技術總結
本發明提供一種曝光設備及曝光方法。本發明的曝光設備包括一掩膜板、設于所述掩膜板左側下方的第一平臺、設于所述掩膜板右側下方的第二平臺、設于所述掩膜板右側上方的第一光源、及設于所述掩膜板左側上方的第二光源；所述第一平臺、第二平臺均用于承載基板；所述第一光源射出的光線穿過所述掩膜板射到所述第一平臺；所述第二光源射出的光線穿過所述掩膜板射到所述第二平臺；由于該曝光設備具有兩個光源，使用該曝光設備進行曝光時，通過合理設置光路，便能夠達到一個曝光腔內用一張掩膜板同時曝光兩塊基板的目的，從而能夠提高產能，節省掩膜板。

技術研發人員：朱美娜
受保護的技術使用者：武漢華星光電技術有限公司
文檔號碼：201611179593
技術研發日：2016.12.19
技術公布日：2017.03.22