本發明涉及一種美容器具，具體涉及一種指甲拋光條及其制備方法。

背景技術：

人類的指甲是皮膚附件之一，屬于結締組織。指甲甲床的血管和神經特別豐富，指甲也是肝臟毒素的一個排泄口，同時指甲更是愛美女士手部護理的最重要部分，擁有靚麗的指甲是很多女士的夢想。

常用的指甲油多含有丙酮、乙酸乙酯、鄰苯二甲酸酯、甲醛、苯等有毒化學物質，對人體有害無益，長期涂覆指甲油會損害指甲健康，再加上指甲油對指甲的包裹使指甲不能及時排除肝臟毒素，這更是對肝臟的一種損傷。當指甲長出一部分時，新長出部分就沒有指甲油覆蓋，為了美觀不得不用洗甲水清洗指甲油而重新涂覆，洗甲水主要原料為丙酮，對人體的傷害更甚于指甲油，長期接觸指甲油和洗甲水將對人體造成重大危害。并且，指甲油和洗甲水的生產制造和使用后產生的廢料也會對環境造成一定的污染。

技術實現要素：

為了解決上述技術問題，本發明公開一種指甲拋光條，該拋光條能夠將指甲表面打磨拋光，使指甲表面呈現光亮美觀的色澤，無需使用對人體有危害的指甲油或洗甲水即可美化指甲表面，達到美甲的效果。本發明還公開該指甲拋光條的制備方法。

本發明通過下述技術方案實現：

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒的底部固定在基板上。

指甲是皮膚附件之一，屬于結締組織。指甲甲床的血管和神經特別豐富，指甲也是肝臟毒素的一個排泄口，目前指甲的護理美化多采用涂覆指甲油的方式，常用的指甲油含有丙酮、乙酸乙酯、鄰苯二甲酸酯、甲醛、苯等有毒化學物質，對人體有害無益，長期涂覆指甲油會損害指甲健康，再加上指甲油對指甲的包裹使指甲不能及時排除肝臟毒素，這更是對肝臟的一種損傷。涂覆指甲油的同時難免還需要使用洗甲水，洗甲水主要原料為丙酮，對人體的傷害更甚于指甲油，長期接觸指甲油和洗甲水將對人體造成重大危害。并且，指甲油和洗甲水的生產制造和使用后產生的廢料也會對環境造成一定的污染。

本發明一種指甲拋光條，通過在基板上加工一層拋光層，拋光層包含密集分布拋光齒，利用大量微小的拋光齒對指甲表面進行打磨拋光，消除指甲表面原有凹凸不平的紋理，使指甲表面平整光滑細膩，并帶有亮麗的光澤，達到類似涂覆指甲油后的視覺效果，因此本發明拋光條在無需使用指甲油的情況下，能夠使指甲達到光潔亮麗的視覺效果，美化指甲外觀，避免指甲和人體遭受指甲油和洗甲水的危害。既保證了指甲美觀，又使人體免于有毒化學物質的損害，達到安全健康的美甲效果。

所述拋光齒呈垂直于基板的柱形，拋光齒徑向最大寬度為150～250μm，拋光齒間的間距為80～150μm。

本申請發明人做了大量嘗試，發現當拋光齒徑向最大寬度在150～250μm，拋光齒間的間距在80～150μm范圍內時，拋光條能夠對指甲表面進行拋光，消除指甲表面凹凸不平的紋理和瑕疵，使指甲表面光澤細膩，可替代指甲油對指甲表面進行美化處理，避免人體遭受指甲油和洗甲水的侵害。

當拋光齒徑向最大寬度超出150～250μm范圍，拋光齒間的間距超出80～150μm范圍時，其拋光后的指甲表面較粗糙，光澤度差，或者無法進行拋光打磨，難以在不使用指甲油的情況下使指甲美觀。

所述拋光齒呈垂直于基板的柱形，拋光齒徑向最大寬度為180～220μm，拋光齒間的間距為100～110μm。

在發明人的大量反復試驗過程中，發現當拋光齒徑向最大寬度為180～220μm，拋光齒間的間距為100～110μm時，拋光條的拋光效果最佳，拋光后的指甲表面光滑細膩，光澤度高，能夠完全替代指甲油使指甲表面美觀亮麗。

所述拋光齒高度為18～22μm。當拋光齒高度低于18μm時，拋光過程中指甲碎屑容易很快將拋光齒間間隙填充滿，使拋光條無法繼續拋光，需要經過清理拋光齒間隙后使用，影響拋光效率和用戶體驗。

所述拋光齒形狀為圓柱、四棱柱、六棱柱和三棱柱中的一種。

本發明是利用微米級的拋光齒頂面邊緣的棱角作用于指甲表面，對指甲表面進行切削，將現有打磨工具難以處理的指甲表面最細微的突起或瑕疵處理干凈，使指甲表面光滑細膩，并產生亮麗的光澤，達到打磨拋光指甲的效果，美化指甲。

拋光齒底部與基板連接為一體式。

所述基板和拋光齒的材質為玻璃。

所述基板和拋光齒的材質為青玻璃、超白玻璃和康寧玻璃中的一種。

由于基板和拋光齒材質為青玻璃、超白玻璃和康寧玻璃這一類硬度較高的玻璃，而人體指甲相對硬度低，因此拋光齒頂面能夠對指甲進行打磨拋光且自身難以被磨損，延長其使用壽命，且不會因為拋光齒磨損變形而影響拋光效果。

所述拋光齒頂部覆有一層鉻層。鉻層硬度高于玻璃，其厚度為100nm，用于保護拋光齒頂面不被硬物磨損，同時能夠改善拋光條的顏色和外觀。

一種指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為150～250μm、相互間距為100～150μm的小凸點，小凸點頂面形狀為圓形、菱形、六邊形和三角形中的一種，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

還可以在去除光刻膠后，去除柱狀凸起上層的鉻膜。再將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

所述高硬度玻璃板為青玻璃、超白玻璃和康寧玻璃中的一種。且高硬度玻璃板厚度為2～4mm。

本發明的指甲拋光條的制備方法，通過光刻工藝和化學腐蝕的方法，在玻璃表面獲得一定范圍大小和一定范圍深度的規律排布的微米級拋光齒，利用銳利的拋光齒頂面邊緣的切削能力對指甲表面進行拋光，使指甲表面達到光滑亮麗的美甲效果，從而避免指甲油和洗甲水等有毒化工品對人體的傷害和對環境的污染，并且利用該方法制得的拋光條精度高、強度好、拋光效果佳、經久耐用。

本發明與現有技術相比，具有如下的優點和有益效果：

1、本發明一種指甲拋光條，通過在基板上加工一層拋光層，拋光層包含密集分布拋光齒，利用大量微小的拋光齒對指甲表面進行打磨拋光，消除指甲表面原有凹凸不平的紋理，使指甲表面平整光滑細膩，并帶有亮麗的光澤，達到類似涂覆指甲油后的視覺效果，在無需使用指甲油的情況下，能夠使指甲達到光潔亮麗的視覺效果，避免指甲和人體遭受指甲油和洗甲水的危害。既保證了指甲美觀，又使人體免于有毒化學物質的損害；

2、本發明一種指甲拋光條的制備方法，通過光刻工藝和化學腐蝕的方法，在玻璃表面獲得一定范圍大小和一定范圍深度的規律排布的微米級拋光齒，利用銳利的拋光齒頂面邊緣的切削能力對指甲表面進行拋光，使指甲表面達到光滑亮麗的美甲效果，從而避免指甲油和洗甲水等有毒化工品對人體的傷害和對環境的污染，并且利用該方法制得的拋光條精度高、強度好、拋光效果佳、經久耐用。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發明實施例的進一步理解，構成本申請的一部分，并不構成對本發明實施例的限定。在附圖中：

圖1為本發明結構示意圖；

圖2為本發明實施例4拋光條局部放大圖；

圖3為本發明實施例6拋光條局部放大圖；

圖4為本發明指甲拋光條的制備流程圖。

附圖中標記及對應的零部件名稱：

1-基板，2-拋光層，3-拋光齒，4-掩膜版，41-玻璃板，42-鉻膜，43-小凸點，5-基板復合層，51-鉻膜，52-光刻膠。

具體實施方式

為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚明白，下面結合實施例和附圖，對本發明作進一步的詳細說明，本發明的示意性實施方式及其說明僅用于解釋本發明，并不作為對本發明的限定。

實施例1

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒直徑為205μm，拋光齒間的間距為155μm，所述拋光齒高度為20μm。基板和拋光齒的材質為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為205μm、相互間距為155μm的小凸點，小凸點頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為2mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，可用肉眼分辨出拋光后的指甲表面具有很多細微的劃痕，手感粗糙且無光澤，因此本實施例的拋光條雖然能夠用于打磨指甲，但不能用于指甲拋光，無法達到使指甲光澤亮麗的效果。

實施例2

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒直徑為145μm，拋光齒間的間距為140μm，所述拋光齒高度為19μm。基板和拋光齒的材質為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為145μm、相互間距為140μm的小凸點，小凸點頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為4mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，在操作時較為費力，拋光條難以打磨拋光指甲，經處理后的指甲表面依然存在凹凸不平的指甲紋理，因此本實施例的拋光條不能用于指甲的打磨或拋光。

實施例3

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒直徑為150μm，拋光齒間的間距為150μm，所述拋光齒高度為20μm。基板和拋光齒的材質為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為150μm、相互間距為150μm的小凸點，小凸點頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為2mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，雖然無法用肉眼分辨出拋光后的指甲表面是否有劃痕，且指甲表面光滑，但指甲色澤較為暗淡，帶有啞光效果，因此本實施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，使指甲表面具有光潔的啞光效果，可在一定程度上替代指甲油使指甲光潔美觀。

實施例4

如圖1、2所示，一種指甲拋光條，包括基板1和拋光層2，所述拋光層2包括若干密集分布的拋光齒3，拋光齒3形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒3底部與基板1連接為一體式。其中，拋光齒3直徑為165μm，拋光齒3間的間距為135μm，所述拋光齒3高度為18μm。基板1和拋光齒3的材質為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

如圖4所示，上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板41，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜42，鉻膜42包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜42表面形成若干直徑為165μm、相互間距為135μm的小凸點43，小凸點43頂面形狀為圓形，即制得掩膜版4；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板1，本實施例采用厚度為3mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜51，再在鉻膜51上旋涂一層光刻膠52，得到基板復合層5；

紫外光刻：將基板復合層5的光刻膠52與掩膜版4的鉻膜42接觸，使基板復合層5與掩膜版4緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層5與掩膜版4分離，再將基板復合層5置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點43接觸部位的光刻膠52保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠52下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層5上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點43頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版4一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層5置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜51接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層5的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜51上方的光刻膠52即得拋光齒3。

最后將蝕刻好的基板1經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有光澤，因此本實施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲光潔美觀。

實施例5

一種指甲拋光條，包括基板1和拋光層2，所述拋光層2包括若干密集分布的拋光齒3，拋光齒3形狀為軸線垂直于基板1的四棱柱，拋光齒3底部與基板1連接為一體式。其中，拋光齒3徑向最大寬度為180μm，拋光齒3間的間距為120μm，所述拋光齒3高度為21μm。基板1和拋光齒3的材質為肖特B270超白玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為180μm、相互間距為120μm的小凸點，小凸點頂面形狀為菱形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為4mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有較好的光澤度，因此本實施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲光潔美觀。

實施例6

如圖1、3所示，一種指甲拋光條，包括基板1和拋光層2，所述拋光層2包括若干密集分布的拋光齒3，拋光齒3形狀為軸線垂直于基板的六棱柱，拋光齒3底部與基板1連接為一體式。其中，拋光齒3徑向最大寬度為190μm，拋光齒3間的間距為110μm，所述拋光齒3高度為19μm。基板1和拋光齒3的材質為肖特B270超白玻璃，在拋光齒3頂部覆有一層鉻層。

如圖4所示，上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板41，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜42，鉻膜42包括與玻璃板41接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜42表面形成若干直徑為190μm、相互間距為110μm的小凸點43，小凸點43頂面形狀為六邊形，即制得掩膜版4；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板1，本實施例采用厚度為2mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜51，再在鉻膜51上旋涂一層光刻膠52，得到基板復合層5；

紫外光刻：將基板復合層5的光刻膠52與掩膜版4的鉻膜42接觸，使基板復合層5與掩膜版4緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層5與掩膜版4分離，再將基板復合層5置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層5上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層5上構成了與掩膜版4一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層5置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜51接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層5的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜51上方的光刻膠52即得拋光齒3。

最后將蝕刻好的基板1經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有非常好的光澤度，因此本實施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲表面光潔亮麗。

實施例7

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的六棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為200μm，拋光齒間的間距為100μm，所述拋光齒高度為20μm。基板和拋光齒的材質為康寧玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為200μm、相互間距為100μm的小凸點，小凸點頂面形狀為六邊形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為4mm的康寧玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有非常好的光澤度，因此本實施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲表面光潔亮麗。

實施例8

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的三棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為220μm，拋光齒間的間距為95μm，所述拋光齒高度為22μm。基板和拋光齒的材質為康寧玻璃。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為220μm、相互間距為95μm的小凸點，小凸點頂面形狀為三角形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為3mm的康寧玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

在去除光刻膠后，去除柱狀凸起上層的鉻膜，再將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有較好的光澤度，因此本實施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲表面光潔亮麗。

實施例9

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的三棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為235μm，拋光齒間的間距為130μm，所述拋光齒高度為21μm。基板和拋光齒的材質為肖特B270超白玻璃。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為235μm、相互間距為130μm的小凸點，小凸點頂面形狀為三角形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為4mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

在去除光刻膠后，去除柱狀凸起上層的鉻膜。再將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有較好的光澤度，因此本實施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可完全替代指甲油使指甲光潔美觀。

實施例10

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的圓柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒直徑為250μm，拋光齒間的間距為90μm，所述拋光齒高度為18μm。基板和拋光齒的材質為肖特B270超白玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為250μm、相互間距為90μm的小凸點，小凸點頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為3mm的肖特B270超白玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有一定光澤度，拋光效果尚可，因此本實施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可替代指甲油使指甲光潔美觀。

實施例11

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的六棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為240μm，拋光齒間的間距為80μm，所述拋光齒高度為22μm。基板和拋光齒的材質為康寧玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為240μm、相互間距為80μm的小凸點，小凸點頂面形狀為圓形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為2mm的康寧玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，拋光過程較為費力，拋光效率低，經拋光后的指甲表面表面手感光滑并具有一定光澤度，拋光效果尚可，因此本實施例的拋光條能夠用于打磨指甲和拋光指甲，可替代指甲油使指甲光潔美觀。

實施例12

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的三棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為210μm，拋光齒間的間距為77μm，所述拋光齒高度為18μm。基板和拋光齒的材質為青玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為210μm、相互間距為77μm的小凸點，小凸點頂面形狀為三角形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為4mm的青玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，拋光過程十分費力，經拋光后的指甲表面表面依然存在凹凸不平的指甲紋理，因此本實施例的拋光條無法用于打磨指甲和拋光指甲。不能替代指甲油使指甲光潔美觀。

實施例13

一種指甲拋光條，包括基板和拋光層，所述拋光層包括若干密集分布的拋光齒，拋光齒形狀為軸線垂直于基板的六棱柱，拋光齒底部與基板連接為一體式。其中，拋光齒徑向最大寬度為255μm，拋光齒間的間距為105μm，所述拋光齒高度為17μm。基板和拋光齒的材質為康寧玻璃，在拋光齒頂部覆有一層鉻層。

上述指甲拋光條的制備方法，包括以下工藝步驟：

掩膜版制作：取一塊玻璃板，通過濺射鍍膜的方式在其表面鍍上鉻膜，鉻膜包括與玻璃板接觸的鉻層和鉻層外側的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，再通過激光直方式寫在鉻膜表面形成若干直徑為255μm、相互間距為105μm的小凸點，小凸點頂面形狀為六邊形，即制得掩膜版；

基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板，本實施例采用厚度為4mm的康寧玻璃，在其表面真空鍍上一層100nm的鉻膜，再在鉻膜上旋涂一層光刻膠，得到基板復合層；

紫外光刻：將基板復合層的光刻膠與掩膜版的鉻膜接觸，使基板復合層與掩膜版緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；

顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層與掩膜版分離，再將基板復合層置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，原先與掩膜版小凸點接觸部位的光刻膠保留，其余部位被腐蝕并露出下層的鉻膜層，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，光刻膠下方的鉻膜保留，其余部位的鉻膜被蝕刻并露出下層的高硬度玻璃板，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層上形成若干柱狀凸起，柱狀凸起橫截面形狀與小凸點頂面形狀相同，且柱狀凸起在基板復合層上構成了與掩膜版一致的圖案；

玻璃蝕刻：將基板復合層置于玻璃腐蝕液中酸蝕，最終，高硬度玻璃板與鉻膜接觸部位保留，其余部位被蝕刻出凹槽；

去除光刻膠：基板復合層的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠即得拋光齒。

最后將蝕刻好的基板經過切割、磨邊和清洗，就形成一個個拋光條。

將本實施例制造出的拋光條用于指甲表面拋光，經拋光后的指甲表面表面雖然不存在凹凸不平的指甲紋理，但其手感粗糙，無光澤，并且打磨過程中，拋光齒深度過淺，常常由于指甲碎屑填充了拋光齒間的間隙，拋光條一段時間后便無法打磨，需要清理后才能繼續使用，使用不方便。因此本實施例的拋光條雖然可用于打磨指甲，但不能用于拋光指甲，不能替代指甲油使指甲光潔美觀。

本申請發明人對指甲拋光條的形狀、尺寸和材質做了大量的試驗，在此不一一例舉，僅例舉上述13個較為典型的實施方式。

實施例3～11中的指甲拋光條均能夠對指甲進行拋光，替代指甲油使指甲光澤亮麗，避免人體受到指甲油和洗甲水的傷害，其中實施例5～8中的拋光條拋光效果尤其好，實施例3的拋光條拋光效果較為一般，實施例9、11的拋光條拋光效果較好，實施例10的拋光條拋光效果尚可。

將實施例1與其他實施例對比分析可得出，由于實施例1中拋光齒間的距離過大，當拋光齒作用于指甲表面時，其邊緣棱角在指甲表面的切削深度過深，使指甲表面產生劃痕，使指甲粗糙無光澤，因此不能替代指甲油使指甲光澤亮麗。將實施例2與其他實施例對比分析可得出，由于實施例2中拋光齒直徑過小，拋光齒邊緣棱角難以作用于指甲表面進行切削，因此不能替代指甲油使指甲光澤亮麗。同樣的，實施例12中由于拋光齒間間距過小，拋光齒邊緣棱角在指甲表面的切削深度過淺，幾乎可忽略不計，無法對指甲進行拋光處理，因此不能替代指甲油使指甲光澤亮麗。實施例13中拋光齒直徑過大，由于作用于指甲表面的顆粒不夠細致，因此導致打磨出的指甲表面手感粗糙無光澤，不能替代指甲油使指甲光澤亮麗。

綜上所述，結合本申請發明人的大量反復試驗以及實施例1～13可以得出，當拋光齒徑向最大寬度為150～250μm，拋光齒間的間距為80～150μm時，指甲拋光條能夠對指甲進行拋光，使指甲表面光潔亮麗，達到美甲效果，可替代指甲油，使人體免受指甲油和洗甲水的損害，在保證指甲美觀的同時保護了人體健康。其中，當拋光齒徑向最大寬度為180～220μm，拋光齒間的間距為100～110μm時，指甲拋光條的拋光效果達到最佳，指甲拋光后光澤度非常好，美觀度高，適宜在美甲領域廣泛推廣使用。

以上所述的具體實施方式，對本發明的目的、技術方案和有益效果進行了進一步詳細說明，所應理解的是，以上所述僅為本發明的具體實施方式而已，并不用于限定本發明的保護范圍，凡在本發明的精神和原則之內，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。