一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備的制作方法
【專利摘要】本發明涉及石英擺片撓性梁制造領域，尤其是一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備。所述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，用于酸刻蝕石英擺片撓性梁，包括工作平面和工作罩，所述工作罩設置在工作平面上，并與所述工作平面組成工作空間，在所述工作平面上設有：第一酸刻蝕槽、第二酸刻蝕槽、清洗槽、測厚裝置、夾持結構和運動件，所述夾持結構用于夾持所述石英擺片撓性梁，所述運動件用于帶動夾持結構在所述第一酸刻蝕槽、第二酸刻蝕槽、清洗槽之間運動，所述第一酸刻蝕槽中用于盛放第一氫氟酸溶液，所述第二酸刻蝕槽中用于盛放第二氫氟酸溶液，所述測厚裝置用于測量所述石英擺片撓性梁的厚度。所述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備能夠減少氫氟酸揮發，避免環境污染。
【專利說明】一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備

【技術領域】
[0001]本發明涉及石英擺片撓性梁撓性梁制造領域，尤其是一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備。

【背景技術】
[0002]氫氟酸是一種極易揮發的腐蝕性液體，能強烈地腐蝕金屬、玻璃和含硅的物體；同時具有劇烈刺激性氣味，并且有毒，如吸入蒸氣或接觸皮膚會造成難以治愈的灼傷。
[0003]而在酸刻蝕石英擺片撓性梁的過程中，需要大量使用的氫氟酸溶液，并且酸刻蝕過程耗時長，因此，會揮發大量的氫氟酸；而現有技術中，并沒有對石英擺片撓性梁酸刻蝕進行連續工作的設備，因此，在石英擺片撓性梁酸刻蝕過程中很難避免對操作者產生的傷害。


【發明內容】

[0004]為了克服上述石英擺片撓性梁酸刻蝕過程中氫氟酸對操作者的傷害，本發明提供了一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，能夠使酸刻蝕石英擺片撓性梁在密閉條件下進行，從而減少對操作者的傷害。
[0005]本發明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現的。
[0006]通過一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，用于酸刻蝕石英擺片撓性梁，包括工作平面和工作罩，所述工作罩設置在所述工作平面上，并與所述工作平面組成工作空間，
[0007]在所述工作平面上設有第一酸刻蝕槽、第二酸刻蝕槽和清洗槽，所述第一酸刻蝕槽用于盛放第一氫氟酸溶液，所述第二酸刻蝕槽用于盛放第二氫氟酸溶液；
[0008]在所述工作平面上固定設有基座；
[0009]在所述工作空間中設有測厚裝置、夾持結構和運動件，所述運動件包括轉動桿和支撐桿，所述轉動桿與所述基座間隙配合，所述轉動桿與所述支撐桿的一端固定連接，所述夾持結構與所述支撐桿的另一端連接，所述轉動桿與所述夾持結構設置在所述支撐桿的同一側；
[0010]所述測厚裝置用于測量所述石英擺片撓性梁的厚度，所述夾持結構用于夾持所述石英擺片撓性梁，所述運動件用于帶動所述夾持結構在所述第一酸刻蝕槽、第二酸刻蝕槽、清洗槽之間運動。
[0011]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備還包括酸中和器，所述酸中和器設置在所述工作罩上，所述酸中和器用于吸收第一氫氟酸溶液和第二氫氟酸溶液的揮發物。
[0012]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備還包括抽風裝置，所述抽風裝置設置在所述工作罩內部，所述抽風裝置與所述酸中和器連接；
[0013]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備還包括排風裝置，所述排風裝置設置在所述工作罩上，所述酸中和器經所述排風裝置與外界連接。
[0014]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，所述測厚裝置包括光纖光譜儀、光源、模具固定底座和光纖測量探頭，所述光纖光譜儀和光源分別經光纖與所述光纖測量探頭連接，所述模具固定底座用于固定所述石英擺片撓性梁，所述光纖測量探頭垂直設置在固定在所述模具固定底座上的所述石英擺片撓性梁的一側。
[0015]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備還包括:第一儲酸箱和第二儲酸箱，所述第一儲酸箱中用于存放第一氫氟酸溶液，所述第二儲酸箱用于存放第二氫氟酸溶液，所述第一儲酸箱經第一管道與所述第一酸刻蝕槽連通，所述第二儲酸箱經第二管道與所述第二酸刻蝕槽連通，在所述第一儲酸箱上設有加熱器和攪拌器，在所述第二儲酸箱上設有加熱器和攪拌器。
[0016]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，所述第一酸刻蝕槽上還設有第一回流口，所述第一回流口經第一回流管道與所述第一儲酸箱連通；
[0017]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，所述第二酸刻蝕槽上還設有第二回流口，所述第二回流口經第二回流管道與所述第二儲酸箱連通；
[0018]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，在所述第一酸刻蝕槽上設有第一密封蓋；
[0019]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，在所述第二酸刻蝕槽上設有第二密封至
ΠΠ O
[0020]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，所述第一回流口設置在所述第一酸刻蝕槽的上部，所述第一管道連接與所述第一酸刻蝕槽的下部，在所述第一管道上設有耐酸栗;
[0021]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，所述第二回流口設置在所述第二酸刻蝕槽的上部，所述第二管道連接與所述第二酸刻蝕槽的下部，在所述第二管道上設有耐酸栗O
[0022]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，所述的清洗槽，下部設有進水口，上部設有溢水口。
[0023]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，所述工作罩由樹脂、塑料或橡膠制成；
[0024]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，所述工作罩的至少一個側面是透明材質。
[0025]優選地，上述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備還包括控制面板和控制器，所述控制面板與所述控制器電連接，所述控制面板設置在所述工作罩上。
[0026]借由上述技術方案，本發明提出的一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備至少具有下列優點:
[0027]I)本發明公開的實施方式中，所述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備能夠減少在酸刻蝕石英擺片撓性梁過程中的氫氟酸揮發，減少對環境的污染。
[0028]2)本發明公開的實施方式中，所述氫氟酸溶液通過自循環過程，使得第一酸刻蝕槽和第二酸刻蝕槽中的氫氟酸溶液的溫度、氫氟酸濃度更加均勻，提高酸刻蝕槽不同位置處刻蝕速率的一致性。
[0029]3)本發明公開的實施方式中，通過控制面板和控制器的設置，可以實現對酸刻蝕槽溫度、刻蝕時間的控制，操作安全簡便。
[0030]4)本發明公開的實施方式中，通過測厚裝置的設置，可以在石英擺片撓性梁的酸刻蝕過程中對其厚度進行實時測量，不用拆卸模具，方便操作。
[0031]上述說明僅是本發明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發明的技術手段，并可依照說明書的內容予以實施，以下以本發明的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0032]圖1是本發明的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備的結構示意圖；
[0033]圖2是本發明的測厚裝置結構示意圖；
[0034]圖3是本發明的第一儲酸箱和第一酸刻蝕槽連接的結構示意圖。

【具體實施方式】
[0035]為更進一步闡述本發明為達成預定發明目的所采取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據本發明提出的一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，詳細說明如后。
[0036]如圖1所示，本發明提供的一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，用于酸刻蝕石英擺片撓性梁，包括工作平面和工作罩，所述工作罩設置在所述工作平面上，并與所述工作平面組成工作空間，在所述工作平面上設有:第一酸刻蝕槽1、第二酸刻蝕槽2和清洗槽3，在所述工作空間中設有測厚裝置、夾持結構4和運動件5 ;所述夾持結構4用于夾持所述石英擺片撓性梁，所述運動件5用于帶動所述夾持結構4在所述第一酸刻蝕槽1、第二酸刻蝕槽2、清洗槽3之間運動，所述第一酸刻蝕槽I中用于盛放第一氫氟酸溶液，所述第二酸刻蝕槽2中用于盛放第二氫氟酸溶液，所述測厚裝置用于測量所述石英擺片撓性梁的厚度。在工作平面上固定設有基座，所述運動件5包括轉動桿和支撐桿，所述轉動桿與所述基座間隙配合，所述轉動桿在所述基座內轉動，所述轉動桿與所述支撐桿的一端固定連接，所述夾持結構4與所述支撐桿的另一端連接，所述轉動桿與所述夾持結構4設置在所述支撐桿的同一側，在所述轉動桿上設置有上凸起和下凸起，所述轉動桿能夠在所述基座內軸向移動，所述轉動桿的移動范圍為上凸起和下凸起之間，所述轉動桿在轉動時能夠帶動所述支撐桿和夾持結構4轉動。
[0037]所述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備的工作過程為:1)用所述夾持結構4將工裝好的石英擺片撓性梁進行夾持，在所述第一酸刻蝕槽I中注入所述第一氫氟酸溶液，在所述第二酸刻蝕槽2中注入第二氫氟酸溶液，將所述石英擺片撓性梁放入所述第一酸刻蝕槽I中，在第一溫度條件下，進行快速刻蝕，直至所述石英擺片撓性梁撓性梁達到第一預設厚度；2)將所述第一預設厚度的石英擺片撓性梁撓性梁放入第二酸刻蝕槽2中，在第二溫度條件下，進行慢速刻蝕，直至所述石英擺片撓性梁撓性梁達到第二預設厚度；其中:所述第一氫氟酸溶液的濃度大于所述第二氫氟酸溶液的濃度，所述第一氫氟酸溶液的濃度小于22mol/L ;所述第一溫度高于所述第二溫度。
[0038]所述轉動桿和所述夾持結構配合工作的過程為:1)所述夾持結構4夾持石英擺片撓性梁；2)在需要進行快速刻蝕時，上提所述轉動桿，然后轉動所述轉動桿將所述夾持結構4轉動至所述第一酸刻蝕槽I上方落下所述轉動桿，所述石英擺片撓性梁落入所述第一氫氟酸溶液中進行快速刻蝕；3)在需要進行慢速刻蝕時，上提所述轉動桿，然后轉動所述轉動桿將所述夾持結構4轉動至所述第二酸刻蝕槽2上方落下所述轉動桿，所述石英擺片撓性梁落入所述第二氫氟酸溶液中進行慢速刻蝕；4)在需要進行清洗石英擺片撓性梁時，上提所述轉動桿，然后轉動所述轉動桿將所述夾持結構4轉動至所述清洗槽3上方進行清洗過程。
[0039]通過第一氫氟酸溶液對所述石英擺片撓性梁撓性梁進行快速刻蝕，能夠加快所述石英擺片撓性梁撓性梁刻蝕至第二預設厚度的反應時間。通過第二氫氟酸溶液對所述石英擺片撓性梁撓性梁進行慢速刻蝕，能有效控制所述石英擺片撓性梁撓性梁到第二預設厚度的精度。
[0040]作為可以變換的實施方式，所述運動件5為任意能夠帶動所述夾持機構進行上下左右移動的結構。
[0041]具體實施時，通過氟硅橡膠掩膜將所述石英擺片撓性梁裝模，形成工裝好的石英擺片撓性梁。所述氟硅橡膠掩膜和與所述石英擺片撓性梁的工裝結構，所述氟硅橡膠掩膜緊貼在所述石英擺片撓性梁表面，僅在所述石英擺片撓性梁處鏤空，使其暴露在所述第一氫氟酸溶液和所述第二氫氟酸溶液中發生化學反應，從而減薄厚度。
[0042]具體實施時，先用特制的酸刻蝕模具和氟硅橡膠掩膜將石英擺片撓性梁裝模。為保證所述石英擺片撓性梁尺寸精度和表面質量，裝模過程中需保證所述酸蝕模具、氟硅橡膠掩膜、所述石英擺片撓性梁撓性梁三者的定位精度和所述石英擺片撓性梁撓性梁表面的潔凈度。
[0043]具體實施時，所述夾持結構4夾持的石英擺片撓性梁豎直放置在所述第一氫氟酸溶液和第二氫氟酸溶液中。從而保證撓性梁兩側反應產物的均勻擴散。
[0044]所述工作平面和所述工作罩形成所述酸刻蝕石英擺片撓性梁的工作空間，通過所述工作空間設置，能夠使所述石英擺片撓性梁的酸刻蝕過程中產生氫氟酸蒸汽不會擴散到所述工作罩之外，從而，不會對操作者產生傷害。
[0045]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述運動件5可以是伸出所述工作罩的轉動桿和連接在轉動桿上連接桿，所述夾持結構4固定連接在所述連接桿上，通過轉動所述轉動桿能夠帶動所述連接桿和所述夾持結構4轉動，從而能夠使所述石英擺片撓性梁在所述第一酸刻蝕槽1、第二酸刻蝕槽2、清洗槽3之間運動，以完成在第一氫氟酸溶液和第二氫氟酸溶液中的酸刻蝕工作，以及清洗工作。
[0046]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述轉動桿垂直于所述工作面設置，所述連接桿垂直與所述轉動桿設置。
[0047]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述夾持結構4包括夾持所述石英擺片撓性梁的第一夾持件和夾持陪片的第二夾持件。所述第二夾持件的設置，能夠實現對石英擺片撓性梁和陪片同條件酸刻蝕，然后，通過測量陪片的厚度來估算石英擺片撓性梁的蝕刻速率。在快速刻蝕過程中，在所述第一氫氟酸溶液中放入第一玻璃陪片，通過計算所述第一玻璃陪片在所述第一氫氟酸溶液中的第一酸刻蝕速率，進行估算測試所述第一預設厚度的時間；在慢速刻蝕過程中，在所述第二氫氟酸溶液中放入第二玻璃陪片，通過計算所述第二玻璃陪片在所述第二氫氟酸溶液中的第二酸刻蝕速率，進行估算測試所述第二預設厚度的時間。
[0048]具體的工作步驟包括:將工裝好的石英擺片撓性梁撓性梁和第一玻璃陪片放入所述第一氫氟酸溶液中，在所述第一溫度條件下進行快速刻蝕，刻蝕I小時后，將第一玻璃陪片取出，測量所述第一玻璃陪片的厚度，以此計算快速刻蝕速率Vl ;根據Vl估算所述石英擺片撓性梁撓性梁減薄至40?60 μm的快速刻蝕時間tl，當快速刻蝕時間tl達到后，將其從第一氫氟酸溶液中取出，用去離子水沖洗干凈，并用無塵布吸干所述石英擺片撓性梁撓性梁表面水分；測量所述石英擺片撓性梁撓性梁的厚度，如測量結果大于60 μ m則放回所述第一氫氟酸溶液中繼續酸蝕；若測量結果在40?60 μ m范圍內，則進行慢速刻蝕。在慢速刻蝕時，將快速刻蝕后的到達第一預設厚度的所述石英擺片撓性梁和第二玻璃陪片放入第二氫氟酸溶液中，在第二溫度條件下，進行反應。刻蝕10分鐘后，取出所述第二玻璃陪片，測量所述第二玻璃陪片厚度，以此計算慢速刻蝕速率v2 ;根據v2估算所述石英擺片撓性梁撓性梁減薄至24?28 μ m的刻蝕時間t2，當到達第二步刻蝕時間t2后，將所述石英擺片撓性梁撓性梁從所述第二氫氟酸溶液中取出，用去離子水沖洗干凈，并用無塵布吸干石英擺片撓性梁撓性梁表面水分，測量所述石英擺片撓性梁撓性梁的厚度，如測量結果大于28 μ m則放回第二氫氟酸溶液中繼續酸蝕；若測量結果在24?28um范圍內，則慢速刻蝕完成。將所述石英擺片撓性梁撓性梁從所述酸蝕模具和所述橡膠掩膜中拆卸出來，并清洗干凈儲存。所述刻蝕速率(Vl和v2)是指單位時間內石英擺片撓性梁撓性梁雙面厚度的去除量，單位為ym/min。
[0049]具體實施時，將第一預設厚度的石英擺片撓性梁撓性梁放入第二氫氟酸溶液中時，使用去離子水沖洗殘留酸液，并用無塵布吸干石英擺片撓性梁撓性梁表面水分。當然，也可以進行風干或烘干。從而能夠避免從所述第一氫氟酸溶液中取出的石英擺片撓性梁撓性梁，由于表面殘留的第一氫氟酸溶液，而影響所述第二氫氟酸溶液的濃度。
[0050]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述第一氫氟酸溶液的濃度的18?22mol/L ;所述第二氫氟酸溶液的濃度為10?15mol/L0
[0051]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備還包括酸中和器10，所述酸中和器10設置在所述工作罩上，所述酸中和器10用于吸收第一氫氟酸溶液和第二氫氟酸溶液的揮發物。
[0052]具體實施時，所述酸中和器10中含有中和氫氟酸的堿，例如氫氧化鈉溶液或顆粒，或者氫氧化鈣溶液或顆粒。
[0053]作為可以變換的實施方式，所述酸中和器10中的堿還可以其他可以中和氫氟酸蒸汽的酸性物質。
[0054]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備還包括抽風裝置，所述抽風裝置設置在所述工作罩內部，所述抽風裝置與所述酸中和器10連接。
[0055]具體實施時，所述抽風裝置能夠進一步收集所述工作罩內的氫氟酸蒸汽，從而保證所述氫氟酸蒸汽被所述抽風裝置收集后進入所述酸中和器10中進行中和，進一步減少氫氟酸蒸汽對操作者的傷害。并且，氫氟酸蒸汽也不會擴散到環境中，避免對環境造成污染。
[0056]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備還包括排風裝置，所述排風裝置設置在所述工作罩上，所述酸中和器10經所述排風裝置與外界連接。
[0057]如圖2所示，本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述測厚裝置包括光纖光譜儀7、光源8、模具固定底座9和光纖測量探頭11，所述光纖光譜儀7和光源8分別經光纖與所述光纖測量探頭11連接，所述模具固定底座9用于固定所述石英擺片撓性梁，所述光纖測量探頭11垂直設置在固定在所述模具固定底座9上的所述石英擺片撓性梁的一側。
[0058]具體操作時，所述運動件5帶動所述石英擺片撓性梁的加持結構4轉至清洗槽3，將表面酸液清洗干凈，然后所述運動件5帶動所述夾持結構4上升到水面外，由操作者取出擦干表面水分，放入所述固定底座9上，將光纖測量探頭垂直對準撓性梁，進行厚度測量。
[0059]具體地，連接所述光纖光譜儀7和所述測量探頭的光纖為第一光纖，連接所述光源8和所述測量探頭的光纖為第二光纖，所述第二光纖為導光光纖，從而，能夠將所述光源8發出的光傳遞到所述測量探頭處。所述測量探頭處的光照射在所述石英擺片撓性梁上時，一部分經所述石英擺片撓性梁的第一面反射，所述反射信息傳遞給所述測量探頭，然后經第一光纖傳遞給光纖光譜儀7，一部分經所述石英擺片撓性梁的第二面反射，所述反射信息也經第一光纖傳遞給光纖光譜儀7，所述光纖光譜儀7根據上述反射信息計算所述石英擺片撓性梁的厚度。
[0060]通過所述測厚裝置的設置，能夠對所述石英擺片撓性梁的厚度進行實施測量，能夠將所述石英擺片撓性梁的厚度測量精度提高至±1 μπι。
[0061]如圖3所示，本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，還包括:第一儲酸箱和第二儲酸箱，所述第一儲酸箱中用于存放第一氫氟酸溶液，所述第二儲酸箱用于存放第二氫氟酸溶液，所述第一儲酸箱經第一管道與所述第一酸刻蝕槽I連通，所述第二儲酸箱經第二管道與所述第二酸刻蝕槽2連通，在所述第一儲酸箱上設有加熱器和攪拌器，在所述第二儲酸箱上設有加熱器和攪拌器。
[0062]通過所述第一儲酸箱的設置，能夠實現向所述第一酸刻蝕槽I中提供第一溫度的混合均勻的第一氫氟酸溶液；通過所述第二儲酸箱的設置，能夠實現向所述第二酸刻蝕槽2中提供第二溫度的混合均勻的第二氫氟酸溶液。從而不僅能夠解決采用水浴對第一酸刻蝕槽I和第二酸刻蝕槽2加熱的方法，而導致酸蝕槽邊緣和中心的溫度差較大，造成刻蝕速率不一致的問題；還能夠解決石英擺片撓性梁與氫氟酸溶液的相對運動模式單一，達不到均勻攪拌氫氟酸溶液的目的。能夠使所述第一酸刻蝕槽I和第二酸刻蝕槽2中的溫度、氫氟酸濃度更加均勻。
[0063]具體實施時，在第一儲酸箱和第二儲酸箱的底部上還分別設置有排酸口 12，以實現對氫氟酸的更換。
[0064]具體實施時，將所述第一儲酸箱加熱到第一溫度，將所述第二儲酸箱加熱到第二溫度。
[0065]具體實施時，所述第一溫度為50?70°C，所述第二溫度為20?30°C。
[0066]在所述第一儲酸箱中設置所述攪拌器，不僅能夠使所述第一儲酸箱內第一氫氟酸溶液的溫度更加均勻，也能夠使所述第一氫氟酸溶液的濃度更加均勻。提高所述第一酸刻蝕槽I和第二酸刻蝕槽2中不同位置處所述石英擺片撓性梁酸刻蝕速率的一致性。
[0067]所述第一儲酸箱和第二儲酸箱的位置可以設置在所述工作平面和所述工作罩所形成的空間中，也可以設置在所述工作平面和所述工作罩所形成的空間之外。
[0068]具體實施時，在所述第一酸刻蝕槽I上設有第一密封蓋；在所述第二酸刻蝕槽2上設有第二密封蓋。在進行酸刻蝕過程中，可以將所述第一密封蓋蓋在第一酸刻蝕槽I上，將第二密封蓋蓋在第二酸刻蝕槽2上。
[0069]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述第一酸刻蝕槽I上還設有第一回流口，所述第一回流口經第一回流管道與所述第一儲酸箱連通；所述第二酸刻蝕槽2上還設有第二回流口，所述第二回流口經第二回流管道與所述第二儲酸箱連通。
[0070]通過所述第一回流口的設置，不僅能夠實現所述第一氫氟酸溶液的回流重復利用，又能保證所述第一酸刻蝕槽I種的第一氫氟酸溶液的濃度不會隨著酸刻蝕的時間而過多的降低。同樣，第二回流口的設置也有相應的功效。
[0071]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述第一回流口設置在所述第一酸刻蝕槽I的上部，所述第一管道連接與所述第一酸刻蝕槽I的下部；所述第二回流口設置在所述第二酸刻蝕槽2的上部，所述第二管道連接與所述第二酸刻蝕槽2的下部。
[0072]其中，在所述第一管道上設有泵，所述泵能夠將所述第一儲酸箱內的第一氫氟酸溶液泵至所述第一酸刻蝕槽I中；在所述第二管道上設有泵，所述泵能夠將所述第二儲酸箱內的第二氫氟酸溶液泵至所述第二酸刻蝕槽2中。通過泵的動力，能夠提供所述第一氫氟酸溶液在所述第一酸刻蝕槽I中由下向上流動的動力，從而能夠實現所述第一氫氟酸溶液在所述第一酸刻蝕槽I中混合均勻，提高所述第一酸刻蝕槽I中不同位置處所述石英擺片撓性梁酸刻蝕速率的一致性。同樣，通過這種形式，所述第二氫氟酸溶液在所述第二酸刻蝕槽2中混合也很均勻，提高所述第二酸刻蝕槽2中不同位置處所述石英擺片撓性梁酸刻蝕速率的一致性。
[0073]當然，也可以將所述第一回流口設置在所述第一酸刻蝕槽I的下部，所述第一管道連接與所述第一酸刻蝕槽I的上部；所述第二回流口設置在所述第二酸刻蝕槽2的下部，所述第二管道連接與所述第二酸刻蝕槽2的上部。
[0074]具體實施時，在所述第一管道上設有耐酸泵，在所述第二管道上設有耐酸泵。
[0075]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述的清洗槽3，下部設有進水口，上部設有溢水口。目的也是為了將清洗槽3內的水混合均勻，以達到所述石英擺片撓性梁的清洗效果。
[0076]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述工作罩由樹脂、塑料或橡膠制成；從而減少所述氫氟酸蒸汽對所述工作罩造成的損壞。
[0077]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述工作罩的至少一個側面是透明材質。具體地，所述透明材質為有機玻璃。從而，方便操作者對所述石英擺片撓性梁酸刻蝕過程進行觀察和操作。
[0078]本發明的另一實施例提出一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，與上述實施例相比，所述酸刻蝕石英擺片撓性梁設備還包括控制面板6和控制器，所述控制面板6與所述控制器電連接，所述控制面板6設置在所述工作罩上。
[0079]所述控制面板6用于調節和顯示所述控制器的各種參數。
[0080]具體實施時，所述控制器能夠控制所述運動件5的運動方式。
[0081]具體實施時，所述控制器能夠控制所述加持結構的打開和收緊狀態。
[0082]具體實施時，所述控制器能夠控制所述第一儲酸箱和第二儲酸箱上的加熱器的溫度。
[0083]以上所述，僅是本發明的較佳實施例而已，并非對本發明作任何形式上的限制，依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發明技術方案的范圍內。
【權利要求】
1.一種酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，用于酸刻蝕石英擺片撓性梁，其特征在于， 包括工作平面和工作罩，所述工作罩設置在所述工作平面上，并與所述工作平面組成工作空間， 在所述工作平面上設有第一酸刻蝕槽、第二酸刻蝕槽和清洗槽，所述第一酸刻蝕槽用于盛放第一氫氟酸溶液，所述第二酸刻蝕槽用于盛放第二氫氟酸溶液； 在所述工作平面上固定設有基座； 在所述工作空間中設有測厚裝置、夾持結構和運動件，所述運動件包括轉動桿和支撐桿，所述轉動桿與所述基座間隙配合，所述轉動桿與所述支撐桿的一端固定連接，所述夾持結構與所述支撐桿的另一端連接，所述轉動桿與所述夾持結構設置在所述支撐桿的同一側； 所述測厚裝置用于測量所述石英擺片撓性梁的厚度，所述夾持結構用于夾持所述石英擺片撓性梁，所述運動件用于帶動所述夾持結構在所述第一酸刻蝕槽、第二酸刻蝕槽、清洗槽之間運動。
2.根據權利要求1所述的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，其特征在于， 還包括酸中和器，所述酸中和器設置在所述工作罩上，所述酸中和器用于吸收第一氫氟酸溶液和第二氫氟酸溶液的揮發物。
3.根據權利要求2所述的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，其特征在于， 還包括抽風裝置，所述抽風裝置設置在所述工作罩內部，所述抽風裝置與所述酸中和器連接。
4.根據權利要求2所述的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，其特征在于， 還包括排風裝置，所述排風裝置設置在所述工作罩上，所述酸中和器經所述排風裝置與外界連接。
5.根據權利要求1所述的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，其特征在于， 所述測厚裝置包括光纖光譜儀、光源、模具固定底座和光纖測量探頭，所述光纖光譜儀和光源分別經光纖與所述光纖測量探頭連接，所述模具固定底座用于固定所述石英擺片撓性梁，所述光纖測量探頭垂直設置在固定在所述模具固定底座上的所述石英擺片撓性梁的一側。
6.根據權利要求1所述的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，其特征在于， 還包括:第一儲酸箱和第二儲酸箱，所述第一儲酸箱中用于存放第一氫氟酸溶液，所述第二儲酸箱用于存放第二氫氟酸溶液，所述第一儲酸箱經第一管道與所述第一酸刻蝕槽連通，所述第二儲酸箱經第二管道與所述第二酸刻蝕槽連通，在所述第一儲酸箱上設有加熱器和攪拌器，在所述第二儲酸箱上設有加熱器和攪拌器。
7.根據權利要求6所述的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，其特征在于， 所述第一酸刻蝕槽上還設有第一回流口，所述第一回流口經第一回流管道與所述第一儲酸箱連通； 所述第二酸刻蝕槽上還設有第二回流口，所述第二回流口經第二回流管道與所述第二儲酸箱連通； 在所述第一酸刻蝕槽上設有第一密封蓋； 在所述第二酸刻蝕槽上設有第二密封蓋。
8.根據權利要求7所述的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，其特征在于， 所述第一回流口設置在所述第一酸刻蝕槽的上部，所述第一管道連接與所述第一酸刻蝕槽的下部，在所述第一管道上設有耐酸泵； 所述第二回流口設置在所述第二酸刻蝕槽的上部，所述第二管道連接與所述第二酸刻蝕槽的下部，在所述第二管道上設有耐酸泵。
9.根據權利要求1所述的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，其特征在于， 所述的清洗槽，下部設有進水口，上部設有溢水口 所述工作罩由樹脂、塑料或橡膠制成；和/或 所述工作罩的至少一個側面是透明材質。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的酸刻蝕石英擺片撓性梁設備，其特征在于， 還包括控制面板和控制器，所述控制面板與所述控制器電連接，所述控制面板設置在所述工作罩上。
【文檔編號】C03C15/00GK104496193SQ201410690127
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2014年11月25日 優先權日:2014年11月25日
【發明者】杜秀蓉, 宋學富, 孫元成, 王蕾, 王慧, 張曉強, 王玉芬 申請人:中國建筑材料科學研究總院