快速完成曝光時面板與掩膜精確對位的方法
【專利摘要】一種快速完成曝光時面板與掩膜精確對位的方法，它利用感光干膜實現面板與掩膜精確對位的方法，快速完成精確對位。它可以廣泛用于PDP面板上光敏介質層的制備工藝中。
【專利說明】快速完成曝光時面板與掩膜精確對位的方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種等離子顯示器的制造方法，尤其是等離子體顯示器前后面板上一種新型光敏性介質層制備的方法，具體地說是一種快速完成曝光時面板與掩膜精確對位的方法。
【背景技術】
[0002]蔭罩式等離子體顯示板(PDP)在其制作工藝中采用蔭罩板即金屬柵網板來替代傳統的等離子體顯示板rop中復雜的障壁結構，在蔭罩板上制作熒光粉層(按照品字形有紅、綠、藍熒光體組成)。蔭罩式等離子體顯示板主要包括前基板、后基板和蔭罩。后基板包括后襯底玻璃基板，在后襯底玻璃基板上有尋址電極，在有尋址電極的后襯玻璃基板上形成介質層以及在介質層上形成保護層；前基板包括前襯底玻璃基板，在前襯底玻璃基板下表面形成與尋址電極垂直的掃描電極、在有掃描電極的前襯底玻璃基板上形成介質層以及在介質層表面形成保護層；夾在前、后基板中間的蔭罩是由導電材料制成的。將上述前基板、蔭罩和后基板組裝封接后充入預定的工作氣體，主要是一些惰性氣體，比如氙氣或氖氣或者它們的混合體，最后形成了蔭罩式等離子體顯示板。
[0003]隨著蔭罩式等離子體顯示板制作工藝的不斷改進，一種新型光敏性介質層的制備日趨成熟，該方法能夠增加面板的透光率、降低介質層的燒成溫度，減小基板變形。在光敏介質制作過程中，基板與掩膜的對位會直接影響到最終介質層的成形情況，對于一些高要求的精確對位，簡單的肉眼對位是實現不了的。

【發明內容】

[0004]本發明的目的就是針對目前PDP生產中光敏介質制備工藝中，曝光后圖形與電極完全重疊的對位難的問題，發明一種快速完成曝光時面板與掩膜精確對位的方法，以快速實現精確對位。
[0005]本發明的技術方案是:
一種快速完成曝光時面板與掩膜精確對位的方法，其特征是它包括以下步驟:
a、面板I準備，在已制備好電極的面板上印刷光敏介質，并烘干。
[0006]b、掩膜4準備，清潔掩膜。
[0007]C、感光干膜6準備，在干膜切割機上切取與介質面板尺寸大小一樣的感光干膜。
[0008]d、粘塵輥清潔曝光機的上下板面。
[0009]e、將感光干膜吸附在一種彩色光滑紙上5。
[0010]f、將清潔好的掩膜4用固定在曝光機內的上板面上2。
[0011]g、將貼有感光干膜的光滑紙固定在曝光機內的下板面3上即曝光區，移動感光干膜，盡量使它放在曝光區的中間。
[0012]h、對感光干膜進行10 — 15秒鐘的曝光。
[0013]1、將面板I放置干膜6上，根據感光干膜上的對位標記7，用肉眼將面板對位標記與其初步對齊。
[0014]j、通過CXD對位裝置尋找對位標記，通過曝光機的χ-y滾軸調節功能，手動微調下板面3，使觀察到的兩個對位標記完全重合，從而實現最終的精確對位。
[0015]k、對精確對位后的面板I正常曝光。
[0016]通過感光干膜的感光性，曝光后可以成圖，從而進行初步對位。
[0017]面板上印刷的介質是光敏性的，曝光后能形成圖形。
[0018]彩色保護紙可以循環利用，且彩色使成形圖形更清晰，“光滑”便于操作中移動感光干膜。
[0019]撕開保護膜厚，感光干膜具有一定的吸附作用，會自動吸附在光滑紙上。
[0020]本發明的有益效果是:
本發明具有對位速度快，方便快速的優點。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]圖1是本發明的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0022]下面結合附圖和實施例對本發明的內容作進一步的說明。
[0023]如圖1所示:·
a.在無塵室黃光區內，作業潔凈度=Class 1,000以上，環境溫度:23±1°C以內，環境濕度:60%以下操作。
[0024]b.清潔干膜切割機，在干膜切割機上切取與介質面板尺寸大小一樣的感光干膜(6)。
[0025]c.去除干膜一邊的保護膜，將其吸附在彩色光滑紙上(5)。
[0026]d.將附有感光干膜的光滑紙面固定在曝光機內的下版面(3)上即曝光區，移動感光干膜，盡量使它放在曝光區的中間。
[0027]e.將清潔好的掩膜(4)固定在曝光機內的上板面上(2)，對感光干膜進行10 —15秒鐘的正常曝光。
[0028]f.將介質面板(I)放置干膜(6)上。
[0029]g.根據感光干膜上已曝出的微小的圖像對位標記(7)，用肉眼將面板上對位標記與其初步對齊。
[0030]h.通過CXD對位裝置尋找對位標記，通過曝光機的χ-y滾軸調節功能，手動微調下板面(3)，使觀察到的兩個對位標記完全重合，從而實現最終的精確對位。
[0031]1.對精確對位后的面板(I)正常曝光。
[0032]本發明未涉及部分均與現有技術相同或可采用現有技術加以實現。
【權利要求】
1.一種快速完成曝光時面板與掩膜精確對位的方法，其特征是它包括以下步驟: a、面板(I)準備，在有電極的面板上整板印刷光敏介質，并烘干； b、掩膜(4)準備，清潔掩膜；C、感光干膜(6)準備，在干膜切割機上切取與介質面板尺寸大小一致的感光干膜； d、粘塵輥清潔曝光機的上下板面； e、將感光干膜吸附在彩色光滑紙上(5)； f、將清潔好的掩膜(4)固定在曝光機內的上板面上(2)； g、將貼有感光干膜的光滑紙固定在曝光機內的下板面(3)上即曝光區，移動感光干膜，盡量使它放在曝光區的中間； h、對感光干膜進行10—15秒鐘的曝光； 1、將面板(I)放置干膜(6)上，根據感光干膜上的對位標記(7)，用肉眼將面板對位標記與其初步對齊； j、通過CCD對位裝置尋找對位標記，通過曝光機的χ-y滾軸調節功能，手動微調下板面(3)，使觀察到的兩個對位標記完全重合，從而實現最終的精確對位； k、對精確對位后的面板(I)正常曝光。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于通過感光干膜的感光性，曝光后可以成圖，從而進行初步對位。
3.據權利要求1所述的方法，其特征在于面板上印刷的介質是光敏性的，曝光后能形成圖形。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于彩色保護紙可以循環利用，且彩色使成形圖形更清晰，“光滑”便于操作中移動感光干膜。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于撕開保護膜后，感光干膜具有一定的吸附作用，會自動吸附在光滑紙上。
【文檔編號】G03F7/20GK103792800SQ201210429672
【公開日】2014年5月14日 申請日期:2012年11月1日 優先權日:2012年11月1日
【發明者】顧玉梅 申請人:南京華顯高科有限公司