專利名稱：顯示裝置及其復(fù)合光學(xué)膜及復(fù)合光學(xué)膜的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種顯示裝置及其復(fù)合光學(xué)膜及復(fù)合光學(xué)膜的制造方法。
背景技術(shù)：
許多電子產(chǎn)品在現(xiàn)代人的生活中已是不可或缺的日常用品，且適應(yīng)市場(chǎng)的激烈競(jìng)爭(zhēng)以及消費(fèi)者的要求不斷提高，電子產(chǎn)品的外觀也成為業(yè)者設(shè)計(jì)的重要考量之一。請(qǐng)參照?qǐng)D1所示，其為一種已知的光學(xué)膜I示意圖。于此，光學(xué)膜I例如為移動(dòng)通訊裝置中的光學(xué)膜。適應(yīng)設(shè)計(jì)的考量，已知的光學(xué)膜I是設(shè)置于一基板10上，并包含多個(gè)相互疊合的光學(xué)膜層11、12。其中，這些光學(xué)膜層11、12例如可分別具有抗反射、或?yàn)V光等不同功能。然而，于已知技術(shù)中，并無(wú)法適應(yīng)不同區(qū)域的不同需求，來(lái)形成不同功能的光學(xué)膜層11、12。舉例來(lái)說(shuō)，在基板10上可分為第一區(qū)域Al以及第二區(qū)域A2，若欲于第二區(qū)域A2形成具有抗反射功能的光學(xué)膜層11、12，則于已知技術(shù)中，光學(xué)膜層11除了會(huì)設(shè)置于第二區(qū)域A2之外，還會(huì)設(shè)置在周圍的第一區(qū)域Al，以形成一平坦的膜層；而光學(xué)膜層12也是如此，均會(huì)設(shè)置在第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2。因此，已知的光學(xué)膜I于不同的區(qū)域中所具有的光學(xué)性質(zhì)是相同的，無(wú)法適應(yīng)不同區(qū)域具有不同的光學(xué)功能，而僅具有單一光學(xué)功能。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于上述課題，本發(fā)明的目的為提供一種可具有復(fù)合光學(xué)功能的顯示裝置及其復(fù)合光學(xué)膜及復(fù)合光學(xué)膜的制造方法。為達(dá)到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種復(fù)合光學(xué)膜，設(shè)置于一基板，基板具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，第一區(qū)域鄰設(shè)于第二區(qū)域，復(fù)合光學(xué)膜包括一第一光學(xué)膜及一第二光學(xué)膜。第一光學(xué)膜設(shè)置于第一區(qū)域；第二光學(xué)膜設(shè)置于第一光學(xué)膜上及第二區(qū)域之上。為達(dá)到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種顯示裝置，包含一裝置本體及一保護(hù)基板。保護(hù)基板設(shè)置于裝置本體的一側(cè)，保護(hù)基板具有一基板及一復(fù)合光學(xué)膜。基板具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，第一區(qū)域鄰設(shè)于第二區(qū)域。復(fù)合光學(xué)膜具有一第一光學(xué)膜及一第二光學(xué)膜，第一光學(xué)膜設(shè)置于第一區(qū)域，第二光學(xué)膜設(shè)置于第一光學(xué)膜上及第二區(qū)域之上。為達(dá)到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種復(fù)合光學(xué)膜的制造方法包含形成一第一光學(xué)膜于一基板的一第一區(qū)域，第一區(qū)域鄰設(shè)于一第二區(qū)域周圍；以一濕式制程形成一第二光學(xué)膜于第一光學(xué)膜上及第二區(qū)域之上。承上所述，本發(fā)明的顯示裝置的復(fù)合光學(xué)膜系將一第一光學(xué)膜形成于一基板的一第一區(qū)域，再以一濕式制程形成一第二光學(xué)膜于第一光學(xué)膜上及第二區(qū)域之上。借此，本發(fā)明的復(fù)合光學(xué)膜可適應(yīng)基板上不同的第一區(qū)域及第二區(qū)域，而具有不同的光學(xué)功能，故能增加復(fù)合光學(xué)膜的應(yīng)用性，進(jìn)而增加產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。


為讓本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式

作詳細(xì)說(shuō)明，其中:圖1為一種已知的光學(xué)膜不意圖；圖2為本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜的制造方法的流程步驟圖；圖3A及圖3B為本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜的制作過(guò)程示意圖；圖4A及圖4B為本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜的另一態(tài)樣制作過(guò)程示意圖；圖5A至圖5B為本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜的不同態(tài)樣示意圖；圖6為本發(fā)明較佳實(shí)施例的顯示裝置的示意圖；以及圖7為本發(fā)明較佳實(shí)施例的顯示裝置的另一態(tài)樣示意圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明:1:光學(xué)膜10、41、41a:基板11、12:光學(xué)膜層2、2a 2e:復(fù)合光學(xué)膜21、21a:第一光學(xué)膜22、22a:第二光學(xué)膜23:第三光學(xué)膜24:第四光學(xué)膜3、3a:顯示裝置31:裝置本體4:保護(hù)基板Al:第一區(qū)域A2:第二區(qū)域Hl H3:厚度SOl S02:本發(fā)明的復(fù)合光學(xué)膜的制造方法的流程步驟
具體實(shí)施例方式以下將參照相關(guān)圖式，說(shuō)明依本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種顯示裝置及其復(fù)合光學(xué)膜及復(fù)合光學(xué)膜的制造方法，其中相同的元件將以相同的元件符號(hào)加以說(shuō)明。請(qǐng)參照?qǐng)D2、圖3A及圖3B所示，其中圖2為本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜的制造方法的流程步驟圖，圖3A及圖3B為本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜的制作過(guò)程示意圖。本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜2的制造方法包含步驟SOl及步驟S02。請(qǐng)參照?qǐng)D2及圖3A，步驟SOl為形成一第一光學(xué)膜21于一基板41的一第一區(qū)域Al，第一區(qū)域Al鄰設(shè)于一第二區(qū)域A2。基板41的材質(zhì)包含高分子聚合物(例如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET))、金屬或玻璃。第一光學(xué)膜21的材質(zhì)包含氧化娃、氧化招或氟化鎂或其組合，其中氧化硅可以為二氧化硅(SiO2)、氧化鋁可以為三氧化二鋁(Al2O3)、氟化鎂可以為二氟化鎂(MgF2)。而第一光學(xué)膜21的折射率可介于1.3至1.7之間。又，第一光學(xué)膜21例如可利用干式制程或濕式制程形成，干式制程例如物理氣相沉積(Physical VaporDeposition, PVD)及化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)等,濕式制程例如為浸泡涂布(dip coating)、狹縫涂布(slit coating)、旋轉(zhuǎn)涂布(spin coating)及噴霧涂布(spray coating)等,第一光學(xué)膜21的形成方式于此不予以限制。而為了形成第一光學(xué)膜21位于第一區(qū)域Al的圖案，例如可利用遮罩方式遮擋第二區(qū)域A2或利用可撥膠(peelablemask)技術(shù)來(lái)形成。再者，如欲形成高解析度的圖案于第一區(qū)域Al，亦可使用黃光制程。如圖2及圖3B所示，步驟S02為以一濕式制程形成一第二光學(xué)膜22于第一光學(xué)膜21上及基板41的第二區(qū)域A2。濕式制程包含浸泡涂布、狹縫涂布、旋轉(zhuǎn)涂布及噴霧涂布等，于此不予以限制。第二光學(xué)膜22的材質(zhì)包含氮化硅、氧化鈦、氧化鈮或氧化鉭或其組合，其中氮化硅可以為四氮化三硅(Si3N4)、氧化鈦可以為二氧化鈦(TiO2)、氧化鈮可以為五氧化二鈮(Nb2O5)、氧化鉭可以為五氧化二鉭(Ta2O5)。而第二光學(xué)膜22的折射率可介于
1.8至2.4之間。因此，可利用濕式制程并借由其流平的特性來(lái)形成第二光學(xué)膜22，并可使第二光學(xué)膜22形成一平坦化層，也就是第二光學(xué)膜22的上表面為平坦的。再者，于本實(shí)施例中，復(fù)合光學(xué)膜2位于第一區(qū)域Al的第一光學(xué)膜21及第二光學(xué)膜22的厚度加總H1+H2，與復(fù)合光學(xué)膜2位于第二區(qū)域A2的第二光學(xué)膜22的厚度H3差小于H1+H2的20 %，且第一光學(xué)膜21的厚度Hl及第二光學(xué)膜22的厚度H2或H3可介于I納米至I微米之間，而Hl、H2或H3較佳實(shí)施例范圍則為I納米至300納米之間。因此，本實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜2位于第一區(qū)域Al的色度、穿透率、反射率或折射率可與位于第二區(qū)域A2不同。于此，第一區(qū)域Al可為高反射區(qū)，在可見(jiàn)光(380 780nm)下，反射率約可達(dá)60%，可以搭配裝飾鍍膜技術(shù)的應(yīng)用；而第二區(qū)域A2系可為抗反射區(qū)，在可見(jiàn)光(380 780nm)下,反射率約可低達(dá)1.2%。借此,本實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜2可適應(yīng)第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2所需的不同光學(xué)功能，而分別形成不同功能的光學(xué)膜。如圖4A至圖4B所示為本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜的另一態(tài)樣制作過(guò)程示意圖。同樣的，先形成第一光學(xué)膜21a于基板41a的第一區(qū)域Al，第一區(qū)域Al可圍設(shè)第二區(qū)域A2，或第二區(qū)域A2圍設(shè)第一區(qū)域Al。于此，以第一區(qū)域Al圍設(shè)于第二區(qū)域A2的周圍為例。接著，以濕式制程形成第二光學(xué)膜22a于第一光學(xué)膜21a上及基板41a的第二區(qū)域A2之上。再者，同樣的，于本實(shí)施例中，復(fù)合光學(xué)膜2a位于第一區(qū)域Al的第一光學(xué)膜21a及第二光學(xué)膜22a的厚度加總H1+H2,與復(fù)合光學(xué)膜2a位于第二區(qū)域A2的第二光學(xué)膜22a的厚度H3差系小于H1+H2的20%，且第一光學(xué)膜21a的厚度Hl及第二光學(xué)膜22a的厚度H2或H3可介于I納米至I微米之間，而H1、H2或H3較佳實(shí)施例范圍則為I納米至300納米之間。因此，本實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜2a位于第一區(qū)域Al的色度、穿透率、反射率或折射率可與位于第二區(qū)域A2不同。另外，請(qǐng)參照?qǐng)D5A所示，其為本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜的另一態(tài)樣示意圖。復(fù)合光學(xué)膜2b更可形成一第三光學(xué)膜23于第一區(qū)域Al的第二光學(xué)膜22a之上,而第三光學(xué)膜23可與第一光學(xué)膜21a的材質(zhì)相同或不相同。因此,可借由第三光學(xué)膜23來(lái)加強(qiáng)第一區(qū)域Al的光學(xué)功能，以增加復(fù)合光學(xué)膜2b的應(yīng)用范圍。又，請(qǐng)參照?qǐng)D5B所示，其為本發(fā)明較佳實(shí)施例的復(fù)合光學(xué)膜的又一態(tài)樣示意圖。復(fù)合光學(xué)膜2c更可形成一第四光學(xué)膜24于第一區(qū)域Al的第三光學(xué)膜23上及第二區(qū)域A2的第二光學(xué)膜22a之上。而第四光學(xué)膜24可與第二光學(xué)膜22a的材質(zhì)相同或不相同,借由第四光學(xué)膜24可再加強(qiáng)第二區(qū)域A2的光學(xué)功能。因此，依需求第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2可形成多個(gè)的光學(xué)膜。多個(gè)光學(xué)膜的各層光學(xué)膜形成位置可以先于第一區(qū)域Al形成光學(xué)膜，再形成同時(shí)覆蓋第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2的光學(xué)膜，并重復(fù)此順序疊構(gòu)而成。而多個(gè)光學(xué)膜的各層光學(xué)膜疊構(gòu)順序亦可穿插先于第二區(qū)域A2形成光學(xué)膜，再形成同時(shí)覆蓋第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2的光學(xué)膜。因此，多個(gè)光學(xué)膜的疊構(gòu)方式于此不予以限制。請(qǐng)參照?qǐng)D6所示，其為本發(fā)明較佳實(shí)施例的顯示裝置的示意圖。顯示裝置3例如可為一觸控顯示裝置、一液晶顯示裝置、一有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置或一電子紙顯示裝置。顯示裝置3包含一裝置本體31及一保護(hù)基板4，保護(hù)基板4具有基板41a及復(fù)合光學(xué)膜2d。于此,復(fù)合光學(xué)膜2d可以米用復(fù)合光學(xué)膜2a、2b或2c的方式形成，則保護(hù)基板4可成為一裝飾玻璃，即于第一區(qū)域Al形成高反射區(qū)，其對(duì)應(yīng)顯示裝置的非有源顯示區(qū)(blackmatrix area),在可見(jiàn)光(380 780nm)下,反射率約可達(dá)60%,可以搭配裝飾鍍膜技術(shù)的應(yīng)用；而第二區(qū)域A2系形成抗反射區(qū)，其對(duì)應(yīng)顯示裝置的有源顯示區(qū)(active area)，在可見(jiàn)光(380 780nm)下，反射率約可低達(dá)1.2%。保護(hù)基板4可再與裝置本體31 (例如為觸控顯示面板或顯示面板)連接，以成為例如移動(dòng)通訊裝置、觸控移動(dòng)通訊裝置或觸控平板電腦等的顯示裝置。請(qǐng)參照?qǐng)D7所示，其為本發(fā)明較佳實(shí)施例的顯示裝置的另一態(tài)樣示意圖。于此，顯示裝置3a例如可為移動(dòng)通訊裝置的顯示裝置，則第一區(qū)域Al的復(fù)合光學(xué)膜2e例如可為紅外光(波長(zhǎng)大于700納米)接收區(qū)，而第一區(qū)域Al的紅外光穿透率大于90%，以作為手機(jī)紅外線接收孔。位于第二區(qū)域A2的復(fù)合光學(xué)膜2e可為抗反射區(qū)，第二區(qū)域A2反射率約為2.7%。于此,復(fù)合光學(xué)膜2e可以米用復(fù)合光學(xué)膜2a、2b或2c的方式形成。再者,更可有一第三區(qū)域(圖未表示)，圍設(shè)于第二區(qū)域A2的周圍以搭配裝飾鍍膜技術(shù)的應(yīng)用。借此，可增加復(fù)合光學(xué)膜2e的應(yīng)用范圍。綜上所述，本發(fā)明的顯不裝置的復(fù)合光學(xué)膜系將一第一光學(xué)膜形成于一基板的一第一區(qū)域，再以一濕式制程形成一第二光學(xué)膜于第一光學(xué)膜上及基板的第二區(qū)域之上。借此，本發(fā)明的復(fù)合光學(xué)膜可對(duì)應(yīng)基板上不同的第一區(qū)域及第二區(qū)域，而具有不同的光學(xué)功能，故能增加復(fù)合光學(xué)膜的應(yīng)用性，進(jìn)而增加產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的修改和完善，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書(shū)所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種復(fù)合光學(xué)膜，設(shè)置于一基板，該基板具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，該第一區(qū)域鄰設(shè)于該第二區(qū)域，包括: 一第一光學(xué)膜，設(shè)置于該第一區(qū)域；以及 一第二光學(xué)膜，設(shè)置于該第一光學(xué)膜上及該第二區(qū)域之上。
2.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)膜，其特征在于，位于該第一區(qū)域的該第一光學(xué)膜及該第二光學(xué)膜的厚度加總與位于該第二區(qū)域的該第二光學(xué)膜的厚度差小于該第一區(qū)域的該第一光學(xué)膜及該第二光學(xué)膜的厚度加總的20%。
3.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)膜，其特征在于，該復(fù)合光學(xué)膜于該第一區(qū)域的光學(xué)特性是與于該第二區(qū)域不同。
4.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)膜，其特征在于，該第一光學(xué)膜的厚度介于I納米至I微米之間，該第二光學(xué)膜的厚度介于I納米至I微米之間。
5.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)膜，其特征在于，該第二光學(xué)膜為一平坦化層。
6.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)膜，其特征在于，該第二光學(xué)膜是以濕式制程形成。
7.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合光學(xué)膜，還包含: 一第三光學(xué)膜，設(shè)置于該第一區(qū)域或該第二區(qū)域的該第二光學(xué)膜之上。
8.一種復(fù)合光學(xué)膜的制造方法，包含: 形成一第一光學(xué)膜于一基板的一第一區(qū)域，該第一區(qū)域鄰設(shè)于一第二區(qū)域；以及 以一濕式制程形成一第二光學(xué)膜于該第一光學(xué)膜上及該第二區(qū)域之上。
9.如權(quán)利要求8所述的制造方法，還包含: 形成一第三光學(xué)膜于該第一區(qū)域或該第二區(qū)域的該第二光學(xué)膜之上。
10.一種顯示裝置，包括: 一裝置本體；以及 一保護(hù)基板，設(shè)置于該裝置本體的一側(cè)，該保護(hù)基板包括: 一基板，具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，該第一區(qū)域鄰設(shè)于該第二區(qū)域；及一復(fù)合光學(xué)膜，具有一第一光學(xué)膜及一第二光學(xué)膜，該第一光學(xué)膜設(shè)置于該第一區(qū)域，該第二光學(xué)膜設(shè)置于該第一光學(xué)膜上及該第二區(qū)域之上。
11.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，位于該第一區(qū)域的該第一光學(xué)膜及該第二光學(xué)膜的厚度加總與位于該第二區(qū)域的該第二光學(xué)膜的厚度差是小于該第一區(qū)域的該第一光學(xué)膜及該第二光學(xué)膜的厚度加總的20%。
12.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該復(fù)合光學(xué)膜于該第一區(qū)域的光學(xué)特性是與于該第二區(qū)域不同。
13.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第一區(qū)域圍設(shè)該第二區(qū)域。
14.如權(quán)利要求13所述的顯示裝置，其特征在于，該第一光學(xué)膜的折射率介于1.3至1.7之間。
15.如權(quán)利要求13所述的顯示裝置，其特征在于，該第二光學(xué)膜的折射率介于1.8至2.4之間。
16.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第二區(qū)域圍設(shè)該第一區(qū)域。
17.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第一光學(xué)膜的厚度介于I納米至I微米之間，該第二光學(xué)膜的厚度介于I納米至I微米之間。
18.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第二光學(xué)膜為一平坦化層。
19.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第二光學(xué)膜系以濕式制程形成。
20.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該復(fù)合光學(xué)膜還具有:一第三光學(xué)膜，設(shè)置 于該第一區(qū)域或該第二區(qū)域的該第二光學(xué)膜之上。
全文摘要
本發(fā)明提出一種復(fù)合光學(xué)膜，設(shè)置于一基板，基板具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，第一區(qū)域鄰設(shè)于第二區(qū)域，復(fù)合光學(xué)膜包括一第一光學(xué)膜及一第二光學(xué)膜。第一光學(xué)膜設(shè)置于一區(qū)域；第二光學(xué)膜設(shè)置于第一光學(xué)膜上及第二區(qū)域之上。本發(fā)明還提出一種顯示裝置及復(fù)合光學(xué)膜的制作方法。
文檔編號(hào)B32B5/00GK103207420SQ20121000709
公開(kāi)日2013年7月17日 申請(qǐng)日期2012年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月11日
發(fā)明者賴思維, 高嘉朗, 許惠珍 申請(qǐng)人:群康科技(深圳)有限公司, 奇美電子股份有限公司