1.具有加熱功能的富氫足浴盆，包括足浴盆本體，所述足浴盆本體用于盛裝液體，其特征在于，
還包括設(shè)于所述足浴盆本體中的制氫裝置和加熱模塊；
所述制氫裝置用于制得氫氣；
所述加熱模塊用于加熱所述足浴盆本體中的液體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有加熱功能的富氫足浴盆，其特征在于，還包括控制器，所述控制器控制向所述制氫裝置和所述加熱模塊供電。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有加熱功能的富氫足浴盆，其特征在于，還包括與所述控制器電性連接的控制面板；
所述控制器與所述制氫裝置電性連接；
所述控制面板控制所述控制器控制所述制氫裝置和所述加熱模塊工作。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的具有加熱功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述控制器上設(shè)有無(wú)線(xiàn)通信模塊，移動(dòng)終端通過(guò)所述無(wú)線(xiàn)通信模塊控制所述制氫裝置和所述加熱模塊工作。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的具有加熱功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述足浴盆本體包括外殼體和內(nèi)殼體；
所述外殼體套設(shè)于所述內(nèi)殼體外，所述內(nèi)殼體上設(shè)有與所述外殼體的內(nèi)腔連通的連通口；
所述制氫裝置設(shè)于所述內(nèi)殼體和所述外殼體之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有加熱功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述制氫裝置包括由上蓋和下蓋組成的電解容腔，所述上蓋和所述下蓋均為為絕緣體；
所述上蓋和所述下蓋上設(shè)有多個(gè)與外界連通的鏤空；
所述上蓋設(shè)于所述內(nèi)殼體內(nèi)側(cè)，所述下蓋設(shè)于所述內(nèi)殼體和所述外殼體之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的具有加熱功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述制氫裝置包括電解陰極和電解陽(yáng)極，所述電解陰極和所述電解陽(yáng)極均設(shè)于所述上蓋和所述下蓋構(gòu)成的所述電解容腔中；
制氫裝置的電解液為水。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有加熱功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述外殼體外側(cè)環(huán)設(shè)有發(fā)光單元。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有加熱功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述內(nèi)殼體的底部設(shè)有多個(gè)凸起，所述內(nèi)殼體的側(cè)壁上設(shè)有按摩滾輪。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有加熱功能的富氫足浴盆，其特征在于，所述加熱模塊設(shè)于所述內(nèi)殼體和所述外殼體之間。