一種拋釉磚的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種拋釉磚，其是一種陶瓷建材產(chǎn)品。一種拋釉磚,其特征在于，由下至上包括：坯體層（101），印花圖案層（301），釉面層（401），其中所述釉面層（401）由至少兩層裝飾釉層疊加而成。同現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有如下優(yōu)勢：將原有單層結(jié)構(gòu)的釉面層改為由至少兩層裝飾釉層疊加而成的結(jié)構(gòu)，可以減少坯體變形，進(jìn)而減少因?yàn)檫^拋造成的露底缺陷；而且，這種結(jié)構(gòu)在兩層裝飾釉層的結(jié)合處為凹凸嵌接，會使印花圖案層更為立體，裝飾釉層的裝飾效果也能和印花圖案有機(jī)結(jié)合，豐富產(chǎn)品品系，降低廢品率。
【專利說明】一種拋釉磚
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種陶瓷建材產(chǎn)品，更具體地涉及一種拋釉磚。
【背景技術(shù)】
[0002]拋釉磚是近年來新興的一種建筑陶瓷產(chǎn)品，其在素坯磚坯上印花，然后施以透明釉，入窯燒成后拋光，因此集合了拋光磚、仿古磚、瓷片三種產(chǎn)品的優(yōu)勢，產(chǎn)品完全釋放了釉面磚啞色暗光的含蓄性，解決了半拋磚易藏污的缺陷，具備了拋光磚的光澤度、瓷質(zhì)硬度，同時(shí)也擁有仿古磚的釉面高仿效果，以及瓷片釉面豐富的印刷效果。
[0003]因?yàn)閽佊源u的釉面層較薄，通常只有0.5?1.5mm，而且還需要拋磨加工處理，因此非常容易露底，損傷印花圖案層造成缺陷，而且制品的印花圖案層效果僅能為平面，無立體質(zhì)感。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]鑒于【背景技術(shù)】中提出的問題，本實(shí)用新型提供一種新型的拋釉磚，其由下至上包括:坯體層，印花圖案層，釉面層，其中所述釉面層為大于等于兩層釉復(fù)合形成的裝飾釉層。因?yàn)椴煌粤系臒膳蛎浭湛s系數(shù)不同，兩層或兩層釉復(fù)合，兩層釉面結(jié)合處會因?yàn)闊蓵r(shí)的膨脹收縮系數(shù)不一致而具有凹凸起伏，其也能減少釉面層與坯體層的應(yīng)力，減少坯體層翹彎，進(jìn)而減少拋光時(shí)的過拋露底問題。
[0005]另外，透過其會使釉面層下的印花圖案層圖案具有立體效果。
[0006]進(jìn)一步優(yōu)選，使印花圖案層未布滿坯體層表面，且印花圖案層位于坯體層表面中部位置會達(dá)到更優(yōu)的效果。鑒于釉面層在燒成過程中的膨脹收縮系數(shù)大于坯體層，通常磚體邊緣處會有一定程度的翹彎，拋釉時(shí)，也通常是邊緣區(qū)域出現(xiàn)過拋露底缺陷。印花圖案層未布滿坯體層表面，且印花圖案層位于坯體層表面中部位置，在進(jìn)行拋釉處理時(shí)，可以減少對印花圖案層的損傷。
[0007]另外，更進(jìn)一步優(yōu)選，本實(shí)用新型所提供的拋釉磚產(chǎn)品，在印花圖案層呈現(xiàn)的圖案周圍具有金屬光澤層，金屬光澤層能彌補(bǔ)因過拋對印花圖案層的損傷，還能使整個(gè)產(chǎn)品裝飾效果更強(qiáng)，不喪失美感，尤其是以金色或銀色金屬光澤釉裝飾時(shí)，產(chǎn)品更具高貴典雅韻味，還能減少廢品率。
[0008]一種新型的拋釉磚，其由下至上包括:坯體層，印花圖案層，釉面層，其中所述釉面層由至少兩層裝飾釉層疊加而成。
[0009]所述裝飾釉層包括但不限于有色窯變釉層、有色裂紋釉層、有色析晶釉層。
[0010]優(yōu)選地，在上述拋釉磚中，印花圖案層覆蓋坯體層的一部分，并位于坯體層中部。
[0011]如上所述的拋釉磚，還包括金屬光澤層。其中所述的金屬光澤層位于印花圖案層和坯體層之間，并完全覆蓋坯體層。進(jìn)一步優(yōu)選，在金屬光澤層和印花圖案層之間還有一層遮蓋層，遮蓋層與印花圖案層覆蓋區(qū)域保持一致，將印花圖案層和金屬光澤層分隔開。
[0012]另外，還可以將所述的金屬光澤層和印花圖案層在同一層，金屬光澤層覆蓋印花層未遮蓋的還體層。
[0013]如上所述的拋釉磚，優(yōu)選地，在坯體層邊緣設(shè)置多條傾斜的凹陷紋路，紋路長度為I?15mm,凹陷深度為0.5?1mm。
[0014]同現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有如下優(yōu)勢:將原有單層結(jié)構(gòu)的釉面層改為由至少兩層裝飾釉層疊加而成的結(jié)構(gòu)，可以減少坯體變形，進(jìn)而減少因?yàn)檫^拋造成的露底缺陷；而且，這種結(jié)構(gòu)在兩層裝飾釉層的結(jié)合處為凹凸嵌接，會使印花圖案層更為立體，裝飾釉層的裝飾效果也能和印花圖案有機(jī)結(jié)合，豐富產(chǎn)品品系，降低廢品率。
[0015]優(yōu)選方式，可以改變原有完全覆蓋坯體層的印花方式，進(jìn)一步減少拋釉磚因?yàn)檫^拋而出現(xiàn)的露底缺陷。還可以將金屬光澤裝飾與印花圖案裝飾有機(jī)結(jié)合，豐富現(xiàn)有產(chǎn)品品系，還能降低廢品率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例1橫截面示意圖。
[0017]圖2為釉面層401局部橫截面放大示意圖。
[0018]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例2的俯視示意圖，在本實(shí)施例中印花圖案層的圖案為荷花，其周圍為金色的金屬光澤層。
[0019]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例2的橫截面示意圖。
[0020]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例3的橫截面示意圖。
[0021]圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例5的橫截面示意圖。
[0022]附圖標(biāo)號說明:101—還體層；201—金屬光澤層；301 —印花圖案層；401—釉面層，401A、40IB—裝飾釉層，501一遮蓋層。
【具體實(shí)施方式】
[0023]結(jié)合附圖和適當(dāng)?shù)膬?yōu)選實(shí)施例對本實(shí)用新型方案做具體說明。應(yīng)當(dāng)理解，附圖不是嚴(yán)格按照比例繪制，而且其中可能會有一些本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解的缺省。
[0024]實(shí)施例1
[0025]參照附圖1和附圖2，在本實(shí)施例中，選擇印花圖案層為部分覆蓋坯體層結(jié)構(gòu)。當(dāng)然，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解印花圖案層完全覆蓋坯體層也可以，只需選擇合適的印花圖案模板既可。
[0026]在本實(shí)施例中所提供的拋釉磚，其由下至上為坯體層101，印花圖案層301，釉面層401，其中軸面層由至少兩層裝飾軸層置加而成。
[0027]可以通過如下工藝制備實(shí)施例1所述拋釉磚產(chǎn)品。選擇長石、粘土、砂、添加劑等常規(guī)陶瓷坯體配方原料，通過球磨、除鐵、陳腐、造粒等步驟制成粉料，通過沖壓的方式制成磚坯。清掃坯體表面，通過噴墨印花的方式在坯體中部形成印花圖案，然后以至少兩種裝飾釉層復(fù)合形成釉面層401，裝飾釉可以是有色窯變釉、有色裂紋釉、有色析晶釉。干燥后，入窯輥道窯在1050?1200°C下，60?120分鐘燒成，然后經(jīng)拋磨、倒角、拋光后得到制品。
[0028]當(dāng)然，優(yōu)選地，也是本領(lǐng)域公知，可以在坯體層101上施一層底釉后再印花形成印花裝飾層。
[0029]實(shí)施例2[0030]參照附圖3和附圖4，在本實(shí)施例中所提供的拋釉磚，其由下至上為坯體層101，金屬光澤層201，印花圖案層301，釉面層401，釉面層由至少兩層裝飾釉層疊加而成。其中金屬光澤層201完全覆蓋坯體層101，印花圖案層301位于坯體層中部，其為部分覆蓋，在其邊緣為金屬光澤層。
[0031]可以通過如下工藝制備實(shí)施例1所述拋釉磚產(chǎn)品。選擇長石、粘土、砂、添加劑等常規(guī)陶瓷坯體配方原料，通過球磨、除鐵、陳腐、造粒等步驟制成粉料，通過沖壓的方式制成磚坯。清掃坯體表面，施一層金屬光澤釉，然后再通過噴墨印花的方式在坯體中部形成荷花圖案，荷花圖案未覆蓋的部分為顯露的金屬光澤釉。然后以至少兩種裝飾釉層復(fù)合形成釉面層401，裝飾釉可以是有色窯變釉、有色裂紋釉、有色析晶釉。干燥后，入窯輥道窯在1050?1200°C下，60?120分鐘燒成，然后經(jīng)拋磨、倒角、拋光后得到制品。
[0032]當(dāng)然，優(yōu)選地，也是本領(lǐng)域公知，可以在坯體層101上施一層底釉后再施金屬光澤軸。
[0033]實(shí)施例3
[0034]參照附圖5，本實(shí)施例提供的拋釉磚，其由下至上依次為坯體層101，底釉層(附圖中未繪出)，印花圖案層301和在印花圖案層邊緣并和印花圖案層處于同一層的金屬光澤層201，軸面層401，軸面層由至少兩層裝飾軸層置加而成。
[0035]本實(shí)施例的拋釉磚可以通過如下工藝來制備。選擇長石、粘土、砂、添加劑等常規(guī)陶瓷坯體配方原料，通過球磨、除鐵、陳腐、造粒等步驟制成粉料，通過沖壓的方式制成磚坯。清掃坯體表面，施一層遮蓋力強(qiáng)的底釉，然后在底釉上印花，形成印花圖案層，印花圖案層位于坯體中部，并未完全覆蓋坯體，接著用金屬光澤釉填充坯體未印花區(qū)域，使印花圖案層和金屬光澤層位于同一層，然后以至少兩種裝飾釉層復(fù)合形成釉面層401，裝飾釉可以是有色窯變釉、有色裂紋釉、有色析晶釉。干燥后，入窯輥道窯在1050?1200°C下，60?120分鐘燒成，然后經(jīng)拋磨、倒角、拋光后得到制品。
[0036]實(shí)施例4
[0037]在本實(shí)施例中，為了進(jìn)一步解決【背景技術(shù)】中提到的拋光時(shí)容易露底的問題，提出此改進(jìn)實(shí)施例。
[0038]鑒于露底缺陷多集中于邊緣區(qū)域，在本實(shí)施例中通過對坯體層101進(jìn)行改進(jìn)，在坯體層101邊緣再設(shè)置一些傾斜的凹陷紋路，紋路長度為I?15mm，凹陷深度為0.5?1mm。通過以上紋路吸收燒成時(shí)的收縮應(yīng)力，減少坯體變形。又因?yàn)橐陨细倪M(jìn)都位于坯體邊緣，基本避開印花圖案層，在本實(shí)用新型所述條件下，不會破壞裝飾效果呈現(xiàn)。
[0039]實(shí)施例5
[0040]因?yàn)樾纬山饘俟鉂蓪拥慕饘俟鉂捎远鄶?shù)會對形成印花圖案層的印油/油墨發(fā)色有影響，為了解決此問題，本發(fā)明提供實(shí)施例4。
[0041]參照實(shí)施例2和附圖6，在實(shí)施例1基礎(chǔ)上，施金屬釉后在金屬釉上形成遮蓋層501，遮蓋層圖案與印花圖案層一致，形成遮蓋層可以采用包括但不限于絲網(wǎng)或數(shù)碼噴印的方式，遮蓋層優(yōu)選為白度較高的乳濁釉、印油或白色油墨，然后再形成印花圖案層，通過遮蓋層將印花圖案層分隔開，避免金屬光澤釉影響形成印花圖案層的印油/油墨發(fā)色。
[0042]實(shí)施例6
[0043]在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，只將印花圖案層噴印于坯體層中部也能實(shí)現(xiàn)降低過拋露底的缺陷，但相較以上1-5實(shí)施例，廢品率有所提高，而且裝飾效果也不夠豐富。
[0044] 以上所述的僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)例性實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種拋釉磚，其特征在于，由下至上包括:坯體層(101 )，印花圖案層(301 )，釉面層(401)，其中所述釉面層(401)由至少兩層裝飾釉層疊加而成。
2.如權(quán)利要求1所述的拋釉磚，其特征在于，所述裝飾釉層設(shè)置為有色窯變釉裝飾層、有色裂紋釉裝飾層、有色析晶釉裝飾層中的一種。
3.如權(quán)利要求1或2所述的拋釉磚，其特征在于，所述印花圖案層覆蓋坯體層的一部分，并位于坯體層中部。
4.如權(quán)利要求3所述的拋釉磚，其特征在于，其還包括金屬光澤層(201)，所述的金屬光澤層(201)位于印花圖案層(301)和坯體層(101)之間，金屬光澤層(201)完全覆蓋坯體層(101)。
5.如權(quán)利要求4所述的拋釉磚，其特征在于，在所述金屬光澤層(201)和印花圖案層(301)之間還有一層遮蓋層(501)，遮蓋層(501)與印花圖案層(301)覆蓋區(qū)域保持一致，并將印花圖案層(301)和金屬光澤層(201)分隔開。
6.如權(quán)利要求3所述的拋釉磚，其特征在于，其還包括金屬光澤層(201)，所述的金屬光澤層(201)和印花圖案層(301)在同一層，金屬光澤層(201)覆蓋印花層(301)未遮蓋的坯體層(101)。
7.如權(quán)利要求1、2、4、5、6中任意一項(xiàng)所述的拋釉磚，其特征在于，在所述坯體層(101)邊緣設(shè)置多條傾斜的凹陷紋路，紋路長度為I?15mm，凹陷深度為0.5?1mm。
【文檔編號】B32B3/02GK203383453SQ201320232543
【公開日】2014年1月8日 申請日期:2013年5月3日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月3日
【發(fā)明者】周燕, 丘云靈, 曾德朝 申請人:廣東東鵬陶瓷股份有限公司, 廣東東鵬控股股份有限公司, 豐城市東鵬陶瓷有限公司, 佛山市東鵬陶瓷有限公司