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雙面膜曝光對位結構的制作方法

文檔序號:11006880閱讀:353來源:國知局
雙面膜曝光對位結構的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及柔性電子產品應用技術領域,尤其是雙面膜曝光對位結構,具有一曝光工位,該曝光工位可實現上下面曝光;在曝光工位上設有基座平臺單元、可以對位移動單元、裝載下鉻版單元、可以對位和上下移動單元、上下鉻版間距檢測的激光探頭和基于圖像原理的攝像機?;趫D像原理對位,視覺效果佳,可快速、準確的實現上鉻版與基材的靶標檢測對準;且設有上下鉻版間距檢測的激光探頭,通過激光檢測上鉻版重復到位的距離,從而保證基材在上下鉻版間距一致性,在平行UV光均勻照射下,對鉻版下的干膜進行曝光,顯影后的基材才能精確的電子圖案,從而避免或減少圖形曝光不均勻,提升工作效率及工作質量。
【專利說明】
雙面膜曝光對位結構
技術領域
[0001]本實用新型涉及將薄膜覆于ITO Film和金屬軟膜表面,通過曝光、顯影和蝕刻制作軟膜電路,廣泛應用觸摸屏Senser、精密FPC和軟性電池等柔性電子產品應用技術領域,尤其是雙面柔性電子線路曝光對位結構。
【背景技術】
[0002]近年來,隨著材料等基礎產業的技術進步,使電路的設計和生產技術獲得了較大發展,各種新的設計理念得到了廣泛的應用和推廣,電子產品的市場趨勢皆走向追求輕薄化,使用電路的基材由傳統的玻璃、硅晶圓轉向薄化玻璃、金屬箔與塑膠基板等軟性材料取代,亦即現在泛稱的軟性電子(或可撓式電子)。工藝設備由于應軟性材料的不同,需要導入卷對卷(RTR )的傳輸設備,制作電子線路具有配線密度高、重量輕、厚度薄的特點。在雙面電路板在生產時,需要采用覆膜機將干膜貼合在導電基材表面,然后經紫外光對MASK照射曝光后,見光的干膜分解,在堿性顯液中溶解,導電基材表面留下與MASK—樣的圖案,然后用蝕刻液噴淋導電基材,沒有干膜保護的導電層被蝕刻,再除去基材上的殘留干膜,使導電電路裸露出來,這是制作電路過程。干膜曝光技術中,曝光定位極大影響曝光質量,尤其是雙面電子線路的曝光,現有的曝光定位主要是采用單面曝光和兩次定位進行制作,在實際操作中由于軟膜基材具有伸縮性,存在兩次定位不準的問題;再者,現有曝光設備,曝光對位的單片式工作,無法進行卷對卷工作模式,生產效率低,難免出現圖形曝光不均勻。造成兩面電子線路的工作時抗干擾能力差,工作效率低,不良率高。

【發明內容】

[0003]本實用新型的目的在于克服現有技術的缺陷,提供一種雙面膜曝光對位結構,基于圖像原理對位,定位快捷、準確,且曝光合模的行程可根據基材上下面覆膜距離調整,精度高,提升工作效率及工作質量。
[0004]為達到上述目的,本實用新型采用如下技術方案:
[0005]雙面膜曝光對位結構,該結構具有一曝光工位,該曝光工位可實現上下面曝光;在曝光工位上設有基座平臺單元、可以對位移動單元、裝載下鉻版單元、可以對位和上下移動單元、上下鉻版間距檢測的激光探頭和基于圖像原理的攝像機,其中:
[0006]所述基座平臺單元設置四個第一XY平臺,分布在基座平臺單元的四個角落,其中三個第一XY平臺由第一電機驅動,以便與基材靶標對位;
[0007]所述可以對位移動單元鋪設在四個第一XY平臺上面,可以對位移動單元上設置四個第二XY平臺,四個第二XY平臺分布在可以對位移動單元的四個角落,其中三個第二XY平臺由第二電機驅動,以便與上面鉻版的靶標對位;所述可以對位移動單元四個角落還鋪設四根升降絲桿,升降絲桿與第三電機連接,其中前面兩根升降絲桿中間鋪設四排滾珠軸承;
[0008]所述裝載下鉻版單元鋪設在四個第二XY平臺上面,裝載下鉻版單元上鋪設裝載下鉻版抽格,裝載下鉻版抽格上面安裝下鉻版,在下鉻版單元的后面設置有兩個限位;
[0009]所述可以對位和上下移動單元懸掛在四根升降絲桿的中間,跟隨第三電機上下移動,可以對位和上下移動單元下面設置裝載上鉻版抽格,裝載上鉻版抽格下面安裝上鉻版;可以對位和上下移動單元上面的前后邊上設置四個激光探頭,激光探頭由氣缸驅動;可以對位和上下移動單元上面左右側邊上設置四個攝像機,攝像機由第四電機控制伸出長度,抓取基材的靶標和上鉻版的靶標進行比較對位。
[0010]攝像機獲取組裝到曝光工位的上鉻版和基材的靶標圖像后傳送到電腦上,對位系統根據上鉻版和基材的靶標圖像位置,驅動對位移動單元的三個電機,使上鉻版和基材的靶標重新對準;激光探頭檢測兩塊鉻版上下之間的距離。
[0011]本實用新型基于圖像原理對位,視覺效果佳,可快速、準確的實現上鉻版與基材的靶標檢測對準;且設有上下鉻版間距檢測的激光探頭,通過激光檢測上鉻版重復到位的距離,從而保證基材在上下鉻版間距一致性,在平行UV光均勻照射下,對鉻版下的干膜進行曝光,顯影后的基材才能精確的電子圖案,從而避免或減少圖形曝光不均勻,提升工作效率及工作質量。
[0012]【附圖說明】
:
[0013]附圖1為本實用新型較佳實施例結構示意圖;
[00M]附圖2為圖1實施例立體示意圖。
[0015]【具體實施方式】:
[0016]以下將結合附圖對本實用新型的構思、具體結構及產生的技術效果作進一步說明,以充分地了解本實用新型的目的、特征和效果。
[0017]參閱圖1所示,系本實用新型的較佳實施例示意圖,本實用新型有關一種雙面膜曝光對位結構,該結構具有一曝光工位100,該曝光工位100可實現上下面曝光,為此還配有相應機械結構,滿足鉻版安裝及對位移動調整等。圖1、2所示,在曝光工位100上設有基座平臺單元1、可以對位移動單元2、裝載下鉻版單元3、可以對位和上下移動單元4、上下鉻版間距檢測的激光探頭5和基于圖像原理的攝像機6。所述基座平臺單元I設置四個第一 XY平臺11,分布在基座平臺單元I的四個角落,其中三個第一 XY平臺11由第一電機12驅動,以便與基材靶標對位。所述可以對位移動單元2鋪設在四個第一 XY平臺11上面,可以對位移動單元2上設置四個第二XY平臺21,四個第二XY平臺21分布在可以對位移動單元2的四個角落,其中三個第二XY平臺21由第二電機22驅動,以便與上面鉻版的靶標對位。所述可以對位移動單元2四個角落還鋪設四根升降絲桿23,升降絲桿23與第三電機44連接,其中前面兩根升降絲桿23中間鋪設四排滾珠軸承41。所述裝載下鉻版單元3鋪設在四個第二 XY平臺21上面,裝載下鉻版單元3上鋪設裝載下鉻版抽格32,裝載下鉻版抽格32上面安裝下鉻版33,在下鉻版單元3的后面設置有兩個限位31。所述可以對位和上下移動單元4懸掛在四根升降絲桿23的中間,跟隨第三電機44上下移動,可以對位和上下移動單元4下面設置裝載上鉻版抽格42,裝載上鉻版抽格42下面安裝上鉻版43;可以對位和上下移動單元4上面的前后邊上設置四個激光探頭5,激光探頭5由氣缸51驅動,對上下鉻版間距檢測。可以對位和上下移動單元4上面左右側邊上設置四個攝像機6,攝像機6由第四電機61控制伸出長度,抓取基材的靶標和上鉻版的靶標進行比較對位。
[0018]本實例中,雙面膜曝光對位上下鉻版對位、上鉻版上升后復位和上鉻版與基材的對位三個步驟進行調機對位,生產時重復后面二個步驟,進行卷對卷對位曝光作業。
[0019]本實例中,雙面膜曝光對位分上下鉻版對位過程:拉出裝載下鉻版抽格32,在裝載下鉻版抽格32上面安裝下鉻版33,然后推進裝載下鉻版抽格32到后面兩個限位31固定;再拉出裝載上鉻版抽格42,在裝載上鉻版抽格42下面安裝上鉻版43,然后推進裝載上鉻版抽格32,用四個限位45固定;第四電機61驅動攝像機6進入上鉻版43上面,對準上鉻版43和下鉻版33的靶標,以上鉻版43的靶標為基準,驅動三個第二電機22進行X、Y和轉角對位,直到上下鉻版的靶標重合在一起。
[0020]本實例中,雙面膜曝光對上鉻版上升后復位過程:雙面曝光后,可以對位和上下移動單元4由四個第三電機44帶動上升,由傳動機構更換另一幀基材,可以對位和上下移動單元4由四個第三電機44帶動下降,激光探頭5進行上下鉻版間距檢測,在達上下鉻版設定間距時第三電機44停止驅動,從而使上下鉻版的間距保持一致性。
[0021]本實例中,上鉻版與基材的對位過程:當可以對位和上下移動單元4下降到位后,第四電機61驅動攝像機6進入上鉻版43上面,對準上鉻版43和基材的靶標,以基材的靶標為基準,驅動三個第一電機12進行X、Y和轉角對位,直到上鉻版和基材的靶標重合在一起,實現多層電子線路圖案的套合制作。
[0022]以上結合實施方式對本實用新型做了詳細說明,只為說明本實用新型的技術構思及特點,其目的在于讓熟悉此項技術的人了解本實用新型的內容并加以實施,并不能以此限定本實用新型的保護范圍,故凡根據本實用新型精神實質所做的等效變化或修飾,都應涵蓋在本實用新型的保護范圍內。
【主權項】
1.雙面膜曝光對位結構,該結構具有一曝光工位(100),該曝光工位(100)可實現上下面曝光;在曝光工位(100)上設有基座平臺單元(1)、可以對位移動單元(2)、裝載下鉻版單元(3 )、可以對位和上下移動單元(4 )、上下鉻版間距檢測的激光探頭(5 )和基于圖像原理的攝像機(6),其特征在于: 所述基座平臺單元(I)設置四個第一 XY平臺(11),分布在基座平臺單元(I)的四個角落,其中三個第一 XY平臺(11)由第一電機(12)驅動,以便與基材靶標對位; 所述可以對位移動單元(2)鋪設在四個第一 XY平臺(11)上面,可以對位移動單元(2)上設置四個第二XY平臺(21),四個第二XY平臺(21)分布在可以對位移動單元(2)的四個角落,其中三個第二 XY平臺(21)由第二電機(22)驅動,以便與上面鉻版的靶標對位;所述可以對位移動單元(2)四個角落還鋪設四根升降絲桿(23),升降絲桿(23)與第三電機(44)連接,其中前面兩根升降絲桿(23)中間鋪設四排滾珠軸承(41); 所述裝載下鉻版單元(3)鋪設在四個第二 XY平臺(21)上面,裝載下鉻版單元(3)上鋪設裝載下鉻版抽格(32),裝載下鉻版抽格(32)上面安裝下鉻版(33),在下鉻版單元(3)的后面設置有兩個限位(31); 所述可以對位和上下移動單元(4)懸掛在四根升降絲桿(23)的中間,跟隨第三電機(44)上下移動,可以對位和上下移動單元(4)下面設置裝載上鉻版抽格(42),裝載上鉻版抽格(42)下面安裝上鉻版(43);可以對位和上下移動單元(4)上面的前后邊上設置四個激光探頭(5),激光探頭(5)由氣缸(51)驅動;可以對位和上下移動單元(4)上面左右側邊上設置四個攝像機(6),攝像機(6)由第四電機(61)控制伸出長度,抓取基材的靶標和上鉻版的靶標進行比較對位。
【文檔編號】G03F7/20GK205691938SQ201620464561
【公開日】2016年11月16日
【申請日】2016年5月22日 公開號201620464561.1, CN 201620464561, CN 205691938 U, CN 205691938U, CN-U-205691938, CN201620464561, CN201620464561.1, CN205691938 U, CN205691938U
【發明人】余燕青, 陳澤強
【申請人】東莞市友輝光電科技有限公司
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