一種密接型曝光裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種密接型曝光裝置，包括固定架和微型液壓系統；所述固定架包括上底板、下底板、固定桿和掩膜基片載板，所述固定桿對稱設置有兩根，所述固定桿支撐在所述上底板和下底板之間，所述上底板中心位置處設置有上底板曝光通光孔，所述掩膜基片載板中心位置處設置有掩膜基片載板曝光通光孔，所述掩膜基片載板設置在所述固定桿上，并且位于所述上底板的下方；所述微型液壓系統包括手動液壓泵和微型液壓缸，所述手動液壓泵和微型液壓缸之間連接有液壓膠管，所述微型液壓缸固定在所述下底板上，所述微型液壓缸中部包括有一個支撐平板型光刻膠基片用的液壓活塞平臺；本實用新型適用于密接型光刻場合，結構簡單，功能完善，性價比高。
【專利說明】一種密接型曝光裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種密接型曝光裝置，具體地說是一種適用于平板型掩膜基片和平板型光刻膠基片密接的曝光裝置。
【背景技術】
[0002]投影光刻是目前光學光刻中的一個重要技術手段，能方便地用于掩膜結構轉移，即通過投影的方式將掩膜圖案曝光在涂有光刻膠的基片上，然后再進行顯影、刻蝕等操作，完成掩膜轉移、復制，該方法在半導體加工業中得到了廣泛地應用。一般情況下，通常要求掩膜基片與光刻膠基片緊密接觸，目前使用較多的是將兩者之間抽成真空狀態而使其密接的真空負壓方法。一方面，該方法需要真空泵，密封裝置等，結構相對復雜，成本較高?’另一方面，掩膜基片與光刻膠基片的密接程度受大氣壓、基片尺寸及真空泵的制約，密接程度存在限制，無法有效用于一些密接程度要求較高的場合，如近場光刻。

【發明內容】

[0003]本實用新型要解決的技術問題是提供一種密接程度可調、使用簡便的適用于平板型掩膜基片和平板型光刻膠基片密接的密接型曝光裝置。
[0004]為解決上述問題，本實用新型采用如下技術方案:
[0005]一種密接型曝光裝置，包括固定架和微型液壓系統；所述固定架包括上底板、下底板、固定桿和掩膜基片 載板，所述固定桿對稱設置有兩根，所述固定桿支撐在所述上底板和下底板之間，所述上底板中心位置處設置有上底板曝光通光孔，所述掩膜基片載板中心位置處設置有掩膜基片載板曝光通光孔，所述掩膜基片載板設置在所述固定桿上，并且位于所述上底板的下方，所述掩膜基片載板與所述上底板之間留有夾設平板型掩膜基片用的間隙；所述微型液壓系統包括手動液壓泵和微型液壓缸，所述手動液壓泵和微型液壓缸之間連接有液壓膠管，所述微型液壓缸固定在所述下底板上，所述微型液壓缸中部包括有一個支撐平板型光刻膠基片用的液壓活塞平臺。
[0006]作為優選的技術方案，所述手動液壓泵連接有壓力表。
[0007]作為優選的技術方案，所述平板型光刻膠基片設置在所述平板型掩膜基片的正下方，并且所述平板型光刻膠基片與掩膜基片載板曝光通光孔相對。
[0008]本實用新型的有益效果是:本實用新型將微型液壓系統用于掩膜基片與光刻膠基片的密接程度控制，在定標的基礎上，兩者的密接程度可由壓力表直接得出，且在基片的應力承受范圍之內，對兩者的密接程度沒有限制，操作簡單便捷、省時省事。本實用新型適用于密接型光刻場合，結構簡單，功能完善，性價比高。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0010]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0011]圖中附圖標記:
[0012]1、上底板；2、上底板曝光通光孔；3、平板型掩膜基片；4、掩膜基片載板；5、掩膜基片載板曝光通光孔；6、平板型光刻膠基片；7、液壓活塞平臺；8、微型液壓缸；9、固定桿；10、下底板；11、液壓膠管；12、壓力表；13、手動液壓泵。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖對本實用新型的優選實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
[0014]參閱圖1所示的一種密接型曝光裝置，包括固定架和微型液壓系統；所述固定架包括上底板、下底板、固定桿和掩膜基片載板，所述固定桿對稱設置有兩根，所述固定桿支撐在所述上底板和下底板之間，所述上底板中心位置處設置有上底板曝光通光孔，所述掩膜基片載板中心位置處設置有掩膜基片載板曝光通光孔，所述掩膜基片載板設置在所述固定桿上，并且位于所述上底板的下方，所述掩膜基片載板與所述上底板之間留有夾設平板型掩膜基片用的間隙；所述微型液壓系統包括手動液壓泵和微型液壓缸，所述手動液壓泵和微型液壓缸之間連接有液壓膠管，所述微型液壓缸固定在所述下底板上，所述微型液壓缸中部包括有一個支撐平板型光刻膠基片用的液壓活塞平臺。
[0015]本實用新型中一個較佳的實施例，所述手動液壓泵連接有壓力表。
[0016]本實用新型中一個較佳的實施例，所述平板型光刻膠基片設置在所述平板型掩膜基片的正下方，并且所述平板型光刻膠基片與掩膜基片載板曝光通光孔相對。
[0017]本實用新型的【具體實施方式】:使用時，先將平板型掩膜基片3置于掩膜基片載板4上，再將平板型光刻膠基片6置于液壓活塞平臺7上，然后通過手動液壓泵13使液壓活塞平臺7上升，直至平板型掩膜基片3和平板型光刻膠基片6緊密接觸，完成密封。
[0018]本實用新型的有益效果是:本實用新型將微型液壓系統用于掩膜基片與光刻膠基片的密接程度控制，在定標的基礎上，兩者的密接程度可由壓力表直接得出，且在基片的應力承受范圍之內，對兩者的密接程度沒有限制，操作簡單便捷、省時省事。本實用新型適用于密接型光刻場合，結構簡單，功能完善，性價比高。
[0019]以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等同物界定。
【權利要求】
1.一種密接型曝光裝置，其特征在于:包括固定架和微型液壓系統；所述固定架包括上底板、下底板、固定桿和掩膜基片載板，所述固定桿對稱設置有兩根，所述固定桿支撐在所述上底板和下底板之間，所述上底板中心位置處設置有上底板曝光通光孔，所述掩膜基片載板中心位置處設置有掩膜基片載板曝光通光孔，所述掩膜基片載板設置在所述固定桿上，并且位于所述上底板的下方，所述掩膜基片載板與所述上底板之間留有夾設平板型掩膜基片用的間隙；所述微型液壓系統包括手動液壓泵和微型液壓缸，所述手動液壓泵和微型液壓缸之間連接有液壓膠管，所述微型液壓缸固定在所述下底板上，所述微型液壓缸中部包括有一個支撐平板型光刻膠基片用的液壓活塞平臺。
2.根據權利要求1所述的密接型曝光裝置，其特征在于:所述手動液壓泵連接有壓力表。
3.根據權利要求1所述的密接型曝光裝置，其特征在于:所述平板型光刻膠基片設置在所述平板型掩膜基片的正下方，并且所述平板型光刻膠基片與掩膜基片載板曝光通光孔相對。
【文檔編號】G03F7/20GK203825366SQ201420236380
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2014年5月9日 優先權日:2014年5月9日
【發明者】許富洋 申請人:浙江師范大學