1.一種中子治療裝置，其特征在于，所述中子治療裝置包括射束整形體、設于射束整形體中的中子產生部、將離子束傳送至中子產生部的管束、使得離子束傳輸方向發生改變的偏轉電磁鐵以及準直器，所述射束整形體包括緩速體及包設在緩速體外周的反射體，所述中子產生部經離子束照射后產生中子，所述緩速體將自中子產生部產生的中子減速至預設能譜，所述反射體將偏離的中子導回以提高預設能譜內的中子強度，所述準直器將中子產生部產生的中子進行集中照射，所述中子治療裝置具有對被照射體進行照射的照射空間，所述管束具有軸線，所述射束整形體能夠繞管束的軸線轉動從而對照射空間中的被照射體進行不同角度的照射。
2.根據權利要求1所述的中子治療裝置，其特征在于，所述中子治療裝置還包括支撐架，所述射束整形體固持于支撐架，射束整形體繞管束軸線轉動的同時也在支撐架上運動。
3.根據權利要求2所述的中子治療裝置，其特征在于，所述管束包括第一管束和與第一管束相連的第三管束，所述軸線包括第一管束的第一軸線和第三管束的第二軸線，所述射束整形體能夠繞第一管束的第一軸線或者第三管束的第二軸線轉動。
4.根據權利要求3所述的中子治療裝置，其特征在于，所述第一管束和第三管束之間形成第一夾角，所述第一夾角的大小能夠改變以調整射束整形體與照射空間中被照射體的位置關系。
5.根據權利要求2所述的中子治療裝置，其特征在于，所述支撐架包括第一支撐部，照射空間位于第一支撐部下方，所述第一支撐部設有第一軌道，所述射束整形體固持于支撐架的第一軌道，所述第一軌道凹設于支撐架從而形成與照射空間相連通的容置空間，所述準直器自容置空間延伸入照射空間。
6.根據權利要求5所述的中子治療裝置，其特征在于，所述第一支撐部為圓弧狀設置，所述第一軌道為與第一支撐部同一圓心的圓弧狀設置，所述第一軌道自第一支撐部的圓弧表面凹設形成。
7.根據權利要求3所述的中子治療裝置，其特征在于，所述管束還包括第二管束，所述第二管束連接于中子產生部，所述第二管束和第三管束之間形成第二夾角，所述第二夾角的大小能夠改變以調整射束整形體與照射空間中被照射體的位置關系。
8.權利要求7所述的中子治療裝置，其特征在于，所述偏轉磁鐵固持于支撐架，所述偏轉磁鐵包括位于第一管束和第三管束之間的第一偏轉磁鐵以及位于第二管束和第三管束之間的第二偏轉磁鐵，所述第一管束中離子束的傳輸方向通過第一偏轉磁鐵發生改變后傳輸至第三管束中，第三管束中離子束的傳輸方向通過第二偏轉磁鐵發生改變后傳輸至第二管 束，第二管束中的離子束照射至中子產生部，產生用于中子射線裝置進行照射的中子束。
9.根據權利要求8所述的中子治療裝置，其特征在于，所述支撐架還設有用于支撐第二偏轉磁鐵的第二支撐部，所述第二支撐部設有第二軌道，當射束整形體在第一軌道中運動時，所述第二支撐部在第二軌道中運動。
10.根據權利要求8所述的中子治療裝置，其特征在于，所述支撐架還設有第三支撐部，所述第一偏轉磁鐵固持于第三支撐部，所述第一管束固定于加速器和第一偏轉磁鐵之間，所述第二管束連接于射束整形體和第二偏轉磁鐵之間，所述第三管束連接于第一偏轉磁鐵和第二偏轉磁鐵之間。