本發明涉及一種鍍膜玻璃，具體涉及一種高紅外反射電致變色玻璃及其制備方法。
背景技術：
鍍膜玻璃具有節能減排及裝飾幕墻的雙重功效，推出市場后，深受人們喜愛，Low-E玻璃也叫做低輻射鍍膜玻璃，傳統的LOW-E玻璃，裝上墻后可見光及紅外的透過率及反射率均固定，無法再改變，被稱之為被動節能；而目前電致變色玻璃，雖然能主動節能，但其對紅外的反射不論是著色成還是褪色態都不明顯。
技術實現要素：
本發明的一種高紅外反射電致變色玻璃，采用主動節能與被動節能相復合，產品全波段透過率可調，具有高紅外反射效果。
本發明另一目的是提供一種高紅外反射電致變色玻璃的制備方法。
本發明是通過以下技術方案實現的：
一種高紅外反射電致變色玻璃，包括第一玻璃基板和第二玻璃基板，所述第一玻璃基板和第二玻璃基板間設有電解質層，所述第一玻璃基板包括第一基板和依次設于所述第一基板和電解質層間的ITO層和WO3層。
優選的，第二玻璃基板包括第二基板和依次設于所述第二基板和電解質層間的ITO層、AZO層、Ag層和NiO層。
優選的，所述ITO層膜厚120～135nm，方阻<15歐。
優選的，所述WO3層膜厚500～600nm。
優選的，所述電解質層電導率>10-6μs/cm。
優選的，所述NiO層膜厚50～100nm。
優選的，所述Ag層膜厚8～12nm。
優選的，所述AZO層膜厚300～400nm。
優選的，所述第一基板和第二基板均為厚度4～8mm的浮法玻璃。
一種制備高紅外反射電致變色玻璃的方法，包括以下步驟：
1、磁控濺射第一ITO層，用交流電源、Ar氣作為保護氣體，磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar氣流量800SCCM；
2、磁控濺射WO3層，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護氣體，磁控濺射鎢靶，氬氧流量比為400～425SCCM:600～630SCCM；
3、制備電解質層，將PVB、鋰鹽、助劑按重量比60～70：10～20：10～30擠出流延制成，其中鋰鹽為高氯酸鋰、鉭酸鋰等的混合物，其它助劑為注塑劑、抗氧化劑、紫外吸光劑、穩定劑；
4、磁控濺射NiO層，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護氣體，磁控濺射鎢鎳靶W：Ni＝8：92(wt％)，氬氧流量比為380～400SCCM:600～625SCCM；
5、磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用Ar氣作為保護氣體，氣體流量500～550SCCM；
6、制備AZO層，鋁摻雜的氧化鋅層；
7、磁控濺射第二ITO層，用交流電源、Ar氣作為保護氣體，磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar氣流量800SCCM；
8、合片，由第一基板11、第一ITO層12和WO3層13組成第一玻璃基板1，由第二基板21、第二ITO層22、AZO層23、Ag層24、NiO層25組成第二玻璃基板2，第一玻璃基板1、電解質層3與第二玻璃基板2通過高壓釜進行合片，制備得高紅外反射電致變色玻璃。
一種裝配有所述雙色防透明擴散板支架的電視機。
與現有技術相比，本發明具有如下優點：
1、本發明的高紅外反射電致變色玻璃，氧化銦錫膜層具有透明導電功能，且抗化學性能穩定，可有效對紅外進行反射同時，可起到保護功能膜層的作用，具有LOW-E玻璃高紅外反射的被動節能效果；
2、本發明的高紅外反射電致變色玻璃，具有電致變色的主動節能效果，對紅外線反射率達到80％以上；
3、本發明的高紅外反射電致變色玻璃，可與智能家居互聯，通過控制電路實現智能控制；
4、本發明的高紅外反射電致變色玻璃制備方法，功能膜層依次沉積在玻璃基片上，膜層具有耐候性和耐腐蝕性能優秀、輻射率低、表面電阻小、均勻性好、結合力強的優點。
【附圖說明】
圖1是本發明結構示意圖。
【具體實施方式】
如附圖1所示的一種高紅外反射電致變色玻璃，包括第一玻璃基板1和第二玻璃基板2，所述第一玻璃基板1和第二玻璃基板2間設有電解質層3，所述第一玻璃基板1包括第一基板11和依次設于所述第一基板11和電解質層3間的ITO層12和WO3層13。本發明的玻璃單元由兩塊不同的玻璃基板及電解質層復合而成，每邊的玻璃基板均由多個膜層構成，其中第一玻璃基板上復合有ITO層和WO3層，以實現被動節能的效果。
第二玻璃基板2包括第二基板21和依次設于所述第二基板21和電解質層3間的第二ITO層22、AZO層23、Ag層24和NiO層25。第二玻璃基板上復合有第二ITO層、AZO層、Ag層和NiO層，結合電解質層以實現電致變色的主動節能效果。
所述第一ITO層12膜厚120～135nm，方阻<15歐。交流電源磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，制備第一ITO層膜，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量800SCCM，膜厚120～135nm，優選為125nm，1m＝109nm。
所述WO3層13膜厚500～600nm。交流電源磁控濺射鎢靶，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量控制在400～425SCCM:600～630SCCM，膜厚500-600nm，優選為550nm。
所述電解質層3電導率>10-6μs/cm。電解質層由PVB-Li構成，金屬鋰以離子態存在，將PVB、鋰鹽(高氯酸鋰、鉭酸鋰等)、助劑(注塑劑、抗氧化劑、紫外吸光劑、穩定劑)按重量比60～70：10～20：10～30擠出流延制得導電PVB，其電導率>10-6μs/cm。
所述NiO層25膜厚50～100nm。采用交流電源磁控濺射鎢鎳靶W：Ni＝8:92，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量控制在380～400SCCM:600～625SCCM，膜厚50-100nm，優選為100nm。
所述Ag層24膜厚8～12nm。直流電源濺射，用Ar作為濺射氣體氣體流量500～550SCCM，膜厚8～12nm，優選為8nm。
所述AZO層23膜厚300～400nm。采用鋁摻雜的氧化鋅層，作為保護層，可進一步降低輻射率。
所述第一基板11和第二基板12均為厚度4～8mm的浮法玻璃。優選的第一基板和第二基板均選擇6mm的浮法玻。
一種制備高紅外反射電致變色玻璃的方法，包括以下步驟：
1)、磁控濺射第一ITO層12，用交流電源、Ar氣作為保護氣體，磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar氣流量800SCCM；
2)、磁控濺射WO3層13，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護氣體，磁控濺射鎢靶，氬氧流量比為400～425SCCM:600～630SCCM；
3)、制備電解質層3，將PVB、鋰鹽、其它助劑按重量比60～70：10～20：10～30擠出流延制成；
4)、磁控濺射NiO層25，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護氣體，磁控濺射鎢鎳靶W：Ni＝8：92(wt％)，氬氧流量比為380～400SCCM:600～625SCCM；
5)、磁控濺射Ag層24，直流電源濺射，用Ar氣作為保護氣體，氣體流量500～550SCCM；
6)、制備AZO層23，鋁摻雜的氧化鋅層；
7)、磁控濺射第二ITO層12，用交流電源、Ar氣作為保護氣體，磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar氣流量800SCCM；
8)、合片，由第一基板11、第一ITO層12和WO3層13組成第一玻璃基板1，由第二基板21、第二ITO層22、AZO層23、Ag層24、NiO層25組成第二玻璃基板2，第一玻璃基板1、電解質層3與第二玻璃基板2通過高壓釜進行合片，制備得高紅外反射電致變色玻璃。功能膜層依次沉積在玻璃基片上，膜層具有耐候性和耐腐蝕性能優秀、輻射率低、表面電阻小、均勻性好、結合力強的優點。