專利名稱：一種萬向氣體支撐機構的制作方法
技術領域：
本發明涉及支撐裝置領域，尤其是涉及一種氣體支撐機構。
背景技術：
ITOdndium Tin Oxides,銦錫氧化物)是銦錫氧化物的英文縮寫,它是一種透明的導電體，通常厚度只有幾千埃，在所有在透明導電體中，其具有特別優良的性能:高的可見光透過率，高的紅外反射率，良好的機械強度和化學穩定性，用酸溶液等濕法刻蝕工藝能很容易形成一定的電極圖極，制備相對比較容易等，這使它廣泛用于各種電子及光電子器件，如手機和電腦等平板顯示領域。因此，對ITO薄膜玻璃的表面質量要求非常高。20世紀90年代初，隨著IXD器件的飛速發展，對ITO薄膜產品的需求量也是急劇的增加，國內部分廠家紛紛開始從國外引進一系列整廠ITO鍍膜生產線，但由于進口設備的價格昂貴，技術服務不方便等因素，使許多廠商還是望而卻步。80年代末，中國誕生了第一條TN-1XD用ITO連續鍍膜生產線。90年代中期，隨著國內LCD產業的發展，對ITO產品的需求量增大的同時，對產品的質量有了新的要求，因此出現了第二代ITO鍍膜生產線。99年，有效的解決了射頻磁控濺射沉積Si02薄膜的沉積速率慢影響生產線的產能和設備的利用率等一系列問題，同時出現了第三代大型高檔ITO薄膜生產線。隨著反射式IXD，增透式IXD、LC0S圖影機背投電視等顯示器件的發展，對ITO薄膜產品提出了更高的要求，Si02/IT0兩層膜結構的ITO薄膜材料滿足不了使用的需要，而比須采用多層復合膜系已達到產品的高反射性、或高透過率等光學性能要求。積累多年的設計開發經驗，國內生產企業推出了第四代大型多層薄膜生產線。該生產線由15個真空室組成，采用全分子泵無油真空系統、使用了 RF/MF/DC三種磁控濺射工藝、通過PEM/PCV進行工藝氣體的控制。該生產線具有連續沉積五層薄膜的能力。隨著PDA、電子書等觸摸式輸入電子產品的悄然興起，相應材料的制成設備也應運而生。由于觸摸式產品工作原理的特殊性，其所需的ITO薄膜必須是在柔性材料(PET)上制成的，薄膜的沉積溫度不能太高(小于120°C)，同時要求ITO膜層較薄、面電阻高而且均勻，所以對ITO薄膜的沉積工藝提出了嚴格的要求。隨著對ITO薄膜制作工藝要求的進一步苛刻，對ITO薄膜制品在加工、處理、運輸過程中，有著更加嚴格的要求。早期的ITO膜玻璃均為單面鍍膜，隨著iphone手機等設備的出現越來越多地采用雙面ITO膜玻璃。在ITO薄膜玻璃制備、加工領域中，使用的支撐機構大多比較粗糙，很多直接使用支撐平臺，不僅增大輕薄的ITO薄膜玻璃與平臺的接觸面，容易沾上較多的灰塵，而且也容易在ITO薄膜玻璃與支撐平臺發生相對位移時，發生摩擦，造成ITO薄膜玻璃表面劃傷，同時在取放時也不是非常方便。鑒于此，在降低輕薄ITO薄膜制品與接觸面之間的多少和摩擦，以減少可能造成的表 面污染和可能發生的相對移動時造成的損傷，成為一種理想的選擇。

發明內容
本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本發明的一個目的在于提出一種新型萬向氣體支撐機構，所述新型萬向氣體支撐機構可降低工件與接觸球體之間的摩擦力，降低兩者之間的磨損，允許球體與接觸件任意方向都可以存在位移，并且以提供精確的預定壓力；同時，還可以減少工件接觸表面，降低可能存在的污染。根據本發明實施例的一種新型萬向氣體支撐機構，包括:基板，內部加工有通氣管道；排布在基板上的萬向氣體支撐柱陣列；所述萬向氣體支撐柱，包括球體，氣體支撐柱體。根據本發明實施例的新型萬向氣體支撐機構，輸入的氣體由氣壓裝置通過與之相聯的基板內設的通氣管道，經氣體支撐柱體內設的通孔輸入氣體支撐柱體上部的球冠腔室，對置于柱體上部球冠腔室的球體施加壓力，使球體上浮，向外傳遞支撐力；且球體可以進行任意方向轉動，可降低球體與和球體相接觸的接觸件之間存在的摩擦力，大大降低了和球體相接觸的接觸件的磨損；同時，由于球體與ITO薄膜玻璃為點接觸，不會形成較大接觸面，對可能存在的污染起了明顯的預防作用。 所述新型萬向氣體支撐機構還包括氣壓調節裝置，所述氣壓調節裝置與基板通氣管道相聯。所述萬向氣體支撐柱陣列規則排布于所述基板上。其中可選地，所述萬向氣體支撐柱陣列可以以相同規則排布于所述基板上。優選地，所述萬向氣體支撐柱陣列可以以錯位排列規則排布于所述基板上。由于萬向氣體支撐柱陣列規則排列，因此輕薄的ITO薄膜玻璃能夠收到均勻的支撐力，具有更好的受力效果；以錯位排列規則排布于基板上，可以進一步改善以相同規則排布與基板上產生的受力效果；同時，陣列排布規則中的橫向間距、縱向間距都可以根據具體狀況進行調節。另外，根據本發明的新型萬向氣體支撐機構還具有如下附加技術特征:
所述氣體支撐柱體，上部設有與外部連通的球冠腔室且內部設有貫通通孔，同時下部與基板通氣管道聯接，所述球體置于所述球冠腔室內。所述氣體支撐柱體下部與所述基板通氣管道以螺紋方式聯接。所述通孔貫通所述柱體，連通所述部件腔室和所述球冠腔室。由于采用螺紋方式進行連接，可以方便的對氣體支撐柱進行拆卸更換。本發明的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發明的實踐了解到。


本發明的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
圖1為根據本發明一個實施例的新型萬向氣體支撐機構的剖視 圖2為根據本發明一個實施例的新型萬向氣體支撐機構氣體支撐柱陣列相同規則排布的示意 圖3為根據本發明一個實施 例的新型萬向氣體支撐機構氣體支撐柱陣列錯位規則排布的示意 圖4是根據圖2、3實施例的剖視 圖5為根據本發明一個實施例的氣體支撐柱的示意圖。
具體實施例方式下面詳細描述本發明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。在本發明的描述中，需要理解的是，術語“上部”、“下部”、“內部”、“外部”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發明的限制。。在本發明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“相連”、“聯接”應做廣義理解，例如，可以是固定聯接，一體地聯接，也可以是可拆卸聯接；可以是兩個元件內部的連通；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。下面參考圖1描述根據本發明的一種新型萬向氣體支撐機構，下面以使用空氣作為壓力源用于新型萬向氣體支撐機構傳遞壓力為例進行說明。當然，本發明并不限于此，例如，根據本發明的新型萬向氣體支撐機構的動力源也可以使用其他氣體。根據本發明實施例的新型萬向氣體支撐機構，包括基板2，內部加工有通氣管道；萬向氣體支撐柱陣列，排布在基板2上,萬向氣體支撐柱3包括球體31、支撐柱體32。如圖1、4、5所示，萬向氣體支撐柱陣列排布在基板2上，內部加工有橫向通氣管道21和縱向通氣管道22，橫向通氣管道21與外部氣壓調節裝置I相聯，縱向通氣管道22與萬向氣體支撐柱陣列的萬向氣體支撐柱3連通；萬向氣體支撐柱體32上部有球冠腔室324，如圖5所示，球體31放置于球冠腔室324中，內設有貫通通孔323與下部內設腔室322相聯。氣體通過氣體壓力調節裝置I輸入設定壓力值的氣體，通過基板2內設的橫向通氣管道21和縱向通氣管道22，進入萬向氣體支撐柱3，經過萬向氣體支撐柱體32內設的腔室322和貫通通孔323進入球冠腔室324，浮起球體31，向外傳遞支撐力，工件可放置在萬向氣體支撐柱陣列上，由于接觸面少且為點接觸，所以對于ITO薄膜玻璃表面清潔度有著很好的防護作用，同時由于將以往存在的滑動摩擦變為滾動摩擦，對于ITO薄膜玻璃表面質量也起到了很好的保護作用。在本發明的一個實施例中，萬向氣體支撐柱3與基板2以螺紋方式進行聯接，更利于拆卸。在本發明的一個實施例中，萬向氣體支撐柱陣列以規則陣列排布在基板2上，可以使輕薄的ITO薄膜玻璃受力變得均勻。可選地，萬向氣體支撐柱陣列可以以相同規則排列在基板2上，如圖2所示，萬向氣體支撐柱在縱向方向上(以圖不方向為例)進行橫向方向上的相同規則排布，萬向氣體支撐柱陣列的規則排布可以使放置其上的ITO薄膜玻璃受力效果更加均勻。優選地，萬向氣體支撐 柱陣列以錯位規則方式在基板2上進行排列，如圖3所示，此種排列方式使得放置于萬向氣體支撐柱陣列上的ITO薄膜玻璃受理效果較以相同規則排列的外向氣體支撐柱陣列效果更好。在本發明的一個實施例中，基板2的橫向通氣管道21 —端可使用封閉裝置23進行封閉，放置氣體外漏，如圖4所示，縱向通氣管道22的一端與萬向氣體支撐柱3相聯，一端與橫向通氣管道21相連。在本說明書的描述中，參考術語“一個實施例”、“一些實施例”、“示意性實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特征、結構、材料或者特點包含于本發明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結構、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。盡管已經示出和描述了本發明的實施例，本領域的普通技術人員可以理解:在不脫離本發明的原理和宗旨的 情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本發明的范圍由權利要求及其等同物限定。
權利要求
1.一種萬向氣體支撐機構，其特征在于，包括: 基板，內部加工有通氣管道； 萬向氣體支撐柱陣列，排布在基板上，所述萬向氣體支撐柱包括球體、支撐柱體。
2.根據權利要求1所述的新型萬向氣體支撐機構，其特征在于，所述萬向氣體支撐柱陣列規則排布于所述基板上。
3.根據權利要求2所述的新型萬向氣體支撐機構，其特征在于，所述萬向氣體支撐柱陣列可以以相同規則排布于所述基板上。
4.根據權利要求2所述的新型萬向氣體支撐機構，其特征在于，所述萬向氣體支撐柱陣列可以以錯位排列規則排布于所述基板上。
5.根據權利要求1所述的新型萬向氣體支撐機構，其特征在于，所述支撐柱體，上部設有與外部連通的球冠腔室且內部設有貫通通孔，同時下部與基板通氣管道聯接，所述球體置于所述球冠腔室內。
6.根據權利要求5所述的新型萬向氣體支撐機構，其特征在于，所述氣體支撐柱體下部與所述基板通氣管道以螺紋方式聯接。
7.根據權利要求1所述的新型萬向氣體支撐機構，其特征在于，所述通孔貫通所述柱體，連通所述部件腔室和所述球冠腔室。
8.根據權利要求1所述的新型萬向氣體支撐機構，其特征在于，所述新型萬向氣體支撐機構還包括氣壓調節裝置 ，所述氣壓調節裝置與基板通氣管道相聯。
全文摘要
本發明公開了一種新型萬向氣體支撐機構，包括基板，內部加工有通氣管道。基板上規則排布有萬向氣體支撐柱陣列；所述萬向氣體支撐柱包括球體；上部設有與外部連通的球冠腔室且內部設有貫通通孔同時下部與基板通氣管道聯接的柱體，所述球體置于所述球冠腔室內。根據本發明的新型氣體支撐機構，輸入氣體通過基板通氣管道及萬向氣體支撐柱內通孔，輸入球冠腔室，使球體浮起，起到支撐作用；同時，球體可以任意方向轉動，使球體和工件之間摩擦為滾動摩擦，降低相對位移時摩擦造成的磨損；球體材質可具有彈性，進一步降低了接觸工件出現位移時由摩擦造成的損傷，同時可以提供精確設定壓力。
文檔編號C03C17/23GK103214187SQ20121001558
公開日2013年7月24日 申請日期2012年1月18日 優先權日2012年1月18日
發明者魏志凌, 寧軍, 高永強 申請人:昆山思拓機器有限公司