一種有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，包括在底板上依次設置的陶瓷盤裝載部、超聲波循環槽、多個溢流水槽、噴干槽和陶瓷盤卸載部。整個清洗過程是在常溫下進行，陶瓷盤表面的蠟無揮發，不會危害大氣環境和影響員工身體健康。采用超聲波及多道溢流槽清洗工藝，清洗更全面，不會造成蠟殘留，影響再次拋光晶片的平整度。采用高溫壓縮空氣吹干，不會造成水漬殘留。全自動操作，相較于人力操作，大大節約清洗時間，提高生產效率。并且本裝置設備占用空間遠小于傳統工藝，大大節約生產成本。
【專利說明】一種有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置

【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及半導體清潔【技術領域】，具體地是涉及一種有蠟陶瓷盤的自動清洗 裝置。

【背景技術】
[0002] 隨著半導體行業在中國的發展以及對半導體晶片的要求，晶片向著尺寸大、厚度 薄的方向發展，為使晶片表面平整、無損傷，多采用有蠟拋光的技術進行拋光。采用此方式 拋光之后，陶瓷盤表面易殘留固體蠟，影響下次拋光晶片平整度，且易損害晶片。
[0003] 目前陶瓷盤表面蠟的清洗方式主要是人工將帶蠟的陶瓷盤高溫加熱后，用酒精和 無塵布將表面的蠟擦干凈。這類方法的主要缺點有：①高溫加熱后蠟容易揮發，影響操作 員工的身體健康；②陶瓷盤表面的蠟融化后，人工擦拭熔蠟的效率較慢，每人每擦拭干凈一 個盤至少需要二十分鐘；③擦拭熔蠟效率低，不能完全擦拭陶瓷盤表面，造成陶瓷盤的蠟殘 留，降溫后的固體蠟易使下次拋光有蠟晶片造成晶片凸起，從而影響晶片平整度。
[0004] 因此，本實用新型的發明人亟需構思一種新技術以改善其問題。 實用新型內容
[0005] 本實用新型旨在提供一種有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，其可以保證員工身體健康 的前提下提高生產效率和保證晶片平整度。
[0006] 為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是：
[0007] -種有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，包括在底板上依次設置的陶瓷盤裝載部、超聲 波循環槽、N個溢流水槽、噴干槽和陶瓷盤卸載部，所述超聲波循環槽內設有藥液，每一所述 溢流水槽內均設有純水，所述噴干槽內設有壓縮空氣，N為大于或者等于1的整數。
[0008] 其中所述超聲波循環槽包括內槽和外槽，所述內槽和所述外槽之間通過循環藥液 管道連通，所述內槽的橫截面積小于所述外槽的橫截面積；所述內槽上方設有一對噴淋系 統，所述噴淋系統與所述循環藥液管道連通，所述內槽的內部設有藥液，所述內槽下方設有 超聲波振動器室；所述外槽下方設有過濾器和排污系統。
[0009] 進一步地，所述噴干槽包括噴干槽槽體，所述噴干槽槽體上方設有噴氣系統和加 熱管道，所述噴干槽槽體下方設有排水管道。
[0010] 進一步地，每一所述溢流水槽均包括第一槽體和第二槽體，所述第一槽體的橫截 面積小于所述第二槽體的橫截面積；所述第一槽體上方設有一對噴水系統，所述第一槽體 內設有純水，所述第二槽體下方設有排水系統。
[0011] 進一步地，所述超聲波循環槽還包括加熱系統。
[0012] 進一步地，所述超聲波循環槽還包括循環泵，通過所述循環泵將經過所述過濾器 過濾后的藥液泵入到所述內槽和所述噴淋系統中。
[0013] 進一步地，所述加熱系統為加熱器。
[0014] 進一步地，所述壓縮空氣的溫度在40-60°C之間。
[0015] 采用上述技術方案，本實用新型至少包括如下有益效果：
[0016] 本實用新型所述的有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，清洗過程是在常溫下進行，陶瓷 盤表面的蠟無揮發，不會危害大氣環境和影響員工身體健康。采用超聲波及多道溢流槽清 洗工藝，清洗更全面，不會造成蠟殘留，影響再次拋光晶片的平整度。采用高溫壓縮空氣吹 干，不會造成水漬殘留。全自動操作，相較于人力操作，大大節約時間，提高生產效率。并且 本裝置設備占用空間遠小于傳統工藝，大大節約生產成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017] 圖1為本實用新型所述的有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置的原理圖；
[0018] 圖2為本實用新型所述的超聲波循環槽的正視圖；
[0019] 圖3為本實用新型所述的超聲波循環槽的俯視圖；
[0020] 圖4為本實用新型所述的噴干槽的正視圖；
[0021] 圖5為本實用新型所述的溢流水槽的正視圖；
[0022] 圖6為本實用新型所述的溢流水槽的俯視圖。
[0023] 其中：1.陶瓷盤裝載部，2.超聲波循環槽，3.溢流水槽，4.噴干槽，5.陶瓷盤卸載 部，21.內槽，22.外槽，23.循環藥液管道，24.噴淋系統，25.超聲波振動器室，27.過濾器， 28.排污系統，29.加熱系統，20.循環泵，31.第一槽體，32.第二槽體，33.純水管道，34.噴 水系統，35.排水系統，41.噴干槽槽體，42.噴氣系統，43.加熱管道，44.排水管道。

【具體實施方式】
[0024] 下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。
[0025] 如圖1至圖6所示，為符合本實用新型的一種有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，包括在 底板上依次設置的陶瓷盤裝載部1、超聲波循環槽2、N個溢流水槽3、噴干槽4和陶瓷盤卸 載部5,所述超聲波循環槽2內設有藥液，每一所述溢流水槽內均設有純水，所述噴干槽4內 設有壓縮空氣，N為大于或者等于1的整數。其中每兩個所述溢流水槽3之間優選通過純 水管道33連通，即前面一個所述溢流水槽3使用后面一個所述溢流水槽3內的純水，如此 可以保證誰資源的充分利用，而且可以在一定程度上節約生產成本。當然本領域技術人員 完全可以根據實際的使用需求便宜行事，本實施例對此不做限定。所述陶瓷盤裝載部1和 所述陶瓷盤卸載部5優選為陶瓷盤存儲室，所述藥液優選為有機溶劑，由于其均為本領域 技術人員的常規技術選擇，故此處不再贅述。
[0026] 其中所述超聲波循環槽2包括內槽21和外槽22,所述內槽21和所述外槽22之間 通過循環藥液管道23連通，所述內槽21的橫截面積小于所述外槽22的橫截面積；所述內 槽21上方設有一對噴淋系統24,所述噴淋系統24與所述循環藥液管道23連通，所述內槽 21的內部設有藥液，所述內槽21下方設有超聲波振動器室25 ;所述外槽22下方設有過濾 器27和排污系統28。其中所述內槽21中藥液滿后溢出到所述外槽22,所述外槽22內的 藥液經過所述過濾器27的過濾后經由所述循環藥液管道23泵入到所述內槽21和所述噴 淋系統24中，大部分藥液經過所述過濾器27的過濾后部分直接回到所述內槽21，部分接入 所述噴淋系統24中。
[0027] 本實施例的工作原理在于：在所述陶瓷盤裝載部1，有蠟陶瓷盤裝載完成之后，由 機械臂運送至所述超聲波循環槽2,在藥液和超聲波的共同作用下，將陶瓷盤表面的蠟去除 掉，此槽中清洗后的藥液可循環使用。同時，可在藥液效果減弱后排出部分弱效藥液，加入 部分新鮮藥液，以利于達到最優清洗效果。而且，藥液經過過濾后泵入所述內槽21和所述 噴淋系統24,以除去藥液中雜質，保證清洗效果。去除蠟后的陶瓷盤依次運送至多個所述溢 流水槽3,經過純水的多次沖洗，將陶瓷盤的表面沖洗干凈，無蠟殘留，保障后續拋光晶片的 平整度。經過多次清洗后的陶瓷盤運送至所述噴干槽4,在所述壓縮熱空氣的吹掃作用下， 快速將陶瓷盤表面的水珠吹掃干凈，再由機械臂運送至陶瓷盤卸載部5,卸載后的陶瓷盤即 可投入使用。其中所有轉運工作優選使用機械臂完成，本領域技術人員應當知曉。
[0028] 所述噴干槽4包括噴干槽槽體41，所述噴干槽槽體41上方設有噴氣系統42和加 熱管道43,所述噴干槽槽體41下方設有排水管道44。其中優選地所述加熱管道43內置有 溫度傳感器，可以保證加熱溫度的精度。所述加熱管道43可以有效控制所述壓縮空氣的溫 度，利用高溫壓縮空氣吹干，不會造成水漬殘留，生產效率高。
[0029] 每一所述溢流水槽3均包括第一槽體31和第二槽體32,所述第一槽體31的橫截 面積小于所述第二槽體32的橫截面積，如此當所述第一槽體31內的水滿后可以直接溢出 到所述第二槽體32內，不至于打濕地面；所述第一槽體31上方設有一對噴水系統34,所述 第一槽體31內設有純水；所述第二槽體32下方設有排水系統35。優選地所述第二槽體32 下方還設有導通泵和導通管道，用于將所述第二槽體32內的純水在所述導通泵的驅動下 經過所述導通管道導入到所述噴水系統34內，進而將純水導入到所述第一槽體31內，如此 可以實現水資源的循環利用。所述導通泵和導通管道附圖中并未標記，本領域技術人員應 當知曉。
[0030] 所述超聲波循環槽2還包括加熱系統29,所述加熱系統29用于保證槽內所述藥液 的溫度，使其利于清洗又不會造成對工作人員的身體傷害。
[0031 ] 所述超聲波循環槽2還包括循環泵20,通過所述循環泵20將所述藥液泵入到所述 內槽21和所述噴淋系統24中，利于資源循環利用。
[0032] 所述加熱系統29優選為加熱器。
[0033] 所述壓縮空氣的溫度在40_60°C之間。采用高溫壓縮空氣吹干，不會造成水漬殘 留。
[0034] 所述溢流水槽3的數量優選為2個。當然本領域技術人員可以根據實際的使用需 求對所述溢流水槽3的數量進行相應的調整，本實施例對此不做限定。
[0035] 本裝置各工藝槽運行時間及溫度范圍如表1所示。
[0036] 表 1
[0037]

【權利要求】
1. 一種有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，其特征在于，包括在底板上依次設置的陶瓷盤裝 載部、超聲波循環槽、N個溢流水槽、噴干槽和陶瓷盤卸載部，所述超聲波循環槽內設有藥 液，每一所述溢流水槽內均設有純水，所述噴干槽內設有壓縮空氣，N為大于或者等于1的 整數； 其中所述超聲波循環槽包括內槽和外槽，所述內槽和所述外槽之間通過循環藥液管道 連通，所述內槽的橫截面積小于所述外槽的橫截面積；所述內槽上方設有一對噴淋系統，所 述噴淋系統與所述循環藥液管道連通，所述內槽的內部設有藥液，所述內槽下方設有超聲 波振動器室；所述外槽下方設有過濾器和排污系統。
2. 如權利要求1所述的有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，其特征在于：所述噴干槽包括噴 干槽槽體，所述噴干槽槽體上方設有噴氣系統和加熱管道，所述噴干槽槽體下方設有排水 管道。
3. 如權利要求2所述的有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，其特征在于：每一所述溢流水槽 均包括第一槽體和第二槽體，所述第一槽體的橫截面積小于所述第二槽體的橫截面積；所 述第一槽體上方設有一對噴水系統，所述第一槽體內設有純水，所述第二槽體下方設有排 水系統。
4. 如權利要求2或3所述的有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，其特征在于：所述超聲波循 環槽還包括加熱系統。
5. 如權利要求4所述的有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，其特征在于：所述超聲波循環槽 還包括循環泵，通過所述循環泵將經過所述過濾器過濾后的藥液泵入到所述內槽和所述噴 淋系統中。
6. 如權利要求5所述的有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，其特征在于：所述加熱系統為加 熱器。
7. 如權利要求6所述的有蠟陶瓷盤的自動清洗裝置，其特征在于：所述壓縮空氣的溫 度在40-60°C之間。
【文檔編號】B08B3/12GK204159598SQ201420596588
【公開日】2015年2月18日 申請日期:2014年10月15日 優先權日:2014年10月15日
【發明者】易德福, 吳城 申請人:易德福