)混合的基質。

上盆:在花盆底部鋪一層基質,將芍藥植株放入,扶正,繼續填入基質,并輕輕提苗、晃動、按壓使盆中基質更嚴實,栽植高度植株鱗芽與盆口平齊為準。

水肥管理:上盆后第一次用清水將植株澆透,以花盆底部排水孔流出水為準,而后每次澆水均見干見濕,防止積水。

上述實施例和對比例栽培的芍藥盆花,進行觀賞品質比較:

對比例盆栽芍藥在常規栽培管理方法下的生長情況,植株不僅生長勢弱,且花量少(僅2個花朵開放),株形松散,花莖脆弱易倒伏,葉片脆薄,葉色偏黃,整體觀賞價值較低。

而實施例盆栽芍藥的生長情況,植株不僅生長健壯,而且花量大(約10個花朵開放),花色艷麗,株形緊湊,花莖挺立,葉片厚實,葉色翠綠有光澤,加上五彩石和附有牡丹圖案瓷盆的點綴,整體造型更加美觀大氣,具有較高的觀賞品質,群體觀賞效果極佳。

本發明采用適于盆栽芍藥生長的混合基質(泥炭、園土、蛭石和珍珠巖),上盆前通過誘導根系再生的處理,并在植株生長過程中通過施液體肥(0.3%的尿素)和葉面肥(0.2%磷酸二氫鉀水溶液)以及補充光照來促進植物的營養生長和生殖生長;選配尺寸合適的花盆以及配合使用五彩石和圖案瓷盆,最終提高了盆栽芍藥的整體觀賞品質。

綜上所述,本發明操作簡便,易于推廣應用,能很好地補充盆栽芍藥營養生長和生殖生長過程中的營養物質,養護健壯的根系,提高盆栽芍藥的成活率和生命力。與現有方法相比,種植出的盆栽芍藥株形緊湊,莖干挺拔,花朵大小均勻、顏色鮮艷,葉片厚重有光澤,同時配套的五彩石和圖案瓷盆,更能提升盆栽芍藥的觀賞價值。

需要說明的是:以上所述僅為本發明的優選實施方式,并非用以限定本發明的權利范圍;同時以上的描述,對于相關技術領域的專門人士應可明了及實施,因此其它未脫離本發明所揭示的精神下所完成的等效改變或修飾,均應包含在申請專利范圍中。

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