專利名稱：一種在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法
技術領域：
本發明涉及一種減反射膜制備方法，特別是涉及一種在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法。
背景技術：
隨著智能手機產品的普及及應用，對于手機液晶顯示屏的顯示色彩要求也越來越高，人們期待色彩逼真、艷麗的視覺沖擊。隨著iph0ne4系列IPS3. 5英寸顯示屏Retina顯示技術在手機液晶顯示屏上的使用，推動著整個視窗行業向高清低反射時代發展。隨著減反射膜在手機LCD保護屏及攝像頭方面的應用，人們也越來越期待減反射膜在LCD保護屏及攝像頭方面上的應用。傳統的減反射膜由于在可見光區域的反射率存在偏差，所以在反射顏色上也存在不一致的問題，常見的幾種顏色有偏藍色、偏綠色、偏紅色等等，這種設計的缺點是整批產品的顏色一致性差。另外，手機保護屏一般采用先鍍減反射膜再印刷黑色遮蔽油墨的方式生產，這樣反射不同顏色光的減反射膜印刷后會呈現不同的顏色。影響產品的一致性。
發明內容
本發明為解決公知技術中存在的技術問題而提供一種在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法。本發明為解決公知技術中存在的技術問題所采取的技術方案是一種在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法，包括以下步驟一)PMMA 板材除濕；二 )真空鍍減反射膜1)將PMMA板材放入鍍膜機的真空室內，2)對PMMA板材的上表面進行除水；3)對PMMA板材進行表面清潔和活化；4)對鍍膜機的真空室進行加熱；5)在PMMA板材的上表面上逐層沉積厚度為12. 6nm 13. 6nm的氧化鋯膜、厚度為17. 2nm 18. 2nm的二氧化硅膜、厚度為83. 4nm 88. 2nm的氧化鋯膜和厚度為62nm 65. 8nm的二氧化硅膜；三)從鍍膜機的真空室中取出鍍完減反射膜的PMMA板。所述步驟二)中步驟幻的鍍膜工藝條件為，關閉鍍膜機的真空室內的無陰極離子源，對鍍膜機的真空室持續真空抽氣，當鍍膜機的真空室內真空度低于3X 10_5torr時， 打開鍍膜機上的電子槍和電子槍上的無陰極離子源，打開鍍膜機的真空室上的無陰極離子源，并向鍍膜機的真空室內通入流量為8 20sCCm的氧氣，向鍍膜機的電子槍內通入流量為5-Msccm的氧氣。
在所述步驟二)的步驟4)中，將鍍膜機的真空室加熱并保持在60 80°C。所述步驟二)中的步驟3)為當鍍膜機的真空室內真空度低于5X10_5tOrr后，打開鍍膜機的真空室上的無陰極離子源，并向鍍膜機的真空室內通入流量為10 30SCCm的氧氣，通入氧氣的時間為30 180s。本發明具有的優點和積極效果是通過采用交錯疊鍍的兩層高折射率的&02膜和兩層低折射率的Si02膜，并通過優化各層膜的厚度，實現了入射光在經過減反射膜后， 減反射的同時，在可見光區域的反射率基本保持數值一致，從而使減反射膜的反射光趨向于無色，以得到反射無色的良好減反射效果。
圖1為采用本發明制作的減反射膜的結構示意圖。圖中1、PMMA板材，2、氧化鋯膜，3、二氧化硅膜，4、氧化鋯膜，5、二氧化硅膜。
具體實施例方式為能進一步了解本發明的發明內容、特點及功效，茲例舉以下實施例，并配合附圖詳細說明如下實施例1 請參閱圖1，一種在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法一)PMMA板材除濕將PMMA板材1進行除濕烘烤，烘烤溫度為30°C，烘烤時間為3小時。二)真空鍍減反射膜1)將烘烤后的PMMA板材置于基片架上，裝入鍍膜機的真空室內；2)真空室進行高真空抽氣，啟動配備在真空室內的深冷低溫機，使其設定溫度低于-120°C，這樣可以將PMMA板材1上表面的水分徹底清除。3)對PMMA板材1的上表面進行清潔和活化當鍍膜機的真空室內真空度低于5X10_5tOrr后，打開鍍膜機的真空室上的無陰極離子源，并向鍍膜機的真空室內通入流量為20sCCm的氧氣，通氣時間為100s，以對PMMA 板材1的上表面進行清潔處理和表面活化。4)對鍍膜機的真空室進行加熱打開鍍膜機的真空室上的加熱器，加熱鍍膜機的真空室，使鍍膜機的真空室內溫度達到并保持在70°C。5)鍍減反射膜關閉鍍膜機的真空室上的無陰極離子源，對鍍膜機的真空室進行持續真空抽氣， 當鍍膜機的真空室內真空度低于3X10_5torr時，打開鍍膜機上的電子槍和電子槍上的無陰極離子源，打開鍍膜機的真空室上的無陰極離子源，向鍍膜機的真空室內通入流量為 15sCCm的氧氣，向鍍膜機的電子槍內通入流量為IOsccm的氧氣，逐層在PMMA基材1的上表面上沉積厚度為13nm的氧化鋯(ZrO2)膜2、厚度為17. Snm的二氧化硅(SiO2)膜3、厚度為 85. 8nm的氧化鋯(ZrO2)膜4和厚度為64nm的二氧化硅(SiO2)膜5。三)從鍍膜機的真空室中取出鍍完減反射膜的PMMA板
鍍膜完成之后自動關閉無陰極離子源和電子槍，同時深冷低溫機停止工作，對鍍膜機的真空室進行充氣，待鍍膜機的真空室內真空度到達大氣狀態時，真空室門自動打開。 這是就可以從鍍膜機的真空室中取出基片架，將鍍有減反射膜的PMMA板從基片架上取下。采用分光光度計對上述減反射膜進行測試，透過率和反射率的數值如下
權利要求
1.一種在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法，其特征在于，包括以下步驟一)PMMA板材除濕；二)真空鍍減反射膜1)將PMMA板材放入鍍膜機的真空室內，2)對PMMA板材的上表面進行除水；3)對PMMA板材進行表面清潔和活化；4)對鍍膜機的真空室進行加熱；5)在PMMA板材的上表面上逐層沉積厚度為12.6nm 13.6nm的氧化鋯膜、厚度為 17. 2nm 18. 2nm的二氧化硅膜、厚度為83. 4nm 88. 2nm的氧化鋯膜和厚度為62nm 65. 8nm的二氧化硅膜；三)從鍍膜機的真空室中取出鍍完減反射膜的PMMA板。
2.根據權利要求1所述的在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法，其特征在于，所述步驟二)中步驟5)的鍍膜工藝條件為，關閉鍍膜機的真空室內的無陰極離子源， 對鍍膜機的真空室持續真空抽氣，當鍍膜機的真空室內真空度低于3X l(T5torr時，打開鍍膜機上的電子槍和電子槍上的無陰極離子源，打開鍍膜機的真空室上的無陰極離子源，并向鍍膜機的真空室內通入流量為8 20sCCm的氧氣，向鍍膜機的電子槍內通入流量為5 15sccm的氧氣。
3.根據權利要求2所述的在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法，其特征在于，在所述步驟二)的步驟4)中，將鍍膜機的真空室加熱并保持在60 80°C。
4.根據權利要求3所述的在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法，其特征在于，所述步驟二)中的步驟3)為當鍍膜機的真空室內真空度低于5Xl(T5torr后，打開鍍膜機的真空室上的無陰極離子源，并向鍍膜機的真空室內通入流量為10 30sCCm的氧氣， 通入氧氣的時間為30 180s。
全文摘要
本發明公開了一種在可見光區域反射無色光的減反射膜制作方法，包括以下步驟一)PMMA板材除濕；二)真空鍍減反射膜1)將PMMA板材放入鍍膜機的真空室內，2)對PMMA板材的上表面進行除水；3)對PMMA板材進行表面清潔和活化；4)對鍍膜機的真空室進行加熱；5)在PMMA板材的上表面上逐層沉積厚度為12.6nm～13.6nm的氧化鋯膜、厚度為17.2nm～18.2nm的二氧化硅膜、厚度為83.4nm～88.2nm的氧化鋯膜和厚度為62nm～65.8nm的二氧化硅膜；三)從鍍膜機的真空室中取出鍍完減反射膜的PMMA板。本發明實現了入射光在經過減反射膜后，減反射的同時，在可見光區域的反射率基本保持數值一致，從而使減反射膜的反射光趨向于無色，以得到反射無色的良好減反射效果。
文檔編號B32B27/06GK102560363SQ201210060009
公開日2012年7月11日 申請日期2012年3月8日 優先權日2012年3月8日
發明者吳克堅, 沈勵, 石富銀, 許沐華, 陳奇 申請人:天津美泰真空技術有限公司