1.一種指甲拋光條，其特征在于，包括基板(1)和拋光層(2)，所述拋光層(2)包括若干密集分布的拋光齒(3)，拋光齒(3)的底部固定在基板(1)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種指甲拋光條，其特征在于，所述拋光齒(3)呈垂直于基板的柱形，拋光齒(3)徑向最大寬度為150～250μm，拋光齒(3)間的間距為80～150μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種指甲拋光條，其特征在于，所述拋光齒(3)呈垂直于基板(1)的柱形，拋光齒(3)徑向最大寬度為180～220μm，拋光齒(3)間的間距為100～110μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的一種指甲拋光條，其特征在于，所述拋光齒(3)高度為18～22μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的一種指甲拋光條，其特征在于，所述拋光齒(3)形狀為圓柱、四棱柱、六棱柱和三棱柱中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的一種指甲拋光條，其特征在于，拋光齒(3)底部與基板(1)連接為一體式。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的一種指甲拋光條，其特征在于，所述基板(1)和拋光齒(3)的材質(zhì)為玻璃。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的一種指甲拋光條，其特征在于，所述基板(1)和拋光齒(3)的材質(zhì)為青玻璃、超白玻璃和康寧玻璃中的一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種指甲拋光條，其特征在于，所述拋光齒(3)頂部覆有一層鉻層。
10.如權(quán)利要求1～9中任一項所述的一種指甲拋光條的制備方法，其特征在于，包括以下工藝步驟：
掩膜版制作：取一塊玻璃板(41)，在其表面鍍上鉻膜(42)，通過激光直寫在鉻膜表面形成若干直徑為150～250μm、相互間距為100～150μm的小凸點(43)，即制得掩膜版(4)；
基板處理：取一塊高硬度玻璃板為基板(1)，在其表面真空鍍上一層鉻膜(51)，再在鉻膜(51)上旋涂一層光刻膠(52)，得到基板復合層(5)；
紫外光刻：將基板復合層(5)與掩膜版(4)緊密貼合后在紫外光刻機上曝光處理；
顯影和蝕刻：將曝光處理好的基板復合層(5)與掩膜版(4)分離，再將基板復合層(5)置于四甲基氫氧化銨溶液中使光刻膠顯影，再置于硝酸鈰銨溶液中做鉻膜蝕刻，蝕刻好以后再烘烤，此時基板復合層(5)上形成若干柱狀凸起，且柱狀凸起在基板復合層(5)上構(gòu)成了與掩膜版(4)一致的圖案；
玻璃蝕刻：將基板復合層(5)置于玻璃腐蝕液中酸蝕；
去除光刻膠：基板復合層(5)的高硬度玻璃板酸蝕后，去除鉻膜上方的光刻膠(52)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的一種指甲拋光條的制備方法，其特征在于，所述掩膜版制作工藝中，鉻膜(42)包括與玻璃板(41)接觸的鉻層和鉻層外側(cè)的三氧化二鉻層，鉻層和三氧化二鉻層總厚度為150nm，且鉻層和三氧化二鉻通過濺射鍍膜的方式鍍在玻璃板(41)上。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的一種指甲拋光條的制備方法，其特征在于，所述小凸點(43)頂面形狀為圓形、菱形、六邊形和三角形中的一種。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的一種指甲拋光條的制備方法，其特征在于，所述高硬度玻璃板為青玻璃、超白玻璃和康寧玻璃中的一種。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的一種指甲拋光條的制備方法，其特征在于，所述高硬度玻璃板厚度為2～4mm。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的一種指甲拋光條的制備方法，其特征在于，所述基板復合層(6)上的鉻膜(51)厚度為100nm。