專利名稱：硅料沉淀分選清洗溶液及其配制與使用方法
技術領域：
本發明涉及分選清洗技術領域，尤其是太陽能行業用于碎硅片分選清洗技術。
背景技術：
太陽能產業是朝陽產業，隨著人們對環境保護重視力度的加大，太陽能產業更是發展迅猛。在太陽能產業中，晶體硅有著不可替代的重要作用。然而其生產中產生的廢晶體硅，需要進行處理。目前硅片的清洗方法為人工分選、燒結配合化學分解方法。人工分選會形成大量的灰塵，對人體的健康造成一定的傷害，需要大量人工及配套勞保措施，自動化程度低。燒結和化學方法會造成大量金屬離子雜質的引入，化學腐蝕損耗較高，浪費過多化學藥劑，成本較高，對環境造成污染較大
發明內容
·本發明的目的是提供一種硅料沉淀分選清洗溶液，采用此溶液，可充分利用溶液的浮力，對硅料進行物理法清洗。本發明的另一個目的是提供上述硅料沉淀分選清洗溶液的配制方法，可方便地配制出使硅料沉淀而進行分選的清洗溶液。本發明的還有一個目的是提供上述硅料沉淀分選清洗溶液的使用方法，采用此方法可以輕松的把比硅料密度低的雜質分選出來。為實現上述發明目的，本發明采用如下技術方案
硅料沉淀分選清洗溶液，其特征在于清洗溶液指具有清洗作用且溶液密度小于待清洗多晶硅材料的溶液；即多晶硅材料的密度為2. 33g/ml，清洗溶液密度為2. 33g/ml以下(不包含2. 33g/ml),當含有雜質的硅材料投入到溶液中，雜質會漂浮到溶液表面，而硅材料會沉在溶液底部，因為氯化鋅和氯化銻都極易溶于水，附著在硅材料上的溶液很容易在后道清洗去除。其中，清洗溶液密度為2. 33g/ml以下，優選密度為I. 70g/ml 2. 30g/ml。所述清洗溶液指含有三氯化銻溶液、氯化鋅溶液的混合液體。所述三氯化銻溶液指三氯化銻過飽和水溶液。所述氯化鋅溶液指氯化鋅過飽和水溶液。進一步
硅料沉淀分選清洗溶液的配制方法，其特征在于首先在30至50攝氏度的水域條件下配置三氯化銻溶液，直至溶液飽和，形成溶液I ;在60至90攝氏度水域條件下配置氯化鋅溶液，直至溶液飽和，形成溶液2 ;把溶液2與溶液I混合，并調節兩種溶液的比例，可以得到密度為I. 70g/ml 2. 30g/ml的清洗溶液。其中，優選方案
所述的清洗溶液指密度為2. 20g/ml 2. 30g/ml的溶液。其中，最佳方案所述的清洗溶液指密度為2. 25g/ml的溶液。再進一步
硅料漂浮分選清洗溶液的使用方法，包括以下步驟a配制密度小于硅料的清洗溶液；b將干爽的硅材料投入清洗溶液中，浸泡10秒以上；硅料因密度大于溶液，所以會沉在溶液底部，而比溶液密度小的塑料、膠條等雜質會漂浮在溶液表面；(用溢流方法將雜質去除；d把硅片取出，用清水沖洗干凈，即可得到干凈的硅片。與現在的分選清洗方式相比，本發明具有以下有益效果1、它使處理廢晶體硅工業化，可高效地處理廢晶體硅。2、省工省力省時，效率高。具有分層處理的優點，可以輕松的把硅材料中的比硅密度低的雜質清洗分離出來。3、所配置溶液便于回收利用，不僅減少了分選清洗過程中的金屬離子引入，節約了人工成本，還減少了化學物品的排放。4、配制和使用方法簡單方便，普通員工經過短時間的培訓均可以掌握。
具體實施方式
為了使本技術領域的人員更好地理解本發明方案，并使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面結合實施例對本發明作進一步詳細的說明。實施例
首先在30至50攝氏度的水域條件下配置三氯化銻溶液，直至溶液飽和，形成溶液I。在60至90攝氏度水域條件下配置氯化鋅溶液，直至溶液飽和，形成溶液2。把溶液2與溶液I混合，并調節兩種溶液的比例，可以得到密度為I. 70g/ml 2. 30g/ml的清洗溶液。本發明中特別指在硅材料清洗時，為把硅材料中密度小于硅的雜質清洗出來，選用密度為2. 25g/ml的溶液比較適宜。根據溫度的不同過飽和溶液的密度是不同的，比例需要調節，普通技術人員均可操作。使用方法將干爽的硅材料投入硅片沉淀分選清洗溶液中，硅料中的塑料、膠條等密度小于硅的雜質會漂浮在溶液表面，硅料會沉在溶液底部，只需用溢流等方法將雜質去除，把硅料從溶液中取出，即可得到干凈的硅料。再把所得硅料用水清洗干凈即可。以上所述，僅為本發明的具體實施方式
，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。
權利要求
1.硅料沉淀分選清洗溶液，其特征在于清洗溶液指具有清洗作用且溶液密度小于待清洗多晶硅材料的溶液；當含有雜質的硅材料投入到溶液中，雜質會漂浮到溶液表面，而硅材料會沉在溶液底部。
2.根據權利要求I所述的硅料沉淀分選清洗溶液，其特征在于所述清洗溶液密度為2.33g/ml 以下。
3.根據權利要求I所述的硅料沉淀分選清洗溶液，其特征在于所述清洗溶液密度為I.70g/ml 2. 30g/ml。
4.根據權利要求I或2或3所述的硅料沉淀分選清洗溶液，其特征在于述清洗溶液指含有三氯化銻溶液、氯化鋅溶液的混合液體。
5.一種如權利要求4所述的硅料沉淀分選清洗溶液的配制方法，其特征在于在30至50攝氏度的水域條件下配置三氯化銻溶液，直至溶液飽和，形成溶液I ;在60至90攝氏度水域條件下配置氯化鋅溶液，直至溶液飽和，形成溶液2 ;把溶液2與溶液I混合，并調節兩種溶液的比例，從而得到密度為I. 70g/ml 2. 30g/ml的清洗溶液。
6.根據權利要求3所述的硅料沉淀分選清洗溶液的配制方法，其特征在于所述的清洗溶液指密度為2. 25g/ml的溶液。
7.一種利用如權利要求I或5所述的硅料沉淀分選清洗溶液對硅料進行清洗的方法，其特征在于包括以下步驟a配制密度小于硅料的清洗溶液；b將干爽的硅材料投入清洗溶液中，浸泡10秒鐘以上；(用溢流方法將雜質去除；d把硅片取出，用清水沖洗干凈，即可得到干凈的硅片。
全文摘要
硅料沉淀分選清洗溶液及其配制與使用方法，涉及分選清洗技術領域，清洗溶液指具有清洗作用且密度小于待清洗多晶硅材料的溶液；當含有雜質的硅材料投入到溶液中，雜質會漂浮到溶液表面，而硅材料會沉在溶液底部。配制時，在30至50攝氏度的水域條件下配置三氯化銻溶液，溶液飽和形成溶液1；在60至90攝氏度水域條件下配置氯化鋅溶液，溶液飽和形成溶液2；把溶液2與溶液1混合，并調節兩種溶液的比例，從而得到密度為1.70g/ml～2.30g/ml的清洗溶液。本發明的有益效果是具有分層處理的優點，可輕松的把硅材料中的比硅密度低的雜質清洗分離出來，并且所配置溶液可以回收利用，不僅減少了分選清洗過程中的金屬離子引入，節約了人工成本，還減少了化學品的排放。
文檔編號B08B3/08GK102814297SQ20121028573
公開日2012年12月12日 申請日期2012年8月13日 優先權日2012年8月13日
發明者石堅, 孫志剛, 劉茂華, 韓子強, 曹洋 申請人:安陽市鳳凰光伏科技有限公司