本發(fā)明涉及外殼加工工藝領(lǐng)域，特別是涉及一種實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法及終端。

背景技術(shù)：

隨著用戶對(duì)產(chǎn)品的產(chǎn)品外觀質(zhì)感要求的不斷提升，便攜式終端，如手機(jī)、平板電腦等越來(lái)越多使用金屬外殼，對(duì)于以往在塑料外殼表面做出的各種裝飾效果，如拉絲等各種紋理的工藝無(wú)法應(yīng)用到金屬外殼上。本發(fā)明提供一種金屬外殼的紋理加工工藝。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

基于此，本發(fā)明提供一種實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法和終端。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是：一種實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法，所述方法包括以下步驟：

對(duì)金屬基材一表面進(jìn)行至少兩次菲林曝光蝕刻，以形成3d紋理圖案，其中每次所述菲林曝光蝕刻均包括顯影保護(hù)區(qū)域和顯影蝕刻區(qū)域，第一次菲林曝光蝕刻形成第一顯影保護(hù)區(qū)域和第一顯影蝕刻區(qū)域，第二次菲林曝光蝕刻形成第二顯影保護(hù)區(qū)域和第二顯影蝕刻區(qū)域，所述第一顯影蝕刻區(qū)域與所述第二顯影蝕刻區(qū)域面積大小不同，且面積大的區(qū)域覆蓋面積小的區(qū)域，3d紋理圖案形成在所述顯影蝕刻區(qū)域內(nèi)，所述兩次菲林曝光蝕刻后形成的圖案之間形成臺(tái)階過(guò)渡；

對(duì)構(gòu)成所述3d紋理圖案的臺(tái)階邊緣進(jìn)行鐳雕，以使所述3d紋理圖案的臺(tái)階邊緣順滑。

本發(fā)明還提供一種終端，其表面具有3d紋理的外殼，所述外殼具有如上方法形成的3d紋理。

以上方案，利用多層不同菲林圖案進(jìn)行曝光蝕刻，實(shí)現(xiàn)金屬基材外表面紋理套位形成3d曲面的臺(tái)階過(guò)渡，然后對(duì)多次蝕刻后形成的圖案之間的臺(tái)階做進(jìn)行進(jìn)一步鐳雕，保證加工后的圖案形成順滑的曲面過(guò)渡，以在金屬基材表面得到曲面順滑的特定圖案。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的一實(shí)施方式的流程示意圖；

圖2本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的一實(shí)施方式中金屬基材加工之前的一角度的截面示意圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的一實(shí)施方式中第一次菲林曝光蝕刻后的金屬基材的俯視示意圖；

圖4是本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的一實(shí)施方式中第二次菲林曝光蝕刻后的金屬基材的俯視示意圖；

圖5是本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的一實(shí)施方式中第三次菲林曝光蝕刻后的金屬基材的俯視示意圖；

圖6是本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的一實(shí)施方式三次菲林曝光蝕刻后的金屬基材的一角度的截面示意圖；

圖7是本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的一實(shí)施方式中鐳雕后的金屬基材的一角度的截面示意圖；

圖8是本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的另一實(shí)施方式的流程示意圖；

圖9是本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的又一實(shí)施方式的流程示意圖；

圖10是本發(fā)明一種終端的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

請(qǐng)參閱圖1，為本發(fā)明實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的一實(shí)施例方式的流程示意圖。該方法包括：

s101：對(duì)金屬基材10一表面進(jìn)行至少兩次菲林曝光蝕刻，以形成3d紋理圖案。

具體的，參見圖2，金屬基材10包括一表面11和另一表面12。圖3和圖4是步驟s101執(zhí)行之后的金屬基材10的俯視圖。

其中每次菲林曝光蝕刻均包括顯影保護(hù)區(qū)域和顯影蝕刻區(qū)域，參見圖3，第一次菲林曝光蝕刻形成第一顯影保護(hù)區(qū)域100和第一顯影蝕刻區(qū)域200；參見圖4，第二菲次林曝光蝕刻形成第二顯影保護(hù)區(qū)域300和第二顯影蝕刻區(qū)域400，第一顯影蝕刻區(qū)域200與第二顯影蝕刻區(qū)域400面積大小不同，且面積大的區(qū)域覆蓋面積小的區(qū)域，3d紋理圖案形成在顯影蝕刻區(qū)域內(nèi)。本實(shí)施例中，第二顯影蝕刻區(qū)域400的面積大于第一顯影蝕刻區(qū)域200的面積，采用這樣的設(shè)計(jì)，第一次菲林曝光后，保留在金屬基材一表面上第一顯影保護(hù)區(qū)域位置的光刻膠可以不移除，在第一次蝕刻之后，將保留在金屬基材一表面上的第一顯影保護(hù)區(qū)域的光刻膠屬于第二顯影蝕刻區(qū)域的那部分光刻膠曝光顯影去除，剩余的光刻膠的面積即與第二顯影保護(hù)區(qū)域面積一樣，然后進(jìn)行第二次蝕刻。因此采用第二次蝕刻面積比第一次蝕刻面積大的工序設(shè)計(jì)能夠在完成多次菲林曝光蝕刻工序的情況下減少涂覆光刻膠和移除光刻膠的次數(shù)，同時(shí)節(jié)約時(shí)間和成本。在其他實(shí)施例中，也可以是第一顯影蝕刻區(qū)域200的面積大于第二顯影蝕刻區(qū)域400的面積。

可選地，顯影蝕刻區(qū)域位于金屬基材一表面11的中間位置，在其他實(shí)施例中也可以是在一表面11的邊緣位置。

具體的，在對(duì)金屬基材10實(shí)施菲林曝光之前還包括清洗和烘干等步驟。

具體的，菲林曝光蝕刻工序包括菲林曝光、顯影、烘干、蝕刻及脫模。

s102：對(duì)構(gòu)成3d紋理圖案的臺(tái)階邊緣進(jìn)行鐳雕，以使3d紋理圖案的臺(tái)階邊緣順滑。

本實(shí)施例中，由于第二顯影蝕刻區(qū)域400的面積大于第一顯影蝕刻區(qū)域200的面積，且第二顯影蝕刻區(qū)域400覆蓋第一顯影蝕刻區(qū)域200，因此在經(jīng)過(guò)兩次蝕刻之后，位于第一顯影蝕刻區(qū)域200的表面經(jīng)過(guò)兩次蝕刻，所以第一顯影蝕刻區(qū)域200形成的蝕刻圖案的深度更深，因此在至少兩次菲林曝光蝕刻之后形成的圖案之間形成臺(tái)階過(guò)渡，對(duì)上述臺(tái)階邊緣的邊角或者毛刺進(jìn)行鐳雕。可選地，采用激光鐳雕，鐳雕采用激光波長(zhǎng)1064nm，工作電流10-18a，功率密度為107—109w/cm2。具體的，激光鐳雕的加工原理是通過(guò)激光束作用于材料表面，使材料吸收激光能量而汽化蒸發(fā)，不需要通過(guò)與材料的接觸來(lái)進(jìn)行。

該實(shí)施方式通過(guò)多層不同菲林圖案進(jìn)行曝光蝕刻，實(shí)現(xiàn)紋理套位形成3d曲面的臺(tái)階過(guò)渡；再對(duì)菲林曝光后的臺(tái)階表面進(jìn)行鐳雕能夠保證加工后的構(gòu)成圖案的曲面順滑，使金屬基材10的一表面11質(zhì)感優(yōu)越。

可選地，對(duì)金屬基材10的一表面11進(jìn)行至少兩次菲林曝光蝕刻的步驟中，對(duì)金屬基材一表面菲林曝光蝕刻的次數(shù)為三次。參見圖5，第三次菲林曝光蝕刻形成第三顯影保護(hù)區(qū)域500和第三顯影蝕刻區(qū)域600，第一、第二、第三顯影蝕刻區(qū)域200、400、600的面積大小均不同，且面積最大的區(qū)域同時(shí)覆蓋其他兩個(gè)面積小的區(qū)域，面積最小的區(qū)域同時(shí)被另外兩個(gè)面積大區(qū)域所覆蓋。

本實(shí)施例中第一、第二和第三顯影蝕刻區(qū)域200、400、600的面積依次增大，第三顯影蝕刻區(qū)域600覆蓋第一和第二顯影蝕刻區(qū)域200、400，第二顯影蝕刻區(qū)域400覆蓋第一顯影蝕刻區(qū)域200。具體的，參見圖6為三次菲林曝光蝕刻之后所形成的金屬基材一角度的剖面圖。由圖6可以看出經(jīng)過(guò)三次菲林曝光蝕刻之后，第一顯影蝕刻區(qū)域200經(jīng)過(guò)三次蝕刻的位置腐蝕深度最深；第二顯影蝕刻區(qū)域400經(jīng)過(guò)兩次蝕刻的位置所腐蝕的深度次之；第三顯影蝕刻區(qū)域600僅經(jīng)過(guò)一次蝕刻的位置所腐蝕的深度最淺。同理，采用蝕刻面積從小到大能夠在完成3次蝕刻的任務(wù)下，只涂覆一次光刻膠，減少工序，節(jié)約時(shí)間和成本。

在其他實(shí)施中，也可以是第一、第二和第三顯影蝕刻區(qū)域200、400、600的面積依次減小，第一顯影蝕刻區(qū)域200覆蓋第三和第二顯影蝕刻區(qū)域400、600，第二顯影蝕刻區(qū)域400覆蓋第三顯影蝕刻區(qū)域600。

在其他實(shí)施例中，還可以是：第三次蝕刻區(qū)域600的面積介于第一次蝕刻區(qū)域200和第二次蝕刻區(qū)域400的面積之間。只要三次蝕刻之后能實(shí)現(xiàn)層次蝕刻，步步深入，以套位形成3d曲面的過(guò)渡即可。

經(jīng)過(guò)三次菲林曝光蝕刻之后在經(jīng)過(guò)鐳雕，即可對(duì)三次腐蝕所形成的臺(tái)階邊緣進(jìn)行精修，以去除邊角及毛刺，從而實(shí)現(xiàn)3d紋理圖案的臺(tái)階邊緣順滑，如圖7所示。

可選地，對(duì)構(gòu)成3d紋理圖案的曲面進(jìn)行鐳雕的步驟之后還包括：對(duì)構(gòu)成3d紋理圖案的曲面進(jìn)行拋光處理。以保證金屬基材10面對(duì)用戶的表面平整度。

參見圖8和圖1，為本發(fā)明提供的一種實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的另一實(shí)施例方式的流程圖。該方法包括：

s201：對(duì)金屬基材10的前后表面首次浸涂感光油墨。

一般終端的金屬殼體結(jié)構(gòu)復(fù)雜，因此需要在菲林曝光蝕刻之前對(duì)整體金屬基材10進(jìn)行浸涂感光油墨，進(jìn)而保護(hù)好金屬殼體里面的結(jié)構(gòu)在后續(xù)工藝蝕刻時(shí)不被腐蝕破壞。可選地，在其他實(shí)施例中在對(duì)金屬基材10進(jìn)行第二次或者更多次的菲林曝光蝕刻之前均對(duì)金屬基材10浸涂感光油墨。這樣能夠防止多次腐蝕造成保護(hù)層軟化、圖案模糊、3d漸變的效果沒(méi)有明顯等現(xiàn)象產(chǎn)生。

s202：對(duì)金屬基材10一表面11進(jìn)行至少兩次菲林曝光蝕刻，以形成3d紋理圖案。

s203：對(duì)構(gòu)成3d紋理圖案的臺(tái)階邊緣進(jìn)行鐳雕，以使3d紋理圖案的臺(tái)階邊緣順滑。

參見圖9和圖一，為本發(fā)明提供的一種實(shí)現(xiàn)金屬基材表面3d紋理的方法的又一實(shí)施例方式的流程圖。該方法包括：

s301：對(duì)金屬基材10一表面11進(jìn)行至少兩次菲林曝光蝕刻，以形成3d紋理圖案。

s302：對(duì)構(gòu)成3d紋理圖案的臺(tái)階邊緣進(jìn)行鐳雕，以使3d紋理圖案的臺(tái)階邊緣順滑。

s303：對(duì)金屬基材10的與一表面11的相背另一表面12進(jìn)行曝光保護(hù)。

具體的，可以對(duì)金屬基材10的一表面11和相背的另一表面12均實(shí)行曝光，但是一表面11上具有光罩，另一表面12上沒(méi)有光罩，且僅僅對(duì)一表面11實(shí)行蝕刻，對(duì)另一表面12不進(jìn)行蝕刻。通過(guò)對(duì)另一表面12進(jìn)行曝光，可以保護(hù)另一表面12下的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

以上實(shí)施方式可滿足各式3d金屬圖案的設(shè)計(jì)要求，結(jié)合套位蝕刻和激光鐳雕工藝，效果更精準(zhǔn)穩(wěn)定，成型質(zhì)量高，可復(fù)制性強(qiáng)，利于工業(yè)規(guī)模化生產(chǎn)。

參見圖10，本發(fā)明還提供一種終端，該終端包括機(jī)身20及設(shè)置在機(jī)身20上與屏幕相背一側(cè)上的外殼10，該外殼10具有如如上實(shí)施方式形成的3d紋理。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。