專利名稱：微細凹凸圖案基材、模具以及線柵偏振片的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種在表面具有格子狀凹凸形狀的微細凹凸圖案基材，特別是涉及通過多次轉印而形成的微細凹凸圖案基材。
背景技術：
由于近年來的光刻技術的進步，形成具有光的波長程度的周期的微細結構(微細凹凸圖案)成為可能。特別是具有Iy m以下的周期的微細凹凸圖案的構件或制品不僅在半導體領域在光學領域其利用范圍也比較廣，是非常地有用的。例如，在基板上金屬等的導電體線以特定的周期排列成格子狀的線柵，如果在其周期長度比入射光(例如，可見光的波長400nm 800nm)小的情況下(例如，2分之I以下)，由于相對于導電體線平行地振動的電場矢量成分大部分被反射，垂直的電場矢量成分大部分透射，因此能夠作為產生單一偏振光的線柵偏振片使用。由于這樣的線柵偏振片能夠反射未透射的光進行再利用，從光的有效利用的觀點來看是較為理想的偏振片。特別是若能適用于在電視等的大型液晶顯示裝置中所使用的偏振片的話，從節能的觀點來看是非常理想的。[0004]但是，以現在的光刻技術均一地制作大面積且具有波長以下的周期的微細凹凸光柵是困難的。例如，以石英等的硅系材料得到的微細凹凸母版的大小，即使是尺寸大的也僅有為通用的尺寸的直徑12英寸的晶圓尺寸。作為廉價地制作線柵偏振片的方法，已知有利用納米壓印法由母版連續地制作微細凹凸圖案，進一步用真空蒸鍍法等在該微細凹凸圖案上形成金屬細線的方法。然而，由于以現有技術無法得到具有比母版大的面積的微細凹凸圖案，因此也就不能作為大型液晶顯示裝置的偏振片使用。制作比通用的12英寸面積大的母版時，巨大的光學系統、用于保證位置精度的高級驅動系統等的設備成為新的需要，從生產成本的觀點來看，產業上的利用價值較低。因此，提出有幾個由小的母版制作大面積的母版的方法，例如，舉例有平鋪法(夕、^法)。關于平鋪法，是用光聚合法(PhotoPolymerization法)等由小的母版制作多塊復制版，將這些復制版切成規定的形狀，并使這些復制版呈瓷磚狀并排鋪設且多面相連從而作成大面積的母版。然而，復制版的端面之間的高低差異、角度等的位置匹配、各復制版之間的接合部的樹脂的填充的控制非常不容易，由于連接處的不良狀況所引起的轉印時的高低差異(毛刺)，存在有接合部被明確地分辨這樣的問題。另外，提出有搭配利用uv轉印法和XY載物臺的分步重復法(wm、y K -j一卜法)(專利文獻I)。該分步重復法中，用XY載物臺對母版(模具)進行定位，依次進行向模具的樹脂的填充和從模具向基板的樹脂的UV轉印，通過進行多次轉印得到大面積的母版。然而，將分步重復法適用于大面積的圖案時，在向模具和基板之間的樹脂的填充過程中，樹脂從模具端面溢出，如果這些溢出的樹脂存在于相鄰的圖案之間的話，圖案間的連接精度將下降。[0008]另外，一般來說，納米壓印時的樹脂的擴散難以在模具端面進行控制，存在樹脂向模具端面的外側溢出而形成溢出樹脂的情況。如果存在這樣的溢出樹脂的話，難以使相鄰的照射部分之間(轉印區域之間)的圖案接近到所希望的距離。因此，存在制作沒有視覺辨認性的大面積的圖案較為困難這樣的問題。另外，還提出有通過利用溢出的樹脂進行再次轉印使圖案之間重疊轉印的多面相連的凹凸圖案制造方法(專利文獻2)。該凹凸圖案制造方法中，由于能夠使形成凹凸圖案的部位連續地形成，在為了抑制圖案接合部的視覺辨認性方面是比其它的方法更加適宜的方法。然而，僅通過簡單地涂布樹脂的工序難以進行邊界連續部分的高低差異的控制，因此，形成在圖案接合部沒有視覺辨認性的微細凹凸圖案是困難的。現有技術文獻專利文獻專利文獻1:美國專利第7077992號說明書專利文獻2:日本專利第4112279號公報

實用新型內容實用新型要解決的課題本實用新型是鑒于以上所述的問題點而研發的，其目的在于提供一種能夠降低微細凹凸圖案的圖案接合部的高低差異、光學特性優異的微細凹凸圖案基材。解決課題的手段本實用新型的發明人們為了解決上述課題進行了刻苦的研究，結果發現即使是通過多次的轉印而制造的微細凹凸圖案基材，通過將相鄰的微細凹凸圖案部之間的圖案接合部的高低差抑制到與微細凹凸圖案基材的凸部的高度相當，則圖案接合部的高低差不會被視覺辨認光學特性優良。本實用新型的微細凹凸圖案基材，在表面具有周期性排列的格子狀凹凸形狀，且具有至少700cm2的面積，所述格子狀凹凸形狀包括第一微細凹凸圖案部、第二微細凹凸圖案部，以及第一微細凹凸圖案部和第二微細凹凸圖案部之間的圖案接合部，凸部的間距為300nm以下，凸部的高度為IOOOnm以下。本實用新型的微細凹凸圖案基材，優選的情況為，在所述圖案接合部的50%以上的區域，所述第一微細凹凸圖案部和所述第二微細凹凸圖案部之間的圖案高低差為IOOOnm以下。本實用新型的微細凹凸圖案基材，優選的情況為，所述微細凹凸圖案基材由固化了的樹脂組成物和基底基材構成。本實用新型的模具具有上述的微細凹凸圖案基材的反轉形狀圖案。本實用新型的微細凹凸圖案基材，優選的情況為，所述微細凹凸圖案基材具有權上述的微細凹凸圖案基材的反轉形狀圖案。本實用新型的線柵偏振片包括上述的微細凹凸圖案基材，以及設置在該微細凹凸圖案基材上的金屬膜。實用新型的效果根據本實用新型能夠提供一種能夠降低微細凹凸圖案的圖案接合部分的高低差異、光學特性優異的微細凹凸圖案基材。

圖1的(a) (d)是本實用新型的實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法的第一微細凹凸圖案部的制造工序的說明圖。圖2的(a) (d)是本實用新型的實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法的第二微細凹凸圖案部的制造工序的說明圖。符號的說明101基底基材102、103樹脂組成物111第一微細凹凸圖案部112第二微細凹凸圖案部113圖案接合部201圖案母版301刮棒涂布機
具體實施方式
以下，參照附圖對本實用新型的實施形態進行詳細說明。本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材具有至少700cm2以上的面積，在表面上具有周期性地排列的格子狀凹凸形狀。微細凹凸圖案基材的格子狀凹凸形狀，通過由圖案母版的兩次的轉印而設置，包括設置于第I次的轉印區域的第一微細凹凸圖案部、設置于與第一微細凹凸圖案部相鄰的第2次的轉印區域的第二微細凹凸圖案部、以及第一微細凹凸圖案部和第二微細凹凸圖案部之間的圖案接合部。另外，微細凹凸圖案基材的格子狀凹凸形狀，凸部的間距為300nm以下，凸部的高度為IOOOnm以下。以下，對本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材的構成進行說明。(I)微細凹凸圖案基材(微細凹凸膜)本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材是通過固化樹脂組成物得到的。作為樹脂組成物，可以例舉能夠忠實地轉印微細凹凸圖案的樹脂組成物，例如，丙烯酸類、環氧類、聚氨酯類等的紫外線(UV)固化性樹脂或熱固化性樹脂等。紫外線固化性樹脂、熱固化性樹脂等的樹脂組成物被涂布在玻璃等的無機物材料或者熱塑性樹脂等的基底基材上。在作為微細凹凸圖案基材使用的樹脂組成物中，為了調整樹脂組成物的表面張力使得其與基底基材的表面張力的值接近，添加在骨架上具有親水基、極性基的單體或添加齊U。例如，在丙烯酸類紫外線固化樹脂中，為了提高親水性添加規定量的在骨架中具有羥基的單體等，組合可以任意地實施。關于本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材(微細凹凸膜)，格子狀凹凸形狀具有周期結構，只要周期的間距為300nm以下、周期的高度為IOOOnm以下，沒有特別地限定。周期結構也可以是由多個周期構成的結構。如果周期結構為在特定方向上延伸的凹凸形狀的話，能夠作為用于制作線柵偏振片的基材使用，如果是在特定方向上延伸的凹凸形狀的話，在制造微細凹凸圖案時，由于在基底基材上涂布的樹脂組成物沿著凹部擴散，樹脂的流動性變得更均一，能夠進行沒有細微偏差的涂布。另外，當接合在特定方向上延伸的凹凸形狀時，由于能夠正確地控制第一微細凹凸圖案部和第二微細凹凸圖案部各自的凹凸形狀的延伸方向所成的角度，所以能夠提高圖案接合精度。也能夠進行控制使得第一微細凹凸圖案和第二微細凹凸圖案各自的凹凸形狀的延伸方向為同一方向，通過這樣的控制，能夠得到更加難以視覺辨認的微細凹凸圖案。另外，關于本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材，由于周期結構具有在表面內的2維方向上排列的凹凸形狀，因此能夠作為帶有防反射功能的膜來使用。對于微細凹凸格子的凸部、凹部的截面形狀沒有限制，例如它們的截面形狀可以例舉為梯形、矩形、方形、三角形、柱形、錐形、棱鏡狀或半圓形等的正弦波形狀等。凸部的間距為300nm以下的話，沒有從特定方向觀察時的由衍射光引起的著色，能夠適合于實際使用。凸部的高度為IOOOnm以下的話，通過多次的轉印形成的圖案接合部難以視覺辨認，因此較為理想，為500nm以下的話，會成為大致透明的，因此更為理想，為200nm以下的話，將完全不能視覺辨認，因此最為理想。另外，本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材具有700cm2以上的面積。微細凹凸圖案基材的面積為700cm2以上的話，能夠作為A4尺寸以上的顯示器等的光學材料使用，因此利于實用。<微細凹凸圖案基材的制造方法>接著,參照圖1的(a) (d)以及圖2的(a) (d)對本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法進行詳細的說明。本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法包括以下工序:在基底基材上涂布樹脂組成物的第一涂布工序；在通過第一涂布工序涂布在基底基材上的樹脂組成物上轉印圖案母版的凹凸圖案而形成第一微細凹凸圖案部的第一轉印工序；在基底基材上的包括第一微細凹凸圖案部的一端部的區域涂布樹脂組成物的第二涂布工序；以及，在通過第二涂布工序涂布在基底基材上的樹脂組成物上轉印圖案母版的凹凸圖案而形成第二微細凹凸圖案部的第二轉印工序。首先，參照圖1的(a) (d)對第一微細凹凸圖案部的制造工序進行說明。圖1的(a) (d)是本實用新型的實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法的第一微細凹凸圖案部的制造工序的說明圖。如圖1的(a)所示，本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材設于基底基材101上。基底基材101具有設有第一微細凹凸圖案部111 (參照圖2的(d))的區域al和設有第二微細凹凸圖案部112 (參照圖2的(d))的區域a3。另外，基底基材101具有在區域al和區域a3之間設有第一微細凹凸圖案部111和第二微細凹凸圖案部112的圖案接合部113 (參照圖2的(d))的區域a2。首先，如圖1的(a)所示，在第一涂布工序中，在基底基材101表面的區域al涂布樹脂組成物102，通過刮棒涂布機301朝向基底基材101的一端側在基底基材101表面上拉伸樹脂組成物102。其結果如圖1的(b)所示，在基底基材101的區域al，樹脂組成物102的厚度變得均勻，在從樹脂組成物102的涂布端(區域al的端部)的區域a2中，樹脂組成物102因其自重而擴散，厚度變得不均勻。接著，如圖1的(C)所不,在第一轉印工序中，使基底基材101上的樹脂組成物102的區域al和區域a2附著到表面上形成有微細凹凸圖案的母版201的微細凹凸圖案形成面偵U。接著，如圖1的(d)所示，通過加熱或從基底基材101側的光照射固化樹脂組成物102形成第一微細凹凸圖案部111。在第一涂布工序中，使用相對于基底基材101浸潤性、粘著性、以及微細凹凸圖案的轉印性良好的樹脂組成物102，將未固化的樹脂組成物102在基底基材101上均勻且盡可能薄地涂布尤為重要。另外，樹脂組成物102被涂布成固化后的區域al的樹脂組成物102的厚度為5 μ m以下(參照圖1的hi)。例如，能夠通過# 2規格的刮棒涂布機301等將利用滴涂器定量涂布成直線狀的樹脂組成物102均勻地涂布。另外，在第一涂布工序中，在區域a2，被涂布在基底基材101上的樹脂組成物102通過自重擴散，從樹脂組成物102的涂布端向基底基材101的另一端樹脂組成物102的厚度減少。因此，如后述那樣，通過使基底基材101的表面張力和樹脂組成物的表面張力在適當的范圍，能夠控制涂布于基底基材101上的樹脂組成物102擴散，所以能夠降低第一微細凹凸圖案部和第二微細凹凸圖案部之間的圖案高低。如此，本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法，由于能夠降低第一微細凹凸圖案部和第二微細凹凸圖案部之間的圖案高低差，因此光學特性優良，從而能夠得到大面積的微細凹凸圖案基材。在第一轉印工序中，如圖1的(C)所示，通過將圖案母版201配置在下部，使基底基材101從上部接觸母版201，區域a2的樹脂組成物102進一步通過基材和樹脂自身的自重擴散。接著，通過之后的加熱或者光照射樹脂組成物102形成固化層。此時，區域al的樹脂組成物102的固化層和區域a2的樹脂組成物之間的邊界部無法視覺辨認。另外能夠使固化后的區域a2的端部的樹脂組成物的厚度(h2)為IOOOnm以下。首先，參照圖2的(a) 圖2的(d)對第二微細凹凸圖案部的形成進行說明。首先，如圖2的(a)所示，在第二涂布工序中，在區域a3涂布樹脂組成物103，利用刮棒涂布機301等從第一微細凹凸圖案部111的端部附近向基底基材101的另一端，與第一微細凹凸圖案部111的形成時同樣地直線狀地定量涂布樹脂組成物103。區域a3的未固化的塗布工作是利用刮棒涂布機301進行均勻涂布以使得樹脂組成物103的固化后的厚度為5 μ m以下。如圖2的(b)所示，在區域a3樹脂組成物103的厚度變得均勻。另外，在區域a2，樹脂組成物103通過自重擴散，厚度變得不均勻，并且樹脂組成物103擴散到第一微細凹凸圖案部111的端部上。這里，在區域a2，由于樹脂組成物103通過自重擴散，從樹脂組成物103的涂布端向基底基材101的一端側(第一微細凹凸圖案部111)，樹脂組成物103的量減少。即，在第二涂布工序中，相對于從第一微細凹凸圖案部111向第二微細凹凸圖案部112厚度減少的第一微細凹凸圖案部111的端部，從第二微細凹凸圖案部112向第一微細凹凸圖案部111樹脂組成物103的涂布量減少。由此，區域a2的樹脂組成物102、103的涂布量的總和與第一微細凹凸圖案部111的樹脂組成物102的涂布量以及第二微細凹凸圖案部112的樹脂組成物103的涂布量幾乎相同，因此，能夠降低第一微細凹凸圖案部111和第二微細凹凸圖案部112之間的圖案接合部113的高低差。接著，如圖2的(C)所示，通過將圖案母版201配置在下側，使基底基材101上的樹脂組成物103與圖案母版201的微細凹凸結構面接觸，區域a3的樹脂組成物103進一步通過基材和樹脂自身的自重擴散，通過之后的加熱或者光照射樹脂組成物103形成固化層。此時，樹脂組成物103的區域a2的固化層和區域a3的固化層之間的邊界部無法視覺辨認。通過以上的工序，形成固化后的區域a2端部的厚度(h3)為IOOOnm以下的第二微細凹凸圖案部112 (參照圖2的(d))。對于在特定方向延伸的凹凸形狀，作為相對于第一微細凹凸圖案部111的第二轉印工序的轉印方向，有在基底基材101平面上在與凹凸形狀的延伸方向相垂直的方向進行轉印的方法，和在凹凸形狀的延伸方向進行轉印的方法，其中優選在與凹凸形狀的延伸方向相垂直的方向進行轉印的方法。通過重復以上的第一以及第二微細凹凸圖案形成工序兩次以上，能夠得到具有700cm2以上的面積的大面積的微細凹凸圖案基材。本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法中，圖案母版201的微細凹凸圖案形狀為，凸部的高度優選為IOOOnm以下，更優選為500nm以下，最優選為200nm以下。這是為了使轉印后的第一微細凹凸圖案部和第二微細凹凸圖案部之間的圖案接合部分的圖案高低差為高度IOOOnm以下。另外，本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法中，作為圖案母版201的微細凹凸圖案形狀，例如有在特定方向上延伸的格子狀凹凸形狀、在面內具有3次對稱或者4次對稱的周期性的蛾眼型形狀等。另外，圖案母版201為具有凸部的周期為300nm以下的周期性的微細凹凸形狀。通過使凸部的周期為300nm以下，在通常視野的光的衍射不會發生，因此能夠作為光學材料適用。在此，具有周期性的圖案的延伸方向和重疊轉印的方向沒有被特別規定。在本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法中，通過高精度地控制涂布工作的涂液量，利用滴涂器以及刮棒涂布機均勻地進行薄膜涂布工作，能夠使圖案接合部113的圖案高低差基本一律為IOOOnm以下。另外，本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法中，利用定量涂布裝置被涂布成直線狀的液體因其自重而擴散，利用該擴散形成界面，因此圖案接合部113的蜿蜒較少，能夠形成視覺辨認性小的圖案接合部113。進一步，本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法中，第一微細凹凸圖案部111的形成所使用的樹脂組成物102和第二微細凹凸圖案部112的形成所使用的樹脂組成物103為相同的樹脂組成物的情況較為理想。由此，區域a2的固化后的樹脂組成物102和在第二涂布工序中涂布在固化后的樹脂組成物102上的未固化的樹脂組成物103為相同的樹脂組成物。因此，浸潤性、粘著性非常優良，能夠將通過由自重引起的擴散而展寬后的接合部的圖案接合部的高低差抑制在IOOOnm以下，基本全部的圖案接合部113的高低差與轉印的微細凹凸圖案的凸部的高度相一致。本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材中，圖案接合部的高低差在50%以上的范圍內為IOOOnm以下的情況較為理想，在90%以上的范圍內為IOOOnm以下時更為理想。特別是，本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材中，在第一微細凹凸圖案部111和第二微細凹凸圖案部112之間的圖案接合部113有高低差(接縫)的情況下，通過在由高低差產生的面上的光的反射，可以視覺辨認高低差的存在。因此，高低差的高低差越小則視覺辨認性越低，因此使圖案接合部113的高低差為IOOOnm以下的情況較為理想。另外，由圖案接合部113的高低差引起微弱的視覺辨認性的主要原因是光散射，具有與發現可見光的波長相同程度的粒徑的微粒所引起的散射主要為Mie散射，該區域的散射在粒徑與光的波長大致相等時示出較大的值。另一方面，比可見光的波長更小的微粒所引起的散射主要為瑞利散射。該區域的散射與粒徑的6次方成比例。因此，粒徑變小的話散射將急劇變小，透明性增加，可見光波長的1/4以下的粒徑能夠得到高透明性。為了降低該散射光提高圖案接合部113的透明性，使圖案接合部113的高低差為500nm以下的情況更為理想，為了特別地降低高低差的視覺辨認性，使圖案接合部113的高低差為200nm以下的情況最為理想。接著，對本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法所使用的樹脂組成物進行詳細的說明。本實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法中，為了使未固化樹脂組成物102、103在基底基材101上充分擴散、浸潤擴展，需要選擇樹脂組成物使得基底基材101的表面張力值和組成物102、103的表面張力值為接近的值。在本實用新型中，調整未固化樹脂的組成，使得涂布的樹脂組成物的固化后的表面張力的值，基于從3個溶劑(水、α-溴萘、二碘甲烷)的3種的與溶劑的接觸角通過北崎.畑理論算出的表面張力的分散力成分(非極性成分:Y a)、偶極子成分(極性成分:Yb)、氫鍵(Y C)，成為和基底基材101的表面張力值相近的值。在本實施形態中，樹脂組成物的固化后的表面張力的值(Yal、YbU Ycl)和基底基材101的表面張力(Ya2、yb2, YC2)中的分散力成分的差分為I Yal — Ya2 I< 1.4mN/m，而且，為了賦予由自重引起的擴散性，優選將表面張力值的偶極子成分(極性成分)的差分調整為I Ybl — yb2 I <2.0mN/m。為了提高基底基材101與未固化樹脂的親和性，使得涂布厚度為5μπι以下，更優選調整為I Ybl — yb2 I < 1.0mN/m，為了均勻地、無凹陷等地缺陷地涂布，最優選為使得I Ybl — Y b2 I <0.5mN/m。
為了調整涂布的樹脂組成物的表面張力，使用能夠忠實地轉印微細凹凸的丙烯酸酯類紫外線固化樹脂作為樹脂組成物。由此，既能夠維持作為納米壓印樹脂的圖案轉印性，同時也能控制與基底基材101的浸潤性。在丙烯酸酯類紫外線固化樹脂中，為了控制與基底基材101的浸潤性而使用的親水性丙烯酸單體最為優選。具體來說，優選含有以如下述一般式(I)或者下述一般式(2)所示的丙烯酸單體的聚合物作為主成分的樹脂組成物。在下述一般式(I)或者下述一般式(2)中，從粘度的觀點出發作為官能團R優選具有極性基的碳數I 碳數5的官能團。作為極性基優選從由羥基、羧基、羰基、氨基、硝基以及羧酸酯基組成的組中選擇至少I個官能團。其中，極性基優選為羥基，作為具體的化合物優選，例如，HPMA (中文:甲基丙烯酸-2-輕丙酯；英文:2_HydroxypropyIMethacryIate ；日文:2-匕F' 口今'> 7。口匕。；U夕夕'J > 一卜)、BHEA (中文:丙烯酸-2-羥基乙酯；英文:2-HydroxyethyIAcryIate ;日文:2 —匕卜''口今 '> 工 f 卟 7* 夕 ” 一卜)、HPA (中文:丙烯酸 _2_ 輕基丙酯；英文:2-HydroxypropyIAcryIate ;日文:2 — b 卜''口 # 7。口匕。卟 7* 夕丨J> 一卜)。化2通式(I)CH2=CH-COO-R通式(2)CH2=C (CH3) -COO-R本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材中，優選情況為，含有表面張力的分散力成分不同的至少兩個成分，表面張力的分散力成分最大的成分和表面張力的分散力成分最小的成分之間的表面張力的差分為1.4mN/m以下。如此，通過控制分散力成分不同的成分的表面張力，能夠將未固化樹脂極薄地涂布在基材上，通過使基材位于上側、使其與下側的母版接觸的的工序，無需在基材和模具母版之間施加多余的加壓，僅通過由基材和樹脂的自重引起的擴散力來控制涂布樹脂厚度，能夠均勻地形成與模具的凹凸圖案深度相當的高低差程度的微細凹凸圖案層。另外，本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材中，優選情況為，含有表面張力的偶極子成分不同的至少兩個成分，表面張力的偶極子成分最大的成分和表面張力的偶極子成分最小的成分之間的表面張力的差分為2mN/m以下。如此，通過控制偶極子成分不同的成分的表面張力，能夠將未固化樹脂極薄地涂布在基材上，通過使基材位于上側、使其與下側的模具母版接觸的的工序，無需在基材和模具母版之間施加多余的加壓，僅通過由基材和樹脂的自重引起的擴散力控制涂布樹脂厚度，因此，能夠均勻地形成與模具的凹凸圖案深度相當的高低差程度的微細凹凸圖案層。在本實用新型所涉及的微細凹凸圖案基材的制造方法中，除了所述第一微細凹凸圖案部111、以及第二微細凹凸圖案部112的形成之外，為了使第二微細凹凸圖案部112的另一端部(未圖示)與未固化的樹脂組成物的端部重疊，還可以進一步進行涂布工序以及轉印工序。如此，通過同樣地反復由圖案母版201的轉印，在多次轉印的轉印時無需加壓，能夠利用由未固化的樹脂組成物的自重引起的擴散，因此，能夠得到圖案接合部113的線性。因此，具有防止轉印時的加壓引起的微細凹凸圖案的損傷的產生。對于具有周期性的微細凹凸圖案的延伸方向和重疊轉印的方向沒有特別的規定，從圖案接合部113的高低差難以視覺辨認的觀點出發，大致在微細凹凸圖案的周期性不會被破壞的方向上轉印較為理想。接著，對本實用新型所涉及的模具進行說明。本實用新型所涉及的模具是將上述的微細凹凸圖案作為原型，通過進行電解電鍍等將微細凹凸圖案的反轉形狀圖案轉印而得至IJ。另外，由通過多次的轉印而面積擴大了的、具有至少一個圖案接合部的微細凹凸圖案基材制作模具，由此，能夠大量地轉印所述微細凹凸圖案基材。以下，對本實用新型所涉及的微細凹凸圖案賦予基材進行說明。本實用新型所涉及的微細凹凸圖案賦予基材是將所述微細凹凸圖案基材作為原型通過轉印反轉形狀圖案而得到的。例如，由通過多次的轉印而面積擴大了的、具有至少一個圖案接合部的微細凹凸圖案基材，制作具有反轉凹凸圖案的、以有機、無機材料為主成分的微細凹凸圖案賦予基材(模具圖案)，由此，能夠大量地復制所述微細凹凸圖案基材。通過在通過這樣的多次的轉印而形成的大面積的微細凹凸圖案形狀基材上，或者在由具有這些的反轉凹凸圖案形狀的模具等復制得到的大面積的微細凹凸圖案基材上，以直線狀形成具有反射性的金屬而得到的線柵偏振片，在正交尼科耳時不漏光，且重疊部分無視覺辨認性，能夠作為大面積反射型偏振片使用。(2)線柵偏振片接著，對使用所述實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材的線柵偏振片進行說明。本實施形態所涉及的線柵偏振片包括:具有在特定方向上延伸的格子狀凹凸形狀的上述微細凹凸圖案基材，以及被設置成與具有格子狀凹凸形狀的基材凸部的一個方向側的側面相接的、延伸到基材凸部頂部的上方的金屬膜(金屬線)。另外，本實用新型所涉及的線柵偏振片中，相對于設置于基材上的在特定方向上延伸的格子狀凹凸形狀，新制作在同一方向延伸的格子狀凹凸形狀，由此能夠擴大基材的面積，從而能夠制作具有700cm2以上的面積的線柵偏振片。另外，本實用新型所涉及的線柵偏振片能夠通過基于上述微細凹凸圖案基材制作的模具或者鑄模大量地復制，< 基材 >能夠使用所述實施形態所涉及的微細凹凸圖案基材作為基材。另外，為了體現與納米壓印樹脂的粘結性，也可以使用在單面形成易粘著層的復合基材作為基材。<金屬線>能夠使用鋁或銀等作為金屬線。另外，根據作為對象的光的波長區域，也能夠使用銅、鉬、金或者以這些金屬作為主成分的合金作為金屬線。<金屬線截面形狀>金屬線被形成為向格子狀凸部的側方以及凸部頂部的上方延伸。金屬線的高度在基材的格子狀凹凸形狀的凸部的高度的1.1倍以上10倍以下的范圍內的情況較為理想，在
1.3倍以上2.5倍以下的范圍內時能夠抑制透過光的吸收損失，因此更為理想。另外，金屬線的寬度的平均值為間距的0.2倍 0.5倍的情況較為理想，為0.3倍 0.4倍時能夠兼顧偏振特性和透過率，因此最為理想。對于金屬線沒有特別的限定，從制造成本、生產率的觀點出發，優選通過真空下的斜向蒸鍍法來設置。斜向蒸鍍法是指，在與格子狀凹凸形狀的延伸方向垂直交叉的平面內，蒸鍍源以相對于基材表面的垂直方向的入射角度α蒸鍍、層疊金屬的方法。入射角度α由格子狀凸部和制作的金屬線的截面形狀決定優選范圍。一般來說入射角度α優選為5° 40°，更為優選為10° 30°。進一步，考慮到蒸鍍中層積的金屬的投影效果，逐漸地減小或者增加入射角度α，適合于控制金屬線的高度等截面形狀。另外，由這樣的制造方法得到的格子狀凹凸形狀的延伸方向和金屬線的延伸方向相同。本實用新型所涉及的線柵偏振片中，為了達到所希望的金屬線形狀的金屬蒸鍍量由格子狀凸部的形狀而定，一般來說，平均蒸鍍厚度為50nm 150nm左右。另外，蒸鍍工序的膜進給速度在0.1m/分 IOOm/分的范圍執行。另外，在此所說的平均厚度是指，假設在平滑玻璃基板上從與玻璃面相垂直的方向蒸鍍物質時的蒸鍍物的厚度，作為金屬蒸鍍量的參考值來使用。<介電體>為了提高基材和金屬線之間的密合性，優選在兩者之間設置與兩者的密合性都較高的介電體材料。例如，可以使用硅(Si )的氧化物、氮化物、鹵化物、碳化物的單一成分或者其混合物(向介電體單一成分中混入其他元素、單一成分、或者化合物的介電體)、鋁(Al)、鉻(Cr)、釔(Y)、鋯(Zr)、鉭(Ta)、鈦(Ti)、鋇(Ba)、銦(In)、錫(Sn)、鋅(Zn)、鎂(Mg)、鈣(Ca)、鈰(Ce)、銅(Cu)等的金屬的氧化物、氮化物、鹵化物、碳化物的單一成分或者它們的混合物。只要介電體材料在需要獲得透過偏振性能的波長區域內實質上透明即可。對介電體材料的層積方法沒有特別的限制，例如，可以適當地使用真空蒸鍍法、噴鍍法、離子鍍敷法等物理蒸鍍法。另外，層疊工序的膜進給速度在0.1m/分 IOOm/分的范圍執行。〈刻蝕工序〉從光學特性的觀點出發，根據需要可以通過刻蝕去除在格子狀凹凸形狀的凹部底部上層疊的金屬。對于刻蝕方法沒有特別的限制，只要是不會給基材、介電體層帶來不良影響、能夠去除必要量的金屬的方法即可，從生產率、裝置成本的觀點出發，優選浸潰到酸或者堿的水溶液中的刻蝕方法。<光學特性>在相對于格子狀凹凸形狀的延伸方向垂直的截面內，對于與微細凹凸圖案基材表面垂直的方向(凸部的立設方向)，分別從左右對稱方向入射的光的光線透過率的差的容許值雖然根據使用的制品有所不同，但是在使用于圖像顯示裝置的情況下，如果對于作為對象的波長為4%以下的話，則難以識別該偏差，可以說是足夠了。對于在與格子狀凹凸形狀的延伸方向垂直的面內的基材面的垂直方向，分別從左右的對稱方向入射的光的光線透過率的差優選為對于可見光區域的同一波長為4%以下，更優選為2%以下。另外，金屬線僅存在于基材的格子狀凹凸形狀的凸部的一個方向側的側面也是重要的。(實施例)接著，為了明確本實用新型的效果，對進行過的實施例進行詳細說明。另外，本實用新型并不被以下的實施例所限定。〈樹脂組成物〉配合32質量％的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)作為為三官能以上的丙烯酸酯化合物的單體，32質量％的N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)作為為N-乙烯基化合物的單體，33質量％的I，9-壬二醇二丙烯酸酯作為其他單體，2質量％的2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(DAR0CURTP0、CibaSpecialtyChemicals公司制)作為光聚合引發劑，以及I質量％的硅二丙烯酸酯作為含有丙烯酸基的硅化合物，過濾異物，調合為光固化性樹月旨(樹脂組成物I)。向樹脂組成物I照射規定量的光進行光固化，樹脂組成物I的固化物中雖然含有微量的不純物，但99質量％以上為由通過光固化反應結合而成為固體的成分組成的光固化性樹脂。對于該光固化性樹脂(樹脂組成物1)，配合10重量％的甲基丙烯酸羥基乙酯(英文:hydroxyethylmethacrylate ;日文:F 口 #'>工子卟J夕夕L- 一卜)作為樹脂組成物2，配合50質量％的甲基丙烯酸羥基乙酯作為樹脂組成物3。向樹脂組成物2照射規定的量的光的樹脂組成物2的固化物，以依據JISK-5600-5-6的棋盤格剝離試驗顯示了分類I以上的基材附著性。另外，使用環氧類紫外線固化性樹脂(TESK公司制、A-1771)作為樹脂組成物4。< 基材 >將易粘著PET膜(東洋紡織公司制、A4100)的PET易粘著面作為基材I使用，將該易粘著PET膜的未處理面作為基材2使用。將三乙酰纖維素膜(富士膠片公司制、7
夕TD80UL)作為基材3使用，聚碳酸酯膜(帝人化成公司制、” ' 卜D-92)作為基材4使用。關于樹脂組成物I 樹脂組成物4的固化物以及基材I 基材4，利用自動接觸角儀(協和界面科學公司制、CA-VE)測量相對于3個溶劑(水、α -溴萘、二碘甲烷)的接觸角。基于相對于各溶劑的接觸角的值，利用整合分析軟件(協和界面科學公司制、FAMAS)的北崎.畑理論式算出固體的表面張力中的分散力成分、偶極子成分、氫鍵成分的值。結果在下述表I中示出。表I
權利要求1.一種微細凹凸圖案基材，其特征在于，在表面具有周期性排列的格子狀凹凸形狀，且具有至少700cm2的面積，所述格子狀凹凸形狀包括第一微細凹凸圖案部、第二微細凹凸圖案部，以及第一微細凹凸圖案部和第二微細凹凸圖案部之間的圖案接合部，凸部的間距為300nm以下，凸部的高度為IOOOnm以下。
2.如權利要求1所述的微細凹凸圖案基材，其特征在于，在所述圖案接合部的50%以上的區域，所述第一微細凹凸圖案部和所述第二微細凹凸圖案部之間的圖案高低差為IOOOnm以下。
3.如權利要求1或2所述的微細凹凸圖案基材，其特征在于，所述微細凹凸圖案基材由固化了的樹脂組成物和基底基材構成。
4.一種模具，其特征在于，所述模具具有權利要求1至3中任一項所述的微細凹凸圖案基材的反轉形狀圖案。
5.一種微細凹凸圖案基材，其特征在于，所述微細凹凸圖案基材具有權利要求1至4中任一項所述的微細凹凸圖案基材的反轉形狀圖案。
6.一種線柵偏振片，其特征在于，包括如權利要求1至5中任一項所述的微細凹凸圖案基材，以及設置在該微細凹凸圖案基材上的金屬膜。
專利摘要本實用新型提供一種能夠降低微細凹凸圖案的接合部分的高低差、光學特性優異的微細凹凸圖案基材，由該微細凹凸圖案基材轉印得到的模具，以及包括該微細凹凸圖案基材的線柵偏振片。本實用新型的微細凹凸圖案基材，在表面具有周期性排列的格子狀凹凸形狀，且具有至少700cm2的面積，所述格子狀凹凸形狀包括第一微細凹凸圖案部(111)、第二微細凹凸圖案部(112)、以及第一微細凹凸圖案部(111)和第二微細凹凸圖案部(112)之間的圖案接合部(113)，凸部的間距為300nm以下，凸部的高度為1000nm以下。
文檔編號G02B5/30GK203012350SQ20122023511
公開日2013年6月19日 申請日期2012年5月21日 優先權日2012年5月21日
發明者河津泰幸, 吉岡邦久, 木下大輔, 佐藤祐輔 申請人:旭化成電子材料株式會社