本發明涉及一種提花面料呢，具體涉及一種獨幅LOGO色織小提花面料，屬于紡織用品技術領域。

背景技術：

大提花裝造一般是一吊二、一吊四，因此花型花位受到裝造的限制，不能實現獨幅花面料，即使具有獨幅的裝造或采用抽針技術實現獨幅花，其大提花設備投資高、織造效率低、用工多、工序復雜,多數廠家都難以大規模生產，且很少有客戶能夠接受高價格的面料，客戶追求的是高性價比。大提花的花型除了受花位限制，其圖案靈活，可千變萬化，因此，品牌公司將logo字母織在大提花花型的底部，起到保護產品的作用。對于小提花而言，其花位不受限制，但是花型的變化受到提綜規律及綜頁數的限制，如何保護小提花品種不被效仿，保護自己的產品。在現有技術中很難將大提花和小提花優勢融為一體，本領域的技術人員也不斷的嘗試，該問題一直沒有得到妥善解決。

技術實現要素：

本發明正是針對現有技術中存在的技術問題，提供一種獨幅LOGO色織小提花面料，該技術方案采用劍桿多臂織機織制logo字母，突破僅有大提花生產logo的瓶頸，整幅只有一個花位循環，突破大提花受花位循環大小的限制。此外，緯紗采用有色銅纖維，花型色澤飽滿，立體感強，面料大氣精致，可提升面料的附加值。本發明兼具大提花與小提花的優勢，突破瓶頸，獲得具有保護產權作用的高性價比的面料。

為了實現上述目的，本發明的技術方案如下，獨幅LOGO色織小提花面料，其特征在于，加工工藝具體如下：規格：經密571根/10cm，緯密244根/10cm，幅寬106英寸，經紗采用棉緊密紡40S，緯紗采用銅纖維32S；

（1）花型設計：為了將LOGO字母在多臂設備上以整幅的花型織造，LOGO的設計是關鍵，無論橫排還是豎排要確保設計的LOGO字母要小于等于多臂織機的綜框數。花型圖案的開發，是一個復雜的綜合因素實現的過程，包括花型圖案的設計、區域的劃分及大小、組織的選擇，綜合考慮多方因素進行全方位設計過程是該面料設計的重點及難點，試制過程中要解決產品花型圖案的設計技巧，加上原料靈活變化，從而達到新穎獨特的外觀。

（2）花型的制作，根據設計方案在CAD軟件中設計出花型，花型是獨幅的，其花位循環等于門幅大小，寬度達250cm；給花型圖1鋪上相應的組織2/1和1/2斜紋，生成紋版，根據圖案及紋版做上機紋版圖，其局部紋版圖如下：

（3）漿紗，漿紗以淀粉漿料為主，采用“高濃、低粘”的調漿工藝，采用定積法調漿，TM8010 100kg，磷酸酯淀粉25kg，ADC 25kg，蠟片3kg，抗靜電劑2kg，防腐劑0.35kg，柔軟劑2kg，定積780L，漿紗工藝中采用中壓，浸透與被覆并重、小伸長的上漿路線；（4）穿綜：史陶比爾自動穿綜機；

（5）織造：利用Sliver劍桿織機20頁綜的19頁綜，開口量76mm、半清晰開口，后梁20mm、開口時間310度、引緯時間90度；

（6）后整理步驟：坯布翻縫——燒毛——精練退漿——氧漂——烘干——拉幅定型——軋光———預縮——成品。

相對于現有技術，本發明的優點如下：1）本發明整個技術方案設計巧妙，采用劍桿多臂織機織制logo字母，突破僅有大提花生產logo的瓶頸，整幅只有一個花位，突破大提花受花位大小的限制；2）此外，該技術方案中緯紗采用有色銅纖維，花型色澤飽滿，立體感強，面料大氣精致，可提升面料的附加值；3）該技術方案兼具大提花與小提花的優勢，突破瓶頸，獲得具有高性價比的面料；4）該技術方案成本較低，方便進行市場推廣。

附圖說明

圖1、圖2為本發明紋版制作結構示意圖。

具體實施方式

為了加深對本發明的理解和認識，下面結合具體實施方式對本發明作進一步描述和介紹。

實施例1：

參見圖1、圖2，一種獨幅LOGO色織小提花面料，規格：經密571根/10cm，緯密244根/10cm，幅寬106英寸。經紗采用緊密紡40S，緯紗采用銅纖維32S；

（1）花型設計，為了將LOGO字母在多臂設備上織造，在CAD軟件中設計花型做成如圖1所示，花型是獨幅的，花位循環等于門幅大小；

（2）紋版的制作，在CAD中給花型圖1鋪組織2/1和1/2斜紋，生成紋版，根據圖案及紋版做上機紋版圖，其局部紋版圖如下：

（3）漿紗，漿紗以淀粉漿料為主，采用“高濃、低粘”的調漿工藝，采用定積法調漿，TM8010 100kg，磷酸酯淀粉25kg，ADC 25kg，蠟片3kg，抗靜電劑2kg，防腐劑0.35kg，柔軟劑2kg，定積780L，漿紗工藝中采用中壓，浸透與被覆并重、小伸長的上漿路線；

（4）穿綜：史陶比爾自動穿綜機；

（5）織造：利用Sliver劍桿織機20頁綜的19頁綜，開口量76mm、半清晰開口，后梁20mm、開口時間310度、引緯時間90度；

（6）后整理步驟：坯布翻縫——燒毛——精練退漿——氧漂——烘干——拉幅定型——軋光———預縮——成品。

需要說明的是上述實施例，并非用來限定本發明的保護范圍，在上述技術方案的基礎上所作出的等同變換或替代均落入本發明權利要求所保護的范圍。