1.一種曝光設(shè)備，其特征在于，包括一掩膜板(110)、設(shè)于所述掩膜板(110)左側(cè)下方的第一平臺(121)、設(shè)于所述掩膜板(110)右側(cè)下方的第二平臺(122)、設(shè)于所述掩膜板(110)右側(cè)上方的第一光源(131)、及設(shè)于所述掩膜板(110)左側(cè)上方的第二光源(132)；
所述第一平臺(121)、第二平臺(122)均用于承載基板(200)；
所述第一光源(131)射出的光線穿過所述掩膜板(110)射到所述第一平臺(121)；
所述第二光源(132)射出的光線穿過所述掩膜板(110)射到所述第二平臺(122)。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述掩膜板(110)為水平設(shè)置；所述第一平臺(121)、第二平臺(122)均為相對水平面傾斜設(shè)置；
所述第一平臺(121)的上表面面向第一光源(131)，所述第二平臺(122)的上表面面向第二光源(132)。
3.如權(quán)利要求2所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述第一光源(131)與第二光源(132)射出的光線均為平行光線；
所述第一光源(131)射出的光線從所述掩膜板(110)的上方傾斜射到所述掩膜板(110)的上表面，穿過所述掩膜板(110)垂直射到所述第一平臺(121)；
所述第二光源(132)射出的光線從所述掩膜板(110)的上方傾斜射到所述掩膜板(110)的上表面，穿過所述掩膜板(110)垂直射到所述第二平臺(122)。
4.如權(quán)利要求3所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述第一平臺(121)與第二平臺(122)為左右對稱設(shè)置；所述第一光源(131)與第二光源(132)為左右對稱設(shè)置；
所述第一光源(131)射出的光線從所述掩膜板(110)的上方以入射角為θ1入射到所述掩膜板(110)的上表面，所述第二光源(132)射出的光線從所述掩膜板(110)的上方以入射角為θ2入射到所述掩膜板(110)的上表面，其中，θ1等于θ2。
5.如權(quán)利要求1所述的曝光設(shè)備，其特征在于，還包括容納所述掩膜板(110)、第一平臺(121)、第二平臺(122)、第一光源(131)、及第二光源(132)的曝光腔。
6.一種曝光方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟1、提供曝光設(shè)備、及兩個基板(200)，所述曝光設(shè)備包括一掩膜板(110)、設(shè)于所述掩膜板(110)左側(cè)下方的第一平臺(121)、設(shè)于所述掩膜板(110)右側(cè)下方的第二平臺(122)、設(shè)于所述掩膜板(110)右側(cè)上方的第一光源(131)、及設(shè)于所述掩膜板(110)左側(cè)上方的第二光源(132)；將兩個基板(200)分別放置于第一平臺(121)、第二平臺(122)上；
步驟2、開啟第一光源(131)與第二光源(132)，所述第一光源(131)射出的光線穿過所述掩膜板(110)射到放置于所述第一平臺(121)上的基板(200)上；所述第二光源(132)射出的光線穿過所述掩膜板(110)射到放置于所述第二平臺(122)上的基板(200)上。
7.如權(quán)利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述掩膜板(110)為水平設(shè)置；所述第一平臺(121)、第二平臺(122)均為相對水平面傾斜設(shè)置；
所述第一平臺(121)的上表面面向第一光源(131)，所述第二平臺(122)的上表面面向第二光源(132)。
8.如權(quán)利要求7所述的曝光方法，其特征在于，所述步驟2中，所述第一光源(131)與第二光源(132)射出的光線均為平行光線；
所述第一光源(131)射出的光線從所述掩膜板(110)的上方傾斜射到所述掩膜板(110)的上表面，穿過所述掩膜板(110)垂直射到放置于所述第一平臺(121)上的基板(200)上；
所述第二光源(132)射出的光線從所述掩膜板(110)的上方傾斜射到所述掩膜板(110)的上表面，穿過所述掩膜板(110)垂直射到放置于所述第二平臺(122)上的基板(200)上。
9.如權(quán)利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述第一平臺(121)與第二平臺(122)為左右對稱設(shè)置；所述第一光源(131)與第二光源(132)為左右對稱設(shè)置；
所述步驟2中，所述第一光源(131)射出的光線從所述掩膜板(110)的上方以入射角為θ1入射到所述掩膜板(110)的上表面，所述第二光源(132)射出的光線從所述掩膜板(110)的上方以入射角為θ2入射到所述掩膜板(110)的上表面，其中，θ1等于θ2。
10.如權(quán)利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光設(shè)備還包括容納所述掩膜板(110)、第一平臺(121)、第二平臺(122)、第一光源(131)、及第二光源(132)的曝光腔。